專利名稱：陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實用新型涉及陶瓷生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是涉及陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置。
背景技術(shù)：
[0002]衛(wèi)生陶瓷噴釉是在噴釉柜中進行的，噴釉柜一側(cè)敞口，另一側(cè)有除余釉裝置，現(xiàn)有技術(shù)中，除余釉裝置是一個具有進口和出口的箱體，進口接噴釉柜，出口接有排氣扇，這樣的裝置會造成余釉浪費、排出的余釉污染環(huán)境、還具有需要頻繁清理該裝置的缺點。發(fā)明內(nèi)容[0003]本實用新型的目的就是針對上述缺點，提供一種除余釉效果好、減少環(huán)境污染、余釉回收率高、清理次數(shù)少的陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置。[0004]本實用新型的技術(shù)方案是這樣實現(xiàn)的:陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置，其特征是:它包括兩個除釉箱，第一除釉箱和第二除釉箱，除釉箱分別具有進口和出口，第一除釉箱的進口連接噴釉柜的出口，第一除釉箱的出口連接第二除釉箱的進口，第二除釉箱的出口連接有排氣扇，第一除釉箱的底面低于噴釉柜和第二除釉箱的底面。[0005]進一步的講，所述的第一除釉箱的底面有一個凹陷的凹槽，凹槽下面設(shè)置有卸料出口。[0006]本實用新型的有益效果是:這樣的陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置具有除余釉效果好、減少環(huán)境污染、余釉回收率高、清理次數(shù)少的優(yōu)點。


[0007]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。[0008]其中:1、第一除釉箱 2、第二除釉箱3、排氣扇4、卸料出口 5、凹槽6、噴釉柜。
具體實施方式
[0009]
以下結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明。[0010]如圖1所示，陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置，其特征是:它包括兩個除釉箱，第一除釉箱I和第二除釉箱2，除釉箱分別具有進口和出口，第一除釉箱的進口連接噴釉柜6的出口，第一除釉箱的出口連接第二除釉箱 的進口，第二除釉箱的出口連接有排氣扇3，第一除釉箱的底面低于噴釉柜和第二除釉箱的底面。[0011]進一步的講，所述的第一除釉箱的底面有一個凹陷的凹槽5，凹槽下面設(shè)置有卸料出口 4。
權(quán)利要求1.陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置，其特征是:它包括兩個除釉箱，第一除釉箱和第二除釉箱，除釉箱分別具有進口和出口，第一除釉箱的進口連接噴釉柜的出口，第一除釉箱的出口連接第二除釉箱的進口，第二除釉箱的出口連接有排氣扇，第一除釉箱的底面低于噴釉柜和第二除釉箱的底面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置，其特征是:所述的第一除釉箱的底面有一個凹陷的凹槽 ，凹槽下面設(shè)置有卸料出口。
專利摘要本實用新型涉及陶瓷生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，是陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置，其特征是它包括兩個除釉箱，第一除釉箱和第二除釉箱，除釉箱分別具有進口和出口，第一除釉箱的進口連接噴釉柜的出口，第一除釉箱的出口連接第二除釉箱的進口，第二除釉箱的出口連接有排氣扇，第一除釉箱的底面低于噴釉柜和第二除釉箱的底面，所述的第一除釉箱的底面有一個凹陷的凹槽，凹槽下面設(shè)置有卸料出口，這樣的陶瓷生產(chǎn)二次除余釉裝置具有除余釉效果好、減少環(huán)境污染、余釉回收率高、清理次數(shù)少的優(yōu)點。
文檔編號C04B41/91GK203112705SQ20132014126
公開日2013年8月7日 申請日期2013年3月26日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月26日
發(fā)明者李松峰 申請人:長葛市東澳電器有限公司