高擴(kuò)散反射釉藥層和耐污染釉藥層及制造其的釉藥組成物的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種可以用于實(shí)現(xiàn)高擴(kuò)散反射性優(yōu)良且進(jìn)一步具備耐污染性的釉藥層的釉藥組成物，以及具有通過該組合物得到的釉藥層的構(gòu)件。上述釉藥組合物是一種包括含鋯元素的玻璃料和硅酸鋯粒子的釉藥組成物，其特征在于，上述玻璃料中上述鋯元素的量，以ZrO2換算，為1.0質(zhì)量％以上15質(zhì)量％以下，上述硅酸鋯粒子的平均粒徑為0.4μm以上5μm以下；由該釉藥組成物所形成的釉藥層，可以在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)有效地使光以廣角擴(kuò)散。而且，兼具不易沾染污垢且一旦變臟也可以輕易除去污垢的性質(zhì)。
【專利說明】高擴(kuò)散反射釉藥層和耐污染釉藥層及制造其的釉藥組成物
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種釉藥組成物，具體是涉及一種用于在耐熱基材，例如在建筑物的墻體材料的表面上形成釉藥層的釉藥組成物，以及具有通過該釉藥組成物而形成的釉藥層的建材。
【背景技術(shù)】
[0002]能夠使可見光擴(kuò)散、反射，并且使其表面和周圍看起來更明亮的構(gòu)件，特別是建材，例如當(dāng)在室內(nèi)使用該構(gòu)件時(shí)，即使照明很少也可以使室內(nèi)感覺到明亮。其結(jié)果是可節(jié)省照明能源的成本。進(jìn)一步，優(yōu)選易于除去污垢的建材。作為使光以廣角進(jìn)行反射的手段，可以考慮將表面制作成凸凹形狀，然而從該表面的凹凸會(huì)污染的角度來看，其不是一般優(yōu)選的形狀。
[0003]特開2011-226156號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)I)公開了一種可以輔助室內(nèi)光的擴(kuò)散，并通過更少的照明數(shù)來維持或提高照度的瓷磚。在這里，通過含有大量α-氧化鋁且白色度較高的坯體，使可見光的反射率達(dá)到70%以上。另外，特開2010-255188號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)2)記載了一種在瓷磚基材表面形成多個(gè)凸凹部，進(jìn)而施加白色釉的光廣角反射瓷磚。上述任何一項(xiàng)都是關(guān)于基材表面的組成或形狀的建議。
[0004]另一方面，眾所周知，為了提高釉藥層的白色度，可以添加硅酸鋯等粒子。由于粒子不吸收可見光所以白色度變高。 [0005]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)1:特開2011-226156號(hào)公報(bào)
[0008]專利文獻(xiàn)2:特開2010-255188號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明要解決的問題
[0010]本
【發(fā)明者】現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)，在包括含有鋯元素的玻璃料和硅酸鋯粒子的釉藥組成物中，通過將鋯元素量和硅酸鋯粒子的粒徑設(shè)定在特定范圍內(nèi)，可以實(shí)現(xiàn)高擴(kuò)散反射性優(yōu)良且進(jìn)一步具有耐污染性的釉藥層。本發(fā)明的第一實(shí)施方式是基于該發(fā)現(xiàn)所得到的。
[0011]因此，本發(fā)明的第一實(shí)施方式的目的在于提供一種可以實(shí)現(xiàn)高擴(kuò)散反射性優(yōu)良且進(jìn)一步具有耐污染性的釉藥層的釉藥組成物。
[0012]進(jìn)一步，本發(fā)明的第一實(shí)施方式的目的在于提供一種具有釉藥層的構(gòu)件，其中，上述釉藥層是通過本發(fā)明第一實(shí)施方式的釉藥組成物而得到的。
[0013]而且，本
【發(fā)明者】這次發(fā)現(xiàn)，在包括含有鋯元素的玻璃料和硅酸鋯粒子的釉藥組成物中，通過將鋯元素量和硅酸鋯粒子的粒徑設(shè)定在特定范圍內(nèi)，可以實(shí)現(xiàn)高擴(kuò)散反射性優(yōu)良的釉藥層。本發(fā)明的第二實(shí)施方式是基于該發(fā)現(xiàn)所得到的。
[0014]因此，本發(fā)明的第二實(shí)施方式的目的在于提供一種具有高擴(kuò)散反射性優(yōu)良的釉藥層的構(gòu)件。
[0015]進(jìn)一步，本發(fā)明的第二實(shí)施方式的目的在于提供一種本發(fā)明第二實(shí)施方式的構(gòu)件的制造方法。
[0016]解決問題的方法
[0017]根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的釉藥組成物，其特征在于，其為包括含有鋯元素的玻璃料和硅酸鋯粒子的釉藥組成物，上述玻璃料中上述鋯元素的量，以ZrO2換算，為1.0質(zhì)量％以上15質(zhì)量％以下,上述娃酸錯(cuò)粒子的平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下。
[0018]另外，根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的構(gòu)件，其特征在于，其為在基材的至少一面上形成有釉藥層的構(gòu)件，上述釉藥層含有玻璃質(zhì)成分和硅酸鋯粒子；上述硅酸鋯粒子由粒徑為0.3 μ m以下的粒子、 以及粒徑超過0.3 μ m且平均粒徑在0.4 μ m以上5 μ m以下范圍的粒子組成。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的構(gòu)件，其特征在于，其為具有基材、以及在上述基材上的釉藥層的構(gòu)件；
[0020]上述釉藥層至少由第一釉藥層和位于該第一釉藥層上的第二釉藥層構(gòu)成；
[0021]上述第一釉藥層含有白色無機(jī)氧化物粒子和玻璃質(zhì)成分；其中，上述白色無機(jī)氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下；
[0022]上述第二釉藥層含有粒徑為0.3μπι以下的硅酸鋯粒子、上述定義的白色無機(jī)氧化物粒子和玻璃質(zhì)成分。
[0023]進(jìn)一步，根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式所述構(gòu)件的制造方法，其特征在于，在基材上使用至少含有白色無機(jī)氧化物粒子和玻璃料的釉藥組成物，其中，上述白色無機(jī)氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒子徑為0.4 μ m以上5 μ m以下；在其上使用包括含有鋯元素的玻璃料和上述定義的白色無機(jī)酸化物粒子的釉藥組成物，之后燒制形成釉藥層。
[0024]發(fā)明的效果
[0025]根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式，提供了一種能夠形成高擴(kuò)散反射性優(yōu)良且進(jìn)一步具備耐污染性的釉藥層的釉藥組成物。
[0026]根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式，提供了一種具備高擴(kuò)散反射性優(yōu)良的釉藥層的構(gòu)件。
【具體實(shí)施方式】
[0027]定義
[0028]本說明書中，所謂“粒子的平均粒徑”，是通過掃描型電子顯微鏡在倍率5000倍下觀察50個(gè)粒子，按照?qǐng)A形近似求得直徑，然后以個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)計(jì)算該直徑的中值粒徑(即，累積分布中50%的直徑:D50)。釉藥組成物中的粒徑，是通過將組成物的干燥物按上述條件而求得的值，釉藥層中的粒徑，是通過將在其斷面上觀察到的粒子按上述條件而求得的值。
[0029]本發(fā)明的第一實(shí)施方式
[0030]釉藥組成物
[0031]根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的釉藥層組成物，包括含鋯元素的玻璃料和硅酸鋯粒子。
[0032]在本實(shí)施方式的玻璃料，以ZrO2換算，是一種含有1.0質(zhì)量％以上15質(zhì)量％以下的錯(cuò)元素的玻璃料，優(yōu)選是一種含有1.2質(zhì)量％以上10質(zhì)量％以下的錯(cuò)元素的玻璃料。根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，玻璃料為鋯石乳濁玻璃料。在本實(shí)施方式中，如果燒制含有上述量的鋯的玻璃料，可以在玻璃質(zhì)的基質(zhì)中析出硅酸鋯的微結(jié)晶。根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，該微結(jié)晶的粒徑為超過Oym且在0.3 μ m以下。
[0033]在本實(shí)施方式中，硅酸鋯粒子是平均粒徑為0.4μπι以上5μπι以下的粒子。平均粒徑優(yōu)選0.4μπι以上2.0ym以下。更優(yōu)選的平均粒徑的范圍是0.4 μ m以上l.0ym以下。
[0034]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，玻璃料中的鋯元素的量，以ZrO2換算，相對(duì)于釉藥組成物的固體含量，優(yōu)選為I質(zhì)量％以上7質(zhì)量％以下，更優(yōu)選2質(zhì)量％以上5質(zhì)量％以下。
[0035]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，硅酸鋯粒子的量，相對(duì)于釉藥組成物的固體含量，優(yōu)選為I質(zhì)量％以上30質(zhì)量％以下,更優(yōu)選10質(zhì)量％以上20質(zhì)量％以下。
[0036]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，本實(shí)施方式的釉藥組成物，進(jìn)一步包含平均粒徑為I μ m以上IOym以下、并且由選自氧化鋁、硅砂、滑石以及氫氧化鋁的成分所構(gòu)成的無機(jī)粒子中的至少一種。由于添加這些無機(jī)粒子，可以得到能夠抑制釉藥層表面光澤的效果，因此，在質(zhì)感上可實(shí)現(xiàn)多樣的外觀。特別是，由于氧化鋁的折光率相對(duì)較高，所以這種效果非常顯著。
[0037]本實(shí)施方式的釉藥組成物為粉體、或分散在水中的漿料形態(tài)。漿料形態(tài)的釉藥組成物，可以通過將硅酸鋯粒子及玻璃料、進(jìn)一步根據(jù)情況與無機(jī)粒子混合之后，添加水并用研磨機(jī)粉碎成漿料來制作。還可以通過噴霧干燥等使?jié){料顆粒化來制作粉體的釉藥組成物。
[0038]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，在所形成的釉藥層中，優(yōu)選的釉藥組成物的Fe元素含量，以Fe2O3換算，超過O且在0.1質(zhì)量％以下。通過將鐵的含量設(shè)定為這樣的低數(shù)值，消除了由鐵元素引起的對(duì)可見光的吸收，從而能夠?qū)崿F(xiàn)更高的擴(kuò)散反射。釉藥層
[0039]根據(jù)本實(shí)施方式的釉藥組成物形成的釉藥層，其特征在于，其燒制的結(jié)果為含有玻璃質(zhì)成分和硅酸鋯粒子；硅酸鋯粒子是由粒徑為0.3μπι以下的粒子、以及粒徑超過
0.3 μ m且平均粒徑在0.4 μ m以上5 μ m以下范圍內(nèi)的粒子所組成。
[0040]在本實(shí)施方式中，如上所述，如果燒制含鋯的玻璃料，玻璃質(zhì)基質(zhì)中會(huì)析出硅酸鋯的微結(jié)晶，該微結(jié)晶粒徑優(yōu)選為0.3μπι以下。該析出的微結(jié)晶，變成由本實(shí)施方式的組成物所形成的釉藥層中的粒徑為0.3 μ m以下的硅酸鋯粒子。
[0041] 由本實(shí)施方式的釉藥組成物所形成的釉藥層，擴(kuò)散反射性優(yōu)良并且進(jìn)一步具備耐污染性。獲得這些良好性質(zhì)的原因雖然還不確定，但我們認(rèn)為原因如下。在本實(shí)施方式的釉藥組成物所形成的釉藥層中，除了添加到釉藥組成物中的硅酸鋯粒子，還存在燒制時(shí)從含鋯的玻璃料中析出的硅酸鋯粒子。后者比前者的粒徑要小。其結(jié)果是，較大粒子和較小粒子共存于釉藥層中，這樣就可以在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)有效地使光以廣角擴(kuò)散。也就是說，在光進(jìn)行擴(kuò)散時(shí)，利用了釉藥層的深度方向的構(gòu)造。具體地，由于可見光射入到層的內(nèi)部，根據(jù)粒徑的不同發(fā)生不同的反射、散射，由此獲得了高擴(kuò)散反射性。一般情況下，如果通過添加粒子進(jìn)行光的擴(kuò)散反射，這些粒子在釉藥的表面會(huì)形成凸凹，由于污垢會(huì)聚積在凸凹部分，所以從防污這一點(diǎn)來看是不利的。本實(shí)施方式中，形成的釉藥層的表面為玻璃質(zhì)，其內(nèi)部存在上述兩種粒徑的粒子。這種存在形態(tài)，可以通過控制添加到釉藥組成物中的硅酸鋯粒子的粒徑以及玻璃料中的鋯含量來實(shí)現(xiàn)。玻璃質(zhì)的表面平滑，不易附著污垢，而且即使附著了污垢也很容易去除。
[0042]具有釉藥層的構(gòu)件
[0043]根據(jù)本實(shí)施方式，提供了一種具有由上述釉藥組成物所形成的釉藥層的構(gòu)件。根據(jù)本實(shí)施方式的釉藥組成物，在制膜性方面良好，與一般的釉藥組成物沒有差別，因此，這個(gè)構(gòu)件的釉藥層的形成，可通過將釉藥組成物形成釉藥層的一般方法，手法來進(jìn)行。因此，通過在基材上使用本實(shí)施方式的釉藥組成物，適當(dāng)干燥之后并進(jìn)行燒制，就可以得到具有釉藥層的構(gòu)件?？梢酝ㄟ^層壓粉體的方法、涂覆漿料等方法使用釉藥組成物。此外，燒制溫度優(yōu)選在1000°C以上1300°c以下進(jìn)行，燒制之后進(jìn)行自然冷卻或緩冷。
[0044]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，優(yōu)選在通過在基材上使用與本實(shí)施方式的釉藥組成物不同的釉藥組成物形成釉藥層的表面上，設(shè)置用本實(shí)施方式的組合物所形成的釉藥層，從而形成兩層釉藥層。盡管形成的第一層釉藥層的第一釉藥組成物沒有特別的限定，為了進(jìn)一步提高高擴(kuò)散反射性，優(yōu)選含無機(jī)粒子和/或硅酸鋯粒子且為白色的層。作為第一釉藥組成物的優(yōu)選實(shí)施方式，可列舉由通過將玻璃料、陶石、滑石、高嶺土、長(zhǎng)石等中的多個(gè)進(jìn)行組合，并且進(jìn)一步添加了無機(jī)粒子、硅酸鋯粒子和/或乳濁劑的釉藥組成物所形成的釉藥層。作為其他的優(yōu)選實(shí)施方式，可列舉出，通過本實(shí)施方式的釉藥組成物形成兩層釉藥層。
[0045]在上述形成了兩層釉藥層的實(shí)施方式中，雖然可以適當(dāng)?shù)貨Q定釉藥層的膜厚，但是優(yōu)選第一層和第二層都在0.2mm以上0.8mm以下的范圍內(nèi)。
[0046]本發(fā)明的第二實(shí)施方式
[0047]本實(shí)施方式 的構(gòu)件
[0048]根據(jù)本實(shí)施方式，提供了一種具備基材以及位于上述基材上的釉藥層的構(gòu)件，其中，上述釉藥層至少由第一釉藥層以及位于該第一釉藥層上的第二釉藥層組成。
[0049]第一釉藥層
[0050]在本實(shí)施方式中，第一釉藥層含有白色無機(jī)氧化物粒子和玻璃質(zhì)成分，上述無機(jī)氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒子徑為0.4 μ m以上5 μ m以下。
[0051]在第一釉藥層中，白色無機(jī)氧化物粒子優(yōu)選為選自由硅酸鋯(折光率2)、氧化鋯(折光率2.4)、以及氧化鋁(折光率1.76)組成的群組中的至少一種。這些成分比玻璃質(zhì)成分折光率高，而且由于在釉藥層中存在具有粒徑為可見光波長(zhǎng)的約1/2~2倍的粒子，所以可以增強(qiáng)可見光的散射，因此優(yōu)選利用這些成分。
[0052]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，平均粒徑為0.4μ m以上5 μ m以下的白色無機(jī)氧化物粒子為硅酸鋯粒子，其平均粒徑優(yōu)選0.4μπι以上2.0μπι以下。進(jìn)一步優(yōu)選平均粒徑范圍為0.4 μ m以上Ι.Ομηι以下。
[0053]在本實(shí)施方式中，第一釉藥層中所含的玻璃質(zhì)成分是由在釉藥組成物中經(jīng)燒制形成玻璃質(zhì)的原料形成的。具體地，在釉藥組成物中添加玻璃料，燒制后作為玻璃質(zhì)成分。作為經(jīng)燒制形成玻璃質(zhì)的原料，可列舉出陶石、滑石、高嶺土、長(zhǎng)石等，也可使用這些物質(zhì)的多種組合。進(jìn)一步，還可以含有乳濁劑等。
[0054]第二釉藥層
[0055]在本實(shí)施方式中，第二釉藥層包含粒徑為0.3μπι以下的硅酸鋯粒子、上述定義的白色無機(jī)氧化物粒子和玻璃質(zhì)成分。在本實(shí)施方式中，粒徑為0.3 μ m以下的硅酸鋯粒子優(yōu)選為將玻璃料進(jìn)行燒制而析出的微結(jié)晶；上述玻璃料，以ZrO2換算，含有1.0質(zhì)量％以上15質(zhì)量％以下的錯(cuò)元素,優(yōu)選含有1.2質(zhì)量％以上10%質(zhì)量以下的錯(cuò)元素。如果燒制含有上述量的鋯的玻璃料，則玻璃質(zhì)基質(zhì)中所生成的硅酸鋯的微結(jié)晶的粒徑超過O μ m且在0.3 μ m以下。
[0056]在本實(shí)施方式中，第二釉藥層含有的白色無機(jī)氧化物粒子以及玻璃質(zhì)成分也可以與第一釉藥層中所說明的物質(zhì)相同。因此，在第二釉藥層中，作為白色無機(jī)氧化物粒子，可以含有選自由硅酸鋯、氧化鋯以及氧化鋁構(gòu)成的群組中的至少一種。此處，白色無機(jī)氧化物粒子的粒徑與上述第一釉藥層相同，其平均粒徑優(yōu)選0.4 μ m以上5 μ m以下，更優(yōu)選0.4 μ m以上I μ m以下。
[0057]在本實(shí)施方式中，相對(duì)于第二釉藥層，上述白色無機(jī)氧化物粒子的含量為I質(zhì)量％以上40質(zhì)量％以下，優(yōu)選10質(zhì)量％以上30質(zhì)量％以下，更優(yōu)選25質(zhì)量％以上30%以下。通過將白色無機(jī)氧化物粒子的量控制在上述范圍內(nèi)，可以得到優(yōu)良的光擴(kuò)散反射性。
[0058]在本實(shí)施方式中，第一和第二釉藥層的膜厚雖然可以適當(dāng)?shù)貨Q定，但是優(yōu)選第一層和第二層都在0.2mm以上0.8mm以下的范圍。
[0059]根據(jù)本實(shí)施方式的構(gòu)件具有優(yōu)良的高擴(kuò)散反射性。獲得該良好性質(zhì)的理由雖然不能確定，但我們認(rèn)為原因如下。根據(jù)本實(shí)施方式的構(gòu)件所具有的釉藥層中，除了白色無機(jī)氧化物粒子，還存在燒制時(shí)從含鋯的玻璃料中析出的硅酸鋯粒子。后者比前者的粒徑要小。其結(jié)果是，較大粒子和較小粒子共存于釉藥層中，這樣就可以在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)有效地使光以廣角擴(kuò)散。也就是說，在光進(jìn)行擴(kuò)散時(shí)，利用了釉藥層的深度方向的構(gòu)造。具體地，由于可見光射入到層的內(nèi)部，根據(jù)粒徑的不同發(fā)生不同的反射、散射，因此獲得了高擴(kuò)散反射性。進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，在第二釉藥層，也就是靠近光射入表面的一側(cè)，存在粒徑為0.3μL?以下的硅酸鋯粒子。因此，該微結(jié)晶可以高效地使入射光進(jìn)行反射、散射。
[0060]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，在第一釉藥層或上述第二釉藥層中，F(xiàn)e元素含量，以Fe2O3換算，為超過O且在0.1質(zhì)量％以下。通過將鐵的含量設(shè)定為這樣的低數(shù)值，消除了由鐵元素引起的對(duì)可見光的吸收，從而能夠?qū)崿F(xiàn)更高的擴(kuò)散反射。
[0061]制造方法
[0062]根據(jù)本實(shí)施方式的構(gòu)件，優(yōu)選按以下工序制造。即，在基材上使用至少含有白色無機(jī)氧化物粒子和玻璃料的釉藥組成物(以下，稱“第一釉藥組成物”)，其中，上述白色無機(jī)氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒子徑為0.4 μ m以上5μπι以下。接下來，在此基礎(chǔ)上，使用包括含鋯元素的玻璃料、以及上述定義的白色無機(jī)氧化物粒子的釉藥組成物(以下，稱“第二釉藥組成物”)，之后通過燒制形成釉藥層。
[0063]在本實(shí)施方式中，第一釉藥組成物為至少含有白色無機(jī)氧化物粒子和玻璃料成分的組成物。也可以是通過在玻璃料中以多種組合的形式添加陶石，滑石，高嶺土，長(zhǎng)石等，并進(jìn)一步添加無機(jī)氧化粒子、懸濁劑等而形成的釉藥組成物。
[0064]在本實(shí)施方式中，第二釉藥組成物包括含鋯元素的玻璃料、以及上述定義的白色無機(jī)氧化物粒子。根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，用于形成該第二釉藥層的釉藥組成物的組成如下所述。
[0065]在本實(shí)施方式中，第二釉藥組成物所含的玻璃料，以ZrO2換算，為含有1.0質(zhì)量％以上15質(zhì)量％以下的錯(cuò)元素的玻璃料,優(yōu)選為含有1.2質(zhì)量％以上10質(zhì)量％以下的錯(cuò)元素的玻璃料。在本實(shí)施方式中，只要是含有上述上述范圍內(nèi)的鋯元素的玻璃料，沒有特別限定，根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，玻璃料是鋯石乳濁玻璃料。在本實(shí)施方式中，如果燒制含有上述量的鋯元素的玻璃料，可以在玻璃質(zhì)基質(zhì)中析出硅酸鋯的微結(jié)晶。根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，該微結(jié)晶的粒徑為0.3 μ m以下。
[0066]在本實(shí)施方式中，第二釉藥組成物含有的白色無機(jī)氧化物粒子，選自由上述硅酸鋯、氧化鋯以及氧化鋁所構(gòu)成的群組中的至少一種。根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，白色無機(jī)氧化物粒子是硅酸鋯。
[0067]在本實(shí)施方式中，當(dāng)?shù)诙运幗M成物含有硅酸鋯粒子時(shí)，該粒子是平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下的粒子。更優(yōu)選平均粒徑為0.4 μ m以上2.0 μ m以下。進(jìn)一步優(yōu)選的平均粒子徑范圍是0.4μπι以上Ι.Ομπι以下。
[0068]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，第二釉藥組成物中玻璃料的鋯元素的量，相對(duì)于釉藥組成物的固體含量，以ZrO2換算,優(yōu)選I質(zhì)量％以上7質(zhì)量％以下,更優(yōu)選2質(zhì)量％以上5質(zhì)量％以下。
[0069]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，第二釉藥組成物中白色無機(jī)氧化物粒子的量，相對(duì)于釉藥組成物的固體含量，優(yōu)選I質(zhì)量％以上40質(zhì)量％以下,更優(yōu)選10質(zhì)量％以上30質(zhì)量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選10質(zhì)量％以上20質(zhì)量％以下。 [0070]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，第二釉藥組成物，進(jìn)一步含有平均粒徑為Iym以上10 μ m以下、并且由選自鋯石，硅砂，滑石以及氫氧化鋁的成分所組成的無機(jī)粒子中的至少一種。由于添加這些無機(jī)粒子，可得到能夠抑制釉藥層表面光澤的效果，因此，在質(zhì)感上可實(shí)現(xiàn)多樣的外觀。特別是，由于氧化鋁的折光率相對(duì)較高，所以這種效果非常顯著。
[0071]在本實(shí)施方式中，第一和第二釉藥組成物為粉體、或分散在水中的漿料形態(tài)。漿料形態(tài)的釉藥組成物，可以通過將硅酸鋯粒子及玻璃料、進(jìn)一步根據(jù)情況與無機(jī)粒子混合之后，添加水并用研磨機(jī)粉碎成漿料來制作。還可以通過噴霧干燥等使?jié){料顆?；瘉碇谱鞣垠w的釉藥組成物。
[0072]在本實(shí)施方式中，通過在基材上使用第一釉藥組成物，適當(dāng)干燥之后，在其上進(jìn)一步使用第二釉藥組成物，隨后進(jìn)行燒制，得到本實(shí)施方式的構(gòu)件。釉藥組成物的使用，可通過層壓粉體的方法、涂覆漿料等方法來進(jìn)行。此外，燒制溫度優(yōu)選在1000°C以上1300°C以下進(jìn)行，燒制之后進(jìn)行自然冷卻或緩冷。
[0073]光催化劑層
[0074]本發(fā)明的第一實(shí)施方式及第二實(shí)施方式，根據(jù)其優(yōu)選的實(shí)施方式，在通過本發(fā)明的釉藥組成物所形成的釉藥層上，可以進(jìn)一步形成光催化劑層。由此，可以賦予構(gòu)件有害物質(zhì)分解性、抗菌性或親水性。為了防止擴(kuò)散反射性降低，光催化劑層優(yōu)選是透明的，厚度在IOOnm以下,且呈島狀分散。
[0075]另外，在通過本發(fā)明的釉藥組成物所形成的釉藥層上，也可以在不損害擴(kuò)散反射性的范圍內(nèi)進(jìn)一步設(shè)置其他釉藥層?？梢哉w或部分地形成上述其他釉藥層。由于上述其他釉藥層，可以在保持?jǐn)U散反射特性的同時(shí)得到其他性質(zhì)，如提高防污性、使外觀發(fā)生變化。上述其他釉藥層優(yōu)選實(shí)質(zhì)上是透明的。另外優(yōu)選為墊釉。
[0076]本發(fā)明的第一實(shí)施方式及第二實(shí)施方式的基材和構(gòu)件的用途[0077]在本發(fā)明中，如果基材是耐燒制的基材，其形狀，材質(zhì)沒有限定。例如，可以使用平板、曲板、中空體的基材。另外，也可以在基材上增加用于提高其光擴(kuò)散性的凸凹圖案。例如，凸凹圖案的凸部高度為0.1~3mm，凸部可呈規(guī)則排列也可呈不規(guī)則排列。
[0078]作為基材的具體例子，可以列舉出建材，特別是內(nèi)裝建材。根據(jù)本發(fā)明，因?yàn)槠鋬?yōu)良的光的高擴(kuò)散反射性，即使少量照明數(shù)或弱光，或者是從窗戶導(dǎo)入的光，都可以使其高度地?cái)U(kuò)散反射，從而使室內(nèi)或建筑內(nèi)變得明亮，起到節(jié)省能源的作用。進(jìn)一步，作為具體的建材，可列舉內(nèi)部裝飾墻、內(nèi)部裝飾地板、隧道內(nèi)部裝飾、建筑物內(nèi)部建材。
[0079]本發(fā)明的構(gòu)件可作為間接照明或半間接照明的反射材料來適宜的使用。通過將本發(fā)明的構(gòu)件作為反射材使用時(shí)，照明光可以在空間內(nèi)廣闊地?cái)U(kuò)散，從而提供更明亮的空間。此外，由于本發(fā)明的構(gòu)件具有高擴(kuò)散反射性和耐污染性，所以適用于靠近居住空間或水域的地方。例如，通過在衛(wèi)生間使用本發(fā)明的構(gòu)件，使用者的手或臉周圍不易產(chǎn)生陰影。例如，通過在居住空間中使用本發(fā)明的構(gòu)件，可以得到均一柔和并具有質(zhì)感的光線。
[0080]實(shí)施例
[0081]通過以下實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的說明，但本發(fā)明不局限于這些實(shí)施例。
[0082]評(píng)價(jià)方法
[0083]對(duì)通過后述方法 制造的構(gòu)件，進(jìn)行如下評(píng)價(jià)。
[0084]色差
[0085]按照J(rèn)IS-Z-8722 “色度的測(cè)定方法反射及透過物體色度”進(jìn)行。使用日本電色工業(yè)株式會(huì)社制SE6000作為測(cè)定裝置。測(cè)定條件為光源D65、測(cè)色徑8mm、積分球Φ 52mm,從XYZ表色系算出L*、a*、b*。一個(gè)構(gòu)件測(cè)兩個(gè)點(diǎn)，取平均值作為評(píng)價(jià)結(jié)果。
[0086]光澤度
[0087]按照J(rèn)IS-Z-8741 “鏡面光澤度測(cè)定方法”進(jìn)行。使用日本電色工業(yè)株式會(huì)社制PG-1M作為測(cè)定裝置。測(cè)定角為60°，一個(gè)構(gòu)件測(cè)兩個(gè)點(diǎn)，取平均值作為評(píng)價(jià)結(jié)果。
[0088]可見光反射率
[0089]按照J(rèn)IS-Z-8722 “色度的測(cè)定方法反射及透過物體色度”進(jìn)行。使用日本電色工業(yè)株式會(huì)社制SE6000作為測(cè)定裝置。測(cè)定條件為光源D65、測(cè)色徑8mm、積分球Φ 52mm,測(cè)定400nm~700nm波長(zhǎng)范圍的反射率。一個(gè)構(gòu)件測(cè)兩個(gè)點(diǎn)，取平均值作為評(píng)價(jià)結(jié)果。
[0090]外觀
[0091]分3個(gè)層次通過目測(cè)來評(píng)價(jià)映射到表面的映像。
[0092]“無光澤”:不能識(shí)別物體映像
[0093]“半透明光澤”:可識(shí)別物體映像
[0094]“明亮”:可清楚識(shí)別物體映像的形狀
[0095]耐污染性
[0096]用黑色油墨的氈尖筆在構(gòu)件表面上畫線，在室溫下放置10分鐘。之后，用沾了水并擰干的毛巾擦拭其表面。污垢可被完全除去且通過目測(cè)確認(rèn)沒有殘留物的狀態(tài)評(píng)價(jià)為O ;污垢可被除去一些且通過目測(cè)可以確認(rèn)具有殘留物的狀態(tài)評(píng)價(jià)為Λ，污物完全不能被除去的狀態(tài)評(píng)價(jià)為X。
[0097]實(shí)施例1~9
[0098]基材的調(diào)配[0099]將50質(zhì)量％的娃灰石、40質(zhì)量％的粘土以及10質(zhì)量％的滑石所組成的干燥粉末混合之后，加水調(diào)配成可塑性土還。用擠出機(jī)使該土還成形、壓延，制成寬600mm、長(zhǎng)900mm、厚4mm的素胎平板。將素胎平板干燥之后，在輥道窯中在最高溫度1150°C下進(jìn)行燒制。
[0100]第一釉藥組成物的調(diào)配
[0101]將40質(zhì)量份的長(zhǎng)石、15質(zhì)量份的高嶺土、15質(zhì)量份的硅酸鋯粒子、以及混合了氧化鋯粒子的30質(zhì)量份的玻璃料，與40質(zhì)量份的水進(jìn)行混合，用研磨機(jī)粉碎20分鐘，調(diào)配成漿料狀的第一釉藥組成物。這里所使用的硅酸鋯粒子的平均粒徑為0.8 μ m。
[0102]第二釉藥組成物
[0103]準(zhǔn)備具有下表1所記載的成分的玻璃料I和2。這里，玻璃料I是通過燒制而析出硅酸鋅結(jié)晶的鋅結(jié)晶玻璃料，玻璃料2是通過燒制而析出硅酸鋯微結(jié)晶的稱為鋯乳濁玻璃料的玻璃料。
[0104]表1
[0105]
[0106]單位:質(zhì)量％
[0107]
【權(quán)利要求】
1.一種釉藥組成物，其特征在于，包括含鋯元素的玻璃料和硅酸鋯粒子，所述玻璃料中所述鋯元素的量，以ZrO2換算，為1.0質(zhì)量％以上15質(zhì)量％以下；所述硅酸鋯粒子的平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的釉藥組成物，其特征在于，所述玻璃料中所述鋯元素的量，以ZrO2換算，為1.2質(zhì)量％以上10質(zhì)量％以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的釉藥組成物，其特征在于，所述玻璃料中鋯元素的量，相對(duì)于所述釉藥組成物的固體含量，以ZrO2換算，為I質(zhì)量％以上7質(zhì)量％以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的釉藥組成物，其特征在于，所述硅酸鋯粒子的量，相對(duì)于所述釉藥組成物的固體含量，為I質(zhì)量％以上30質(zhì)量％以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的釉藥組成物，其特征在于，所述玻璃料為鋯石乳濁玻璃料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的釉藥組成物，其特征在于，所述釉藥組成物的平均粒徑為I μ m以上10 μ m以下，并且含有選自由氧化鋁、硅砂、滑石以及氫氧化鋁的成分所構(gòu)成的無機(jī)粒子中的至少一種。
7.—種構(gòu)件，其特征在于，其為在基材的至少一面上形成有釉藥層的構(gòu)件，所述釉藥層含有玻璃質(zhì)成分和硅酸鋯粒子；所述硅酸鋯粒子由粒徑為0.3μπι以下的粒子、以及粒徑超過0.3μπι且平均粒徑在0.4μπι以上5μπι以下范圍的粒子組成。
8.根據(jù)權(quán)利要求 7所述的構(gòu)件，其特征在于，所述構(gòu)件為建材。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的構(gòu)件，其特征在于，所述建材為內(nèi)裝建材。
10.一種根據(jù)權(quán)利要求7所述的構(gòu)件的制造方法，其特征在于，在基材上使用權(quán)利要求1所述的釉藥組成物，燒制后在所述基材上形成釉藥層。
11.一種構(gòu)件，其特征在于，其為具有基材、以及在所述基材上的釉藥層的構(gòu)件； 所述釉藥層至少由第一釉藥層和位于該第一釉藥層上的第二釉藥層構(gòu)成； 所述第一釉藥層含有白色無機(jī)氧化物粒子和玻璃質(zhì)成分；其中，所述白色無機(jī)氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下； 所述第二釉藥層含有粒徑為0.3μπι以下的硅酸鋯粒子、所述白色無機(jī)氧化物粒子和玻璃質(zhì)成分。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的構(gòu)件，其特征在于，在所述第二釉藥層中，所述白色無機(jī)氧化物粒子的含量，相對(duì)于所述第二釉藥層，為I質(zhì)量％以上40質(zhì)量％以下。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的構(gòu)件，其特征在于，所述白色無機(jī)氧化物粒子為選自由硅酸鋯、氧化鋯、以及氧化鋁所構(gòu)成群組中的至少一種。
14.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的構(gòu)件，其特征在于，在所述第一釉藥層和/或所述第二釉藥層中的Fe元素的含量，以Fe2O3換算,超過O且在0.1質(zhì)量％以下。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的構(gòu)件，其特征在于，所述構(gòu)件為建材。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的構(gòu)件，其特征在于，所述建材為內(nèi)裝建材。
17.一種根據(jù)權(quán)利要求11所述的構(gòu)件的制造方法，其特征在于，在基材上使用至少含有白色無機(jī)氧化物粒子和玻璃料的釉藥組成物，所述白色無機(jī)氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下；在其上使用包括含鋯元素的玻璃料和所述白色無機(jī)氧化物粒子的釉藥組成物，之后燒制形成釉藥層。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的制造方法，其特征在于，在所述含鋯元素的玻璃料中的所述錯(cuò)元素的量，以ZrO2換算,為1.0質(zhì)量％以上15質(zhì)量％以下。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的制造方法，其特征在于，所述含鋯元素的玻璃料為鋯石乳濁玻璃料。
【文檔編號(hào)】C04B41/86GK104016718SQ201410073453
【公開日】2014年9月3日 申請(qǐng)日期:2014年2月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年2月28日
【發(fā)明者】井上賢治, 秋元次郎, 奧田光吉, 渡邊健人 申請(qǐng)人:Toto株式會(huì)社