一種防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤，所述涂布機(jī)包括一固定座，所述固定座上設(shè)有一轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸上設(shè)有用于承載玻璃基板的所述托盤，根據(jù)所述玻璃基板與所述托盤之間的摩擦程度，將所述托盤按圓周劃分為復(fù)數(shù)個(gè)區(qū)域，并對該復(fù)數(shù)個(gè)區(qū)域設(shè)置不同的表面粗糙度。通過增加玻璃基板與托盤之間摩擦較多區(qū)域的表面粗糙度，減少托盤與玻璃基板的接觸面積，避免玻璃黏片。降低了托盤的更換率，延長了托盤的使用壽命，節(jié)約了成本。
【專利說明】一種防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明關(guān)于一種涂布機(jī)托盤，尤其是指一種防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體行業(yè)的制程工藝中，旋轉(zhuǎn)式涂布機(jī)(spin type coater)是光刻過程的一種必不可少的設(shè)備，結(jié)合圖1所不,涂布機(jī)主要包括一固定座50,固定座50上設(shè)有一轉(zhuǎn)軸60，轉(zhuǎn)軸60上設(shè)有一涂布機(jī)托盤(coater chuck)70，在光刻過程中，將玻璃基板80放置在托盤70上進(jìn)行光刻，光刻完成后，通過機(jī)械部件90將玻璃基板80向上托舉脫離托盤70后，再進(jìn)行下一步的工藝步驟。
[0003]但是，設(shè)備商在制作涂布機(jī)托盤時(shí)，為避免托盤70與玻璃基板80之間發(fā)生黏片的情況，會(huì)在托盤70上設(shè)置具有一定粗糙度的表面，以減小托盤70與玻璃基板80的接觸面積從而避免黏片。但是，在現(xiàn)有技術(shù)中托盤70的整個(gè)表面粗糙度設(shè)置的皆一致。結(jié)合圖2、圖3所示，托盤70承載玻璃基板80時(shí)間久后會(huì)造成托盤70的表面粗糙度變差，尤其是玻璃基板80與托盤70摩擦較多的地方(一般為如圖2中所示的托盤中心區(qū)域)，托盤70的表面會(huì)變的較平整，造成玻璃基板80與托盤70的接觸面積增加，從而造成當(dāng)機(jī)械部件90將玻璃基板80向上托舉脫離托盤70時(shí)表面容易產(chǎn)生黏片，導(dǎo)致玻璃基板80的位置發(fā)生偏移，造成傳送異常而破片。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于上述問題，本發(fā)明提供了一種防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤，所述涂布機(jī)包括一固定座，所述固定座上設(shè)有一轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸上設(shè)有用于承載玻璃基板的所述托盤，根據(jù)所述玻璃基板與所述托盤之間的摩擦程度，將所述托盤按圓周劃分為復(fù)數(shù)個(gè)區(qū)域，并對該復(fù)數(shù)個(gè)區(qū)域設(shè)置不同的表面粗糙度。
[0005]本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)在于，將所述托盤劃分為內(nèi)圈和外圈兩個(gè)區(qū)域。
[0006]本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述內(nèi)圈與所述外圈的面積之比為1:3。
[0007]本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述內(nèi)圈的表面粗糙度為2~3μπι，所述外圈的表面粗糙度為I~2 μ m。
[0008]本發(fā)明的防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤，根據(jù)玻璃基板與托盤之間的摩擦程度，將托盤按圓周劃分為復(fù)數(shù)個(gè)區(qū)域，并對該復(fù)數(shù)個(gè)區(qū)域設(shè)置不同的表面粗糙度。通過增加玻璃基板與托盤之間摩擦較多區(qū)域的表面粗糙度，減少托盤與玻璃基板的接觸面積，避免玻璃黏片。降低了托盤的更換率，延長了托盤的使用壽命，節(jié)約了成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中涂布機(jī)的托盤與玻璃基板的連接示意圖。
[0010]圖2是現(xiàn)有技術(shù)中玻璃基板脫離托盤時(shí)的示意圖。
[0011]圖3是現(xiàn)有技術(shù)中玻璃基板黏片后位置發(fā)生偏移的示意圖。[0012]圖4是本發(fā)明的防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤的一種實(shí)施例示意圖。
[0013]圖5是本發(fā)明的防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0015]配合參看圖4所示，是本發(fā)明的防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤10的一較佳實(shí)施例，其中涂布機(jī)包括一固定座50，固定座50上設(shè)有一轉(zhuǎn)軸60，轉(zhuǎn)軸60上設(shè)有用于承載玻璃基板80的本發(fā)明的防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤10，根據(jù)玻璃基板80與托盤10之間的摩擦程度，將托盤10按圓周劃分為復(fù)數(shù)個(gè)區(qū)域，并對該復(fù)數(shù)個(gè)區(qū)域設(shè)置不同的表面粗糙度。增加其中玻璃基板80與托盤10之間摩擦較多區(qū)域的表面粗糙度，減少托盤10與玻璃基板80的接觸面積，避免玻璃基板80發(fā)生黏片。
[0016]配合參看圖5所示，本發(fā)明的防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤10劃分為內(nèi)圈20和外圈30兩個(gè)區(qū)域。所述內(nèi)圈20與所述外圈30的面積之比為1:3。所述內(nèi)圈20與玻璃基板80之間的摩擦程度比所述外圈30與玻璃基板80之間的摩擦程度高，所以將所述內(nèi)圈20的表面粗糙度設(shè)置為2~3 μ m，將所述外圈30的表面粗糙度設(shè)置為I~2 μ m。
[0017]以上所述僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對本發(fā)明做任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤，所述涂布機(jī)包括一固定座，所述固定座上設(shè)有一轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸上設(shè)有用于承載玻璃基板的所述托盤，其特征在于根據(jù)所述玻璃基板與所述托盤之間的摩擦程度，將所述托盤按圓周劃分為復(fù)數(shù)個(gè)區(qū)域，并對該復(fù)數(shù)個(gè)區(qū)域設(shè)置不同的表面粗糙度。
2.如權(quán)利要求1所述的防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤，其特征在于將所述托盤劃分為內(nèi)圈和外圈兩個(gè)區(qū)域。
3.如權(quán)利要求2所述的防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤，其特征在于所述內(nèi)圈與所述外圈的面積之比為1:3。
4.如權(quán)利要求2或3所述的防止玻璃黏片的涂布機(jī)托盤，其特征在于所述內(nèi)圈的表面粗糙度為2~3 μ m，所述外圈的表面粗糙度為1~2 μ m。
【文檔編號(hào)】C03C17/00GK103922606SQ201410139361
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2014年4月9日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月9日
【發(fā)明者】林永富, 鄭憲鴻, 吳韋良 申請人:上海和輝光電有限公司