一種新型鈞窯器皿的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種新型鈞窯器皿，所述器皿內(nèi)壁為滿釉，外壁上部為釉面，下部為無釉面，釉面占器皿外壁的三分之一至二分之一，釉面下邊緣有數(shù)個釉滴，釉滴厚度大于釉面厚度。外壁的釉面占外壁的三分之一至二分之一。所述無釉面為粗糙狀胎體。本實用新型所述的鈞窯器皿，內(nèi)壁的滿釉方便了清洗使用，外壁上部的釉面與無釉面形成鮮明的對比，具有很強的藝術(shù)欣賞性，同時設(shè)置的無釉面方便了器皿的搬運。
【專利說明】一種新型鈞窯器皿
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于鈞窯領(lǐng)域，具體涉及一種新型鈞窯器皿。
【背景技術(shù)】
[0002]鈞窯瓷器以其釉質(zhì)乳光瑩潤、釉色五彩斑斕而聞名遐邇，在中國乃至世界陶瓷史上都占有極其重要的地位。鈞瓷釉具有蛋白石的質(zhì)感和光澤，并呈現(xiàn)出一系列深淺不等的藍色，色澤如青瑪瑙和藍寶石般；釉面質(zhì)地細膩，潤滑如玉?，F(xiàn)有的鈞窯瓷器外壁均為施滿釉或者僅在底部不施釉，形狀、結(jié)構(gòu)單一，且光滑的外壁上的釉面極易因為摩擦力小而造成搬運不方便。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型旨在提供一種結(jié)構(gòu)簡單，易于使用，具有藝術(shù)欣賞性的新型鈞窯器皿。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型的技術(shù)方案是:一種新型鈞窯器皿，所述器皿內(nèi)壁為滿釉，所述外壁上部為釉面，下部為無釉面，所述釉面下邊緣有數(shù)個釉滴。
[0005]所述釉面占器皿外壁的三分之一至二分之一。
[0006]所述釉滴厚度大于釉面厚度。
[0007]所述無釉面為粗糙狀胎體。
[0008]本實用新型的有益效果為:1、內(nèi)壁設(shè)置成滿釉方便了清洗，同時具有藝術(shù)欣賞性；
2、外壁的釉面與無釉面具有很強的視覺沖擊性，提高了鈞窯器皿的藝術(shù)欣賞性；3、釉面下邊緣的釉滴增強了釉面的立體感，提高了視覺效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0010]如圖1所示的一種新型鈞窯器皿，所述器皿內(nèi)壁為滿釉，以在使用時方便清洗；所述器皿外壁上部為釉面1，釉面I表面細膩光滑，下部為無釉面3，釉面I與無釉面3形成了鮮明的對比，具有很強的藝術(shù)欣賞性，所述釉面I比無釉面3厚，釉面I占器皿外壁的三分之一，釉面I下邊緣有數(shù)個釉滴2，所述釉滴2為水滴狀，其形成原理為:在燒制過程中，上部釉面受高溫熔融，由于重力作用會在釉面下邊緣流淌堆積若干個水滴狀釉體即為釉滴，釉滴2可以增強器皿的立體效果。無釉面3直接為胎體面，胎體面呈粗糙狀，可直接看出胎體的粗狂紋理，并且由于其有一定的粗糙度，也方便了搬運。
[0011]本實用新型所述新型鈞窯器皿的制作過程中胎土的原料配比為:神屋西寺土65%、匣缽碎片20%、鋁含量80%的鋁礦石15%。
[0012]制作過程為:1、胎土加工，神屋西寺土、匣缽碎片粉碎后加入球磨罐，磨制5小時。球磨罐中材料、水、球磨子的比例為:1:1.3:1.3，鋁礦石被粉碎成0-2mm的顆粒。2、泥料陳腐，磨制后的胎土和粉碎后的鋁礦石混合放入泥料池陳腐，時間為72小時以上。3、泥料排空，陳腐過的泥料經(jīng)練泥機排空，排空壓力0.8以上。4、拉坯成型，排空后的泥條手工拉坯成型。5、泥坯晾曬，拉坯成型的泥坯放置在通風條件較好的環(huán)境下自然晾干，忌太陽直射。
6、素燒，自然晾干的泥坯裝入窯爐燒制至960°c。7、上釉，燒制好的素坯三分之一至二分之一直接蘸鈞釉。8、燒制，蘸過三分之一至二分之一鈞釉的瓷坯再次裝入窯爐燒制至1300°C。
[0013]本實用新型所述的鈞窯器皿，內(nèi)壁的滿釉方便了清洗使用，外壁上部的釉面I與無釉面3形成鮮明的對比，具有很強的藝術(shù)欣賞性，同時設(shè)置無釉面3方便了器皿的搬運。
【權(quán)利要求】
1.一種新型鈞窯器皿，所述器皿內(nèi)壁為滿釉，其特征在于:所述外壁上部為釉面，下部為無釉面，所述釉面下邊緣有數(shù)個釉滴。
2.如權(quán)利要求1所述的新型鈞窯器皿，其特征在于:所述釉面占器皿外壁的三分之一至二分之一。
3.如權(quán)利要求2所述的新型鈞窯器皿，其特征在于:所述釉滴厚度大于釉面厚度。
4.如權(quán)利要求3所述的新型鈞窯器皿，其特征在于:所述無釉面為粗糙狀胎體。
【文檔編號】C04B33/13GK203715516SQ201420112418
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2014年3月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月13日
【發(fā)明者】梅國建 申請人:梅國建