一種節(jié)能玻璃磚及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種節(jié)能玻璃磚及其制備方法，節(jié)能玻璃磚由兩個平行的箱型上玻璃板與下玻璃板通過壓制而成，上玻璃板與下玻璃板鍍有Low-E薄膜，中空腔體填充有部分氣體。制備方法包括：在生產(chǎn)出來的上玻璃板與下玻璃板的內(nèi)壁鍍上一定厚度的低輻射Low-E薄膜，在接近其將要熔融狀態(tài)，采用壓力機(jī)加到適當(dāng)壓力，將上玻璃板與下玻璃板在壓力的作用下熔接成一整塊中空的玻璃磚，取出成型的玻璃磚，利用適當(dāng)?shù)臏囟戎贫冗M(jìn)行退火以消除玻璃磚中的內(nèi)應(yīng)力，即得到玻璃磚。本發(fā)明可大大提高夏季對室外熱量的反射和降低冬季因輻射而造成的室內(nèi)熱能向室外的傳遞，大幅度提高玻璃磚的隔熱保溫性能，達(dá)到理想的節(jié)能效果。
【專利說明】一種節(jié)能玻璃磚及其制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于建筑材料領(lǐng)域，特別涉及一種節(jié)能玻璃磚及其制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002]空心玻璃磚是于1929年由英國圣海倫斯皮爾金頓兄弟有限公司發(fā)明的，時至今日，玻璃磚的生產(chǎn)還是建立在這個原理之上的。空心玻璃磚中空充盈的是空氣，有透光不透明、隔音、隔熱等優(yōu)良的性能，廣泛應(yīng)用于寫字樓、賓館、飯店、醫(yī)院、車站、機(jī)場、體育館、游樂場等公共建筑和民用建筑，幾乎所有的建筑部位都可采用空心玻璃磚，如外墻、浴室、玄關(guān)、大堂、走廊、樓梯、陽臺、隔斷、天花板等。因此無論是公共場所還是私人居室，都可以大量采用，既解決了室內(nèi)的采光，又有裝飾美化和節(jié)能環(huán)保的效果。隨著現(xiàn)代主義建筑的不斷發(fā)展，玻璃磚得到了越來越廣泛的應(yīng)用，其作為一種高貴典雅的綠色建材產(chǎn)品，已在國外風(fēng)靡了近百年。隨著我國國民經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展和人民生活水平的不斷提高，人們對建筑及裝飾裝修材料提出了更高的要求，玻璃磚將被越來越多的消費(fèi)者所認(rèn)可，極具發(fā)展?jié)摿Α?br> [0003]目前，建材行業(yè)正在發(fā)展建筑節(jié)能，實(shí)施低碳理念，玻璃磚得到了越來越廣泛的研究，人們通過各種手段來提高其隔熱、節(jié)能性能，但效果卻不甚理想。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種節(jié)能玻璃磚及其制備方法，該節(jié)能玻璃磚可提高夏季對室外熱量的反射和降低冬季因輻射而造成的室內(nèi)熱能向室外的傳遞，大幅度提高玻璃磚的隔熱保溫性能，達(dá)到理想的節(jié)能效果。
[0005]本發(fā)明的一種節(jié)能玻璃磚，由兩個平行的箱型上玻璃板與下玻璃板通過壓制而成，上玻璃板與下玻璃板鍍有1x^-3薄膜，中空腔體填充有部分氣體。
[0006]所述上玻璃板與下玻璃板的內(nèi)壁、外側(cè)或邊部鍍有1x^-2薄膜。
[0007]所述鍍膜方法不限于在線鍍膜方法，同時也包含離線鍍膜等手段，但以在線鍍膜方法為優(yōu)選。
[0008]所述1x^-3薄膜的厚度為50?20011111，福射系數(shù)為0.25?0.6。
[0009]所述氣體為空氣。
[0010]本發(fā)明的一種節(jié)能玻璃磚的制備方法，包括:
[0011](1)對原料進(jìn)行稱量、混合均勻，于15801下完全熔融后將玻璃液在12501下澄清、均化，經(jīng)冷卻后流入到工作池中；將10301的玻璃液經(jīng)料道均勻滴入到金屬模具中，壓制成型，形成上下半玻璃磚；
[0012](2)將步驟(1)得到的半玻璃磚通過輸送機(jī)輸送到鍍膜工段部，通過在線或離線方法在半玻璃板的表面鍍制一層膜厚為50?20011111、低輻射系數(shù)為0.25?0.6的10界-2膜；
[0013](3)將鍍有1x^-2膜層的兩個半玻璃磚的接觸面溫度升高到6801，施加2.11？3的壓力，使接觸面粘接在一起熔接成空心的玻璃磚，在5501下進(jìn)行2?3小時的退火處理，冷卻、廣品檢驗(yàn)。
[0014]所述步驟(I)中的原料的組成為:Si0268%?78%，CaC035%?15%，Na2CO3與K2CO31 ?20 %，Al2O30.5 % ?3 %。
[0015]所述步驟(I)中的玻璃液的料滴溫度波動不超過±1.5°C，料滴質(zhì)量波動不超過+ 0.5 % ο
[0016]所述步驟(2)中的鍍膜原料的組成為:有機(jī)錫化合物的質(zhì)量百分含量為65?90%，氟化合物的質(zhì)量百分含量為5?30%，其它化合物的質(zhì)量百分含量低于5 %。
[0017]有益.效果
[0018]本發(fā)明由于低輻射膜層具有對可見光高透過及對中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性，在玻璃磚中使用低輻射膜層，可大大提高夏季對室外熱量的反射和降低冬季因輻射而造成的室內(nèi)熱能向室外的傳遞，大幅度提高玻璃磚的隔熱保溫性能，達(dá)到理想的節(jié)能效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]圖1為本發(fā)明節(jié)能玻璃磚的整體示意圖；其中，I為上玻璃板，2為下玻璃板，3和4為內(nèi)壁及側(cè)邊部；
[0020]圖2為本發(fā)明節(jié)能玻璃磚的下半部分示意圖；其中，2為下玻璃板，4為內(nèi)壁及側(cè)邊部。

【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡述本發(fā)明。應(yīng)理解，這些實(shí)施例僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍。此外應(yīng)理解，在閱讀了本發(fā)明講授的內(nèi)容之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對本發(fā)明作各種改動或修改，這些等價形式同樣落于本申請所附權(quán)利要求書所限定的范圍。
[0022]實(shí)施例1
[0023]1、原料的配制:按配方要求對各種原料進(jìn)行稱量、混合均勻，其中原料的組成為:Si0278%, CaC035%, Na2C03+K2C0314%, A12033%o
[0024]2、玻璃熔融:于1580°C下原料完全熔融后將玻璃液在1250°C下澄清、均化，經(jīng)冷卻后流入到工作池中，將溫度降低到所需的工作溫度。
[0025]3、半玻璃板的成型:將溫度為1030°C、料滴溫度波動不超過土 1.5°C、料滴質(zhì)量波動不超過±0.5%的玻璃液經(jīng)料道穩(wěn)定均勻滴入到金屬模具中，利用成型機(jī)械壓制成型，形成上下半玻璃磚。
[0026]4、Low-E膜的鍍制:將得到的半玻璃磚通過輸送機(jī)輸送到鍍膜工段部，通過在線CVD鍍膜法在半玻璃板的表面鍍制一層膜厚為200nm，輻射系數(shù)為0.6的低輻射(Low-E)膜，其中鍍膜原料的組成為:有機(jī)錫化合物的質(zhì)量百分含量為90%，氟化合物的質(zhì)量百分含量為8 %，其它化合物的質(zhì)量百分含量為2 %。
[0027]5、玻璃磚成型:將鍍有Low-E膜層的兩個半玻璃磚的接觸面溫度升高到將要熔融的狀態(tài)^80°C )，對其施加壓力(2.1MPa)，使其接觸面粘接在一起熔接成空心的玻璃磚。
[0028]6、退火:由于玻璃磚在制造過程中幾次使用加壓成型，會在玻璃磚內(nèi)產(chǎn)生比較大的內(nèi)應(yīng)力，所以對生產(chǎn)出來的玻璃磚需要進(jìn)行嚴(yán)格的退火處理。對加工成型的玻璃磚在550°C下進(jìn)行3小時的退火處理，以保證玻璃磚內(nèi)應(yīng)力在可以承受的范圍內(nèi)。
[0029]7、冷卻及產(chǎn)品檢驗(yàn):將退火后的玻璃磚在室溫下進(jìn)行冷卻，并對其氣泡、熔接程度、內(nèi)應(yīng)力等進(jìn)行檢測。
[0030]實(shí)施例2
[0031]1、原料的配制:按配方要求對各種原料進(jìn)行稱量、混合均勻，其中原料的組成為:Si0272%, CaCO3I I %, Na2C03+K2C0315.5%, Al2O3L 5%0
[0032]2、玻璃熔融:于1580°C下原料完全熔融后將玻璃液在1250°C下澄清、均化，經(jīng)冷卻后流入到工作池中，將溫度降低到所需的工作溫度。
[0033]3、半玻璃板的成型:將溫度為1030°C的料滴溫度波動不超過±1.5°C、料滴質(zhì)量波動不超過±0.5%的玻璃液經(jīng)料道穩(wěn)定均勻滴入到金屬模具中，利用成型機(jī)械壓制成型，形成上下半玻璃磚。
[0034]4、Low-E膜的鍍制:將得到的半玻璃磚通過輸送機(jī)輸送到鍍膜工段部，通過在線CVD鍍膜法在半玻璃板的表面鍍制一層膜厚為lOOnm，輻射系數(shù)為0.4的低輻射(Low-E)膜，其中鍍膜原料的組成為:有機(jī)錫化合物的質(zhì)量百分含量為85%，氟化合物的質(zhì)量百分含量為12%，其它化合物的質(zhì)量百分含量為3%。
[0035]5、玻璃磚成型:將鍍有Low-E膜層的兩個半玻璃磚的接觸面溫度升高到將要熔融的狀態(tài)^80°C )，對其施加壓力(2.1MPa)，使其接觸面粘接在一起熔接成空心的玻璃磚。
[0036]6、退火:由于玻璃磚在制造過程中幾次使用加壓成型，會在玻璃磚內(nèi)產(chǎn)生比較大的內(nèi)應(yīng)力，所以對生產(chǎn)出來的玻璃磚需要進(jìn)行嚴(yán)格的退火處理。對加工成型的玻璃磚在550°C下進(jìn)行2.5小時的退火處理，以保證玻璃磚內(nèi)應(yīng)力在可以承受的范圍內(nèi)。
[0037]7、冷卻及產(chǎn)品檢驗(yàn):將退火后的玻璃磚在室溫下進(jìn)行冷卻，并對其氣泡、熔接程度、內(nèi)應(yīng)力等進(jìn)行檢測。
[0038]實(shí)施例3
[0039]1、原料的配制:按配方要求對各種原料進(jìn)行稱量、混合均勻，其中原料的組成為:Si0268 %，CaCO315%，Na2C03+K2C0316.5 %，Al2O30.5 %。
[0040]2、玻璃熔融:于1580°C下原料完全熔融后將玻璃液在1250°C下澄清、均化，經(jīng)冷卻后流入到工作池中，將溫度降低到所需的工作溫度。
[0041]3、半玻璃板的成型:將溫度為1030°C的料滴溫度波動不超過±1.5°C、料滴質(zhì)量波動不超過±0.5%的玻璃液經(jīng)料道穩(wěn)定均勻滴入到金屬模具中，利用成型機(jī)械壓制成型，形成上下半玻璃磚。
[0042]4、Low-E膜的鍍制:將得到的半玻璃磚通過輸送機(jī)輸送到鍍膜工段部，通過在線CVD鍍膜法在半玻璃板的表面鍍制一層膜厚為50nm，輻射系數(shù)為0.25的低輻射(Low-E)膜，其中鍍膜原料的組成為:有機(jī)錫化合物的質(zhì)量百分含量為820%，氟化合物的質(zhì)量百分含量為16%，其它化合物的質(zhì)量百分含量為4%。
[0043]5、玻璃磚成型:將鍍有Low-E膜層的兩個半玻璃磚的接觸面溫度升高到將要熔融的狀態(tài)^80°C )，對其施加壓力(2.1MPa)，使其接觸面粘接在一起熔接成空心的玻璃磚。
[0044]6、退火:由于玻璃磚在制造過程中幾次使用加壓成型，會在玻璃磚內(nèi)產(chǎn)生比較大的內(nèi)應(yīng)力，所以對生產(chǎn)出來的玻璃磚需要進(jìn)行嚴(yán)格的退火處理。對加工成型的玻璃磚在550°C下進(jìn)行2小時的退火處理，以保證玻璃磚內(nèi)應(yīng)力在可以承受的范圍內(nèi)。
[0045]7、冷卻及產(chǎn)品檢驗(yàn):將退火后的玻璃磚在室溫下進(jìn)行冷卻，并對其氣泡、熔接程度、內(nèi)應(yīng)力等進(jìn)行檢測。
【權(quán)利要求】
1.一種節(jié)能玻璃磚，其特征在于:由兩個平行的箱型上玻璃板與下玻璃板通過壓制而成，上玻璃板與下玻璃板鍍有Low-E薄膜,中空腔體填充有部分氣體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種節(jié)能玻璃磚，其特征在于:所述上玻璃板與下玻璃板的內(nèi)壁、外側(cè)或邊部鍍有Low-E薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種節(jié)能玻璃磚，其特征在于:所述鍍膜方法為在線CVD鍍膜或離線鍍膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種節(jié)能玻璃磚，其特征在于:所述Low-E薄膜的厚度為50?200nm，輻射系數(shù)為0.25?0.6。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種節(jié)能玻璃磚，其特征在于:所述氣體為空氣。
6.一種節(jié)能玻璃磚的制備方法，包括: (1)對原料進(jìn)行稱量、混合均勻，于1580°C下完全熔融后將玻璃液在1250°C下澄清、均化，經(jīng)冷卻后流入到工作池中；將1030°C的玻璃液經(jīng)料道均勻滴入到金屬模具中，壓制成型，形成上下半玻璃磚； (2)將步驟(I)得到的半玻璃磚通過輸送機(jī)輸送到鍍膜工段部，通過在線或離線方法在半玻璃板的表面鍍制一層膜厚為50?200nm、低輻射系數(shù)為0.25?0.6的Low-E膜； (3)將鍍有Low-E膜層的兩個半玻璃磚的接觸面溫度升高到680°C，施加2.1MPa的壓力，使接觸面粘接在一起熔接成空心的玻璃磚，在550°C下進(jìn)行2?3小時的退火處理，冷卻、廣品檢驗(yàn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種節(jié)能玻璃磚的制備方法，其特征在于:所述步驟(I)中的原料的組成為:Si0268 % ?78 %，CaC035 % ?15 %，Na2CO3 與 K2CO31 ?20 %，Al2O30.5 % ?3%。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種節(jié)能玻璃磚的制備方法，其特征在于:所述步驟(I)中的玻璃液的料滴溫度波動不超過±1.5°C，料滴質(zhì)量波動不超過±0.5%。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種節(jié)能玻璃磚的制備方法，其特征在于:所述步驟(2)中的鍍膜原料的組成為:有機(jī)錫化合物的質(zhì)量百分含量為65?90%，氟化合物的質(zhì)量百分含量為5?30%，其它化合物的質(zhì)量百分含量低于5%。
【文檔編號】E04B1/78GK104294992SQ201410552958
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年10月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月17日
【發(fā)明者】戴俊慧 申請人:寧波華爾克應(yīng)用材料有限公司