專利名稱：玻璃板的制造方法及玻璃板的制造裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種利用下拉法的玻璃板的制造方法及玻璃板的制造裝置。
背景技術(shù)：
先前，作為例如在液晶顯示器等平板顯示器中使用的玻璃基板的成形方法，使用有下拉法。下拉法中的溢流下拉法包括以下步驟:在成形爐中使熔融玻璃自成形體的頂部溢出，由此在成形體的下方成形玻璃帶；以及使玻璃帶在緩冷爐中緩冷。緩冷爐是通過將玻璃帶拉入成對(duì)的輥間而拉伸至所期望的厚度后，以降低玻璃帶內(nèi)部的應(yīng)變或熱收縮的方式將玻璃帶緩冷。其后，將玻璃帶切斷成預(yù)定的尺寸而形成玻璃板，并層疊于玻璃板的摞上，或搬送至后續(xù)步驟。關(guān)于下拉法，例如記載于下述專利文獻(xiàn)I中。例如，將玻璃板用于液晶顯示器用玻璃基板時(shí)，在玻璃板的表面形成TFT(ThinFilm Transistor,薄膜晶體管)。例如,在TFT為多晶娃TFT的情形下,在顯示器制造步驟中以400°C 600°C的溫度對(duì)玻璃板進(jìn)行熱處理，但有玻璃板因該熱處理后的冷卻而發(fā)生熱收縮從而尺寸微小地變化的情形。該尺寸的微小變化會(huì)引起玻璃板上形成的TFT形成位置相對(duì)于目標(biāo)位置(像素位置)的位置偏移，其結(jié)果是，有發(fā)生液晶顯示器的顯示不良的情形。此外，在液晶顯示器中，使形成有TFT的玻璃板與針對(duì)每個(gè)像素形成有彩色濾光片的玻璃板相互對(duì)置，并在玻璃板間設(shè)置液晶。然而，若形成有TFT的玻璃板由于熱收縮而引起微小的尺寸變化，則亦有無法與形成有彩色濾光片的玻璃板以像素為單位進(jìn)行正確的位置對(duì)準(zhǔn)的情形。因此，為減少玻璃板的尺寸的變化，要求玻璃板的熱收縮較小。再者，可通過在玻璃帶的緩冷步驟中降低冷卻速度來降低熱收縮。另外，下述專利文獻(xiàn)2中公開有如下技術(shù):為降低玻璃板的平面應(yīng)變，而將成形爐及/或緩冷爐的爐外部環(huán)境(爐外部空間)的氣壓加壓，減少緩冷爐內(nèi)沿玻璃帶產(chǎn)生的上升氣流，由此抑制緩冷爐內(nèi)的溫度變動(dòng)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本專利特開2009-196879號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2:日本專利特開2009-173525號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所欲解決的問題然而，若如專利文獻(xiàn)2所記載的那樣僅提高爐外部空間的氣壓，則有爐外部空間的空氣流入成形爐或緩冷爐的內(nèi)部空間的情形。一般而言，爐外部空間的溫度與成形爐或緩冷爐的爐內(nèi)環(huán)境(爐內(nèi)部空間)的溫度相比低200 1200°C左右。此處，雖然如專利文獻(xiàn)2所記載的那樣，有產(chǎn)生了自冷卻室或切斷室等朝緩冷爐內(nèi)上升的空氣流的情形，但即便產(chǎn)生了空氣流，由于該空氣流在緩冷爐內(nèi)上升的同時(shí)被加溫， 故而對(duì)爐內(nèi)部空間的溫度變動(dòng)造成的影響較小。與此相對(duì)，在爐外部空間的空氣自成形爐或緩冷爐的爐壁的間隙流入爐內(nèi)部空間的情形下，由于該空氣未經(jīng)加熱，故而該空氣與爐內(nèi)部空間的溫度之間的溫度差較大，在爐內(nèi)部空間中，在流入的空氣所通過的部分與其以外的部分間產(chǎn)生溫度差，對(duì)爐內(nèi)部空間的溫度的均勻性造成較大的影響。此處，為降低熱收縮率及平面應(yīng)變，精度良好地進(jìn)行玻璃帶的溫度管理較為有效。然而，若玻璃帶通過如上所述的溫度變動(dòng)后的成形爐或緩冷爐的爐內(nèi)部空間，則由于玻璃帶的冷卻速度局部不同，故而玻璃板的熱收縮亦產(chǎn)生不均。再者，所謂變動(dòng)是指溫度自設(shè)定溫度意外地發(fā)生變化的情況。即，在該專利文獻(xiàn)2的玻璃板的制造方法的緩冷處理(退火處理)中，有無法將緩冷爐內(nèi)的溫度保持于設(shè)定溫度，從而使玻璃板的熱收縮的不均變大的情形。因此，在將該玻璃板應(yīng)用于要求熱收縮的不均較小的玻璃板、例如平板顯示器用玻璃板(尤其是，液晶顯示器用玻璃基板、有機(jī)EL(electroluminescence,電致發(fā)光)顯示器用玻璃基板或形成有氧化物半導(dǎo)體薄膜晶體管的顯示器用玻璃基板)的情形下，存在有時(shí)會(huì)產(chǎn)生顯示不良的問題。因此，本發(fā)明的目的在于提供一種在利用下拉法制造玻璃板時(shí)、效率良好地降低熱收縮的不均的玻璃板的制造方法。用于解決問題的技術(shù)手段本發(fā)明的一形態(tài)是一種利用下拉法的玻璃板的制造方法，其包括:熔解步驟，在該熔解步驟中，熔解玻璃原料而獲得熔融玻璃；成形步驟，在該成形步驟中，將上述熔融玻璃供給至設(shè)置于成形爐內(nèi)的成形體來成形玻璃帶，并形成上述玻璃帶的帶流；緩冷步驟，在該緩冷步驟中，利用設(shè)置于緩冷爐內(nèi)的輥牽引上述玻璃帶，使上述玻璃帶在上述緩冷爐內(nèi)冷卻；以及切斷步驟，在該切斷步驟中，在切斷空間內(nèi)切斷經(jīng)冷卻的上述玻璃帶。在將設(shè)置有上述成形體的上述成形爐的內(nèi)部空間以及設(shè)置有上述輥的上述緩冷爐的內(nèi)部空間作為爐內(nèi)部空間、將上述成形爐以及上述緩冷爐的外部空間作為爐外部空間時(shí)，上述爐外部空間為相對(duì)于大氣壓環(huán)境以隔離壁分隔開的空間，以使上述爐外部空間的至少一部分的氣壓比上述玻璃帶的流動(dòng)方向的相同位置處的上述爐內(nèi)部空間的氣壓低的方式進(jìn)行氣壓的調(diào)整。此時(shí)，優(yōu)選為將氣壓調(diào)整成:在上述緩冷爐內(nèi)的對(duì)應(yīng)于上述玻璃帶的緩冷點(diǎn)溫度的位置與上述緩冷爐內(nèi)的對(duì)應(yīng)于上述玻璃帶的應(yīng)變點(diǎn)溫度的位置之間的區(qū)域，上述爐外部空間的氣壓比上述爐內(nèi)部空間的相同位置處的氣壓低。此外，優(yōu)選為關(guān)于上述爐外部空間的上述至少一部分的氣壓，在上述玻璃帶的流動(dòng)方向的相同位置，上述爐內(nèi)部空間的氣壓與上述爐外部空間的氣壓的差為40Pa以下。優(yōu)選為上述爐外部空間的氣壓被調(diào)整成比大氣壓高。優(yōu)選為上述爐外部空間包括相對(duì)于上述成形爐的上述內(nèi)部空間的頂面位于上方的上部空間，對(duì)于上述上部空間，上述上部空間的氣壓被調(diào)整成使空氣不會(huì)自上述上部空間流入上述爐內(nèi)部空間。上述玻璃帶的流動(dòng)方向?yàn)殂U垂方向，上述成形爐相對(duì)于上述緩冷爐設(shè)置于鉛垂上方。此時(shí)，優(yōu)選為上述爐外部空間在鉛垂方向上被分成多個(gè)部分空間，且將氣壓調(diào)整成:在上述部分空間中的最上部的部分空間與最下部的部分空間之間對(duì)上述部分空間各自的氣壓與該部分空間的鉛垂方向的相同位置處的上述爐內(nèi)部空間的氣壓的差進(jìn)行比較時(shí)，上述最上部的上述差比上述最下部的上述差大。優(yōu)選為上述部分空間的上述氣壓的上述差越向上方越大。上述玻璃板例如為在表面形成TFT (Thin Film Transistor:薄膜晶體管)的液晶顯示器用玻璃基板。優(yōu)選為當(dāng)上述爐外部空間包括在上述玻璃帶的流動(dòng)方向上位于與上述成形體相同的位置的第I部分空間時(shí)，上述第1部分空間的氣壓與上述玻璃帶的流動(dòng)方向的相同位置處的上述爐內(nèi)部空間的氣壓的差大于0且為40Pa以下。優(yōu)選為上述爐外部空間包括在上述玻璃帶的流動(dòng)方向上位于與上述緩冷爐相同的位置的第2部分空間，且上述緩冷爐的爐內(nèi)部空間的氣壓與上述第2部分空間的氣壓的差大于0且為40Pa以下。優(yōu)選為上述爐外部空間包括在上述玻璃帶的流動(dòng)方向上位于與上述成形體相同的位置的第1部分空間以及位于與上述緩冷爐相同的位置的第2部分空間，在上述第I部分空間與上述第2部分空間通過壁隔離而相鄰時(shí)，上述爐外部空間的上述第1部分空間的氣壓比上述第2部分空間的氣壓大，上述第1部分空間的氣壓與上述第2部分空間的氣壓的差小于20Pa。優(yōu)選為上述爐外部空間包括位于與上述緩冷爐相同的位置上的多個(gè)第2部分空間，且多個(gè)上述第2部分空間的氣壓越是靠上述熔融玻璃的流動(dòng)方向的上游側(cè)越高。優(yōu)選為上述緩冷步驟是:為使拉伸應(yīng)力在上述玻璃帶的寬度方向的中央部沿上述玻璃帶的流動(dòng)方向發(fā)揮作用，至少在自上述玻璃帶的緩冷點(diǎn)溫度加150°C而得的溫度至上述玻璃帶的應(yīng)變點(diǎn)溫度減去200°C而得的溫度為止的溫度區(qū)域內(nèi)，上述玻璃帶的寬度方向的中央部的冷卻速度比上述兩端部的冷卻速度快，使上述玻璃帶自上述玻璃帶的寬度方向的中央部的溫度高于上述兩端部的狀態(tài)向上述中央部的溫度低于上述兩端部的狀態(tài)變化。優(yōu)選為上述緩冷步驟包括第1冷卻步驟、第2冷卻步驟及第3冷卻步驟，上述第1冷卻步驟是以第1平均冷卻速度使玻璃帶的寬度方向的中央部的溫度冷卻至緩冷點(diǎn)溫度為止的步驟，上述第2冷卻步驟是以第2平均冷卻速度使玻璃帶的寬度方向的中央部的溫度自緩冷點(diǎn)溫度冷卻至應(yīng)變點(diǎn)溫度_50°C為止的步驟，上述第3冷卻步驟是以第3平均冷卻速度使玻璃帶的寬度方向的中央部的溫度自應(yīng)變點(diǎn)溫度_50°C冷卻至應(yīng)變點(diǎn)溫度_200°C為止的步驟，且上述第1平均冷卻速度為5.0℃ /秒以上，上述第I平均冷卻速度比上述第3平均冷卻速度快，上述第3平均冷卻速度比上述第2平均冷卻速度快。此時(shí)，上述第I冷卻步驟中的玻璃帶的中央部的平均冷卻速度優(yōu)選為5.5℃ /秒 50.0℃ /秒。此外，上述第2冷卻步驟中的玻璃帶的平均冷卻速度優(yōu)選為0.5 未達(dá)5.5℃ /秒。進(jìn)而，上述第3冷卻步驟中的玻璃帶的中央部的冷卻速度優(yōu)選為1.5℃ /秒 7.0℃ /秒。在上述玻璃板為形成多晶硅(低溫多晶硅)TFT或氧化物半導(dǎo)體的玻璃基板時(shí)，玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度優(yōu)選為675°C以上，上述應(yīng)變點(diǎn)溫度更優(yōu)選為675°C 750°C。此外，本發(fā)明的另一形態(tài)是利用下拉法的玻璃板的制造裝置。該制造裝置包括:熔解裝置，其用于熔解玻璃原料而獲得熔融玻璃；成形裝置，其用于將上述熔融玻璃供給至設(shè)置于成形爐內(nèi)的成形體來成形玻璃帶，且形成上述玻璃帶的帶流，并利用設(shè)置于緩冷爐內(nèi)的輥牽引上述玻璃帶，使上述玻璃帶在上述緩冷爐內(nèi)冷卻；以及切斷裝置，其用于在切斷空間內(nèi)切斷經(jīng)冷卻的上述玻璃帶。在將設(shè)置有上述成形體的上述成形爐的內(nèi)部空間以及設(shè)置有上述輥的上述緩冷爐的內(nèi)部空間作為爐內(nèi)部空間、將上述成形爐以及上述緩冷爐的外部空間作為爐外部空間時(shí)，上述爐外部空間為相對(duì)于大氣壓環(huán)境以隔離壁分隔開的空間。在上述成形裝置設(shè)置有氣壓控制裝置，上述氣壓控制裝置以使上述爐外部空間的至少一部分的氣壓比上述玻璃帶的流動(dòng)方向的相同位置處的上述爐內(nèi)部空間的氣壓低的方式進(jìn)行氣壓的調(diào)整。優(yōu)選為上述氣壓控制裝置是為了控制上述爐外部空間的氣壓而在與大氣之間對(duì)空氣的流入進(jìn)行調(diào)整的裝置。發(fā)明的效果根據(jù)上述形態(tài)的玻璃板的制造方法，可效率良好地降低玻璃板的熱收縮的不均。


圖1是表示作為本實(shí)施方式的玻璃板的制造方法的流程的圖。圖2是示意性地表示進(jìn)行本實(shí)施方式的熔解步驟 切斷步驟的裝置的圖。圖3是本實(shí)施方式的玻璃板的成形裝置的概略的側(cè)視圖。圖4是本實(shí)施方式的玻璃板的成形裝置的概略的主視圖。圖5是控制本實(shí)施方式中所使用的送風(fēng)機(jī)送入的空氣的量的控制系統(tǒng)的概略圖。
具體實(shí)施例方式以下，說明本發(fā)明的玻璃板的制造方法及制造裝置。本說明書中的下述語句以如下方式規(guī)定。所謂玻璃帶的中央部，是指玻璃帶的寬度方向的寬度中的、玻璃帶的寬度方向的中心。所謂玻璃帶的端部，是指自玻璃帶的寬度方向的邊緣起IOOmm以內(nèi)的范圍。所謂應(yīng)變點(diǎn)溫度，是指將玻璃黏度設(shè)為η時(shí)，log η為14.5的玻璃板的溫度。所謂緩冷點(diǎn)溫度，是指log η為13的玻璃板的溫度。圖1是表示本實(shí)施方式的玻璃板的制造方法的流程的圖。(玻璃板的制造方法的整體概要)玻璃板的制造方法主要包括熔解步驟(STl)、澄清步驟(ST2)、均質(zhì)化步驟(ST3)、供給步驟(ST4)、 成形步驟(ST5)、緩冷步驟(ST6)及切斷步驟(ST7)。此外，包括磨削步驟、研磨步驟、清洗步驟、檢查步驟、捆包步驟等，將捆包步驟中層疊的多個(gè)玻璃板搬送至訂貨方。圖2是示意性地表示進(jìn)行熔解步驟(STl) 切斷步驟(ST7)的玻璃板的制造裝置的圖。該裝置如圖2所示，主要包括熔解裝置200、成形裝置300及切斷裝置400。熔解裝置200包括熔解槽201、澄清槽202、攪拌槽203、第I配管204及第2配管205。關(guān)于成形裝置300在下文敘述。在熔解步驟(STl)中，將供給至熔解槽201內(nèi)的玻璃原料通過未圖示的火焰及電加熱器加熱使其熔解，由此獲得熔融玻璃。澄清步驟(ST2)是在澄清槽202中進(jìn)行的步驟，通過加熱澄清槽202內(nèi)的熔融玻璃，使熔融玻璃中所含有的氧或S02的氣泡通過澄清劑的氧化還原反應(yīng)成長(zhǎng)并上浮至液面而放出氣泡的氣體成分，或使氣泡中的氣體成分吸收于熔融玻璃中而消滅氣泡。在均質(zhì)化步驟(ST3)中，使用攪拌器攪拌通過第I配管204而供給的攪拌槽203內(nèi)的熔融玻璃，由此進(jìn)行玻璃成分的均質(zhì)化。在供給步驟(ST4)中，通過第2配管205將熔融玻璃供給至成形裝置300。在成形裝置300中進(jìn)行成形步驟(ST5)及緩冷步驟(ST6)。在成形步驟(ST5)中，將熔融玻璃供給至設(shè)置于成形爐內(nèi)的成形體而成形玻璃帶G(參照?qǐng)D3)。在本實(shí)施方式中，使用利用后述的成形體310的溢流下拉法。在緩冷步驟(ST6)中，以使成形且流動(dòng)的玻璃帶G成為所期望的厚度、且不產(chǎn)生平面應(yīng)變、進(jìn)而熱收縮率不會(huì)變大的方式利用輥牽引并冷卻。在切斷步驟(ST7)中，通過在切斷裝置400中將自成形裝置300供給的玻璃帶G切斷成預(yù)定的長(zhǎng)度，而獲得板狀的玻璃板Gl (參照?qǐng)D3)。將切斷后的玻璃板Gl進(jìn)一步切斷成預(yù)定的尺寸，而制作目標(biāo)尺寸的玻璃板G1。其后，進(jìn)行玻璃端面的磨削、研磨后，進(jìn)行清洗，進(jìn)而檢查有無氣泡或條紋等異常缺陷后，將檢查合格品的玻璃板Gl作為最終產(chǎn)品而捆包。(成形裝置的說明)圖3及圖4是主要表示玻璃板的成形裝置300的結(jié)構(gòu)的圖，圖3主要表示成形裝置300的概略的側(cè)視圖，圖4表示成形裝置300的概略的主視圖。成形裝置300中成形的玻璃板例如可較佳地用于平板顯示器用玻璃基板或保護(hù)玻璃。作為平板顯示器用玻璃基板，例如可列舉:液晶顯示器用玻璃基板、有機(jī)EL顯示器用玻璃基板、形成有氧化物半導(dǎo)體薄膜晶體管的顯示器用玻璃。此外，成形裝置300中成形的玻璃板亦可用作移動(dòng)終端設(shè)備等的顯示器或殼體用的保護(hù)玻璃、觸控面板、太陽電池的玻璃基板或保護(hù)玻璃。尤其適于使用有多晶硅TFT的液晶顯示器用玻璃基板。進(jìn)行成形步驟(ST5)的成形爐40及進(jìn)行緩冷步驟(ST6)的緩冷爐50是被由耐火磚、耐火隔熱磚或纖維類隔熱部件等耐火物所構(gòu)成的爐壁包圍而構(gòu)成。成形爐40相對(duì)于緩冷爐50設(shè)于鉛垂上方。再者，將成形爐40及緩冷爐50統(tǒng)稱為爐30。在爐30的由爐壁所包圍的爐內(nèi)部空間中，設(shè)置有成形體310、環(huán)境隔離構(gòu)件320、冷卻輥330、冷卻單元340、搬送輥350a 350h及壓力傳感器355、360a 360c (參照?qǐng)D4)。如圖2所示，成形體310用于使自熔解裝置200通過第2配管205流入的熔融玻璃成形為玻璃帶G。 由此，在成形裝置300內(nèi)形成朝向鉛垂下方的玻璃帶G的帶流。成形體310是由耐火磚等所構(gòu)成的細(xì)長(zhǎng)的構(gòu)造體，且如圖3所示剖面呈楔形狀。在成形體310的頂部設(shè)置有成為引導(dǎo)熔融玻璃的流路的槽312。槽312在設(shè)置于成形裝置300的供給口311 (參照?qǐng)D4)處與第2配管205連接。通過第2配管205流入的熔融玻璃沿槽312流動(dòng)。槽312的深度越是靠熔融玻璃的流動(dòng)的下游越淺，以使熔融玻璃自槽312朝鉛垂下方溢出。在圖3、4中，以參照標(biāo)號(hào)MG表不熔融玻璃。自槽312溢出的熔融玻璃沿成形體310的兩側(cè)的側(cè)壁朝鉛垂下方流下。流經(jīng)側(cè)壁的熔融玻璃在圖3所示的成形體310的下方端部313合流，而成形為I個(gè)玻璃帶G。由此，玻璃帶G向緩冷爐50流下。在離開成形體310而開始流下的時(shí)刻的玻璃帶G的黏度例如為1O5.7 1O7.5 泊(poise)。在成形體310的下方端部313的下方附近設(shè)置有環(huán)境隔離構(gòu)件320。環(huán)境隔離構(gòu)件320為一對(duì)板狀的隔熱 構(gòu)件，且以自厚度方向的兩側(cè)夾著玻璃帶G的方式構(gòu)成。S卩，在環(huán)境隔離構(gòu)件320中，以不與玻璃帶G接觸的程度空出間隙。環(huán)境隔離構(gòu)件320通過隔離成形爐內(nèi)部空間而切斷環(huán)境隔離構(gòu)件320的上方的爐內(nèi)部空間與下方的爐內(nèi)部空間之間的熱的移動(dòng)。在環(huán)境隔離構(gòu)件320的下方設(shè)置有冷卻輥330。冷卻輥330與玻璃帶G的寬度方向的兩端部附近的玻璃帶G表面接觸，將玻璃帶G朝下方拉下，在兩端部附近使玻璃帶G的厚度成為所期望的厚度，并且冷卻輥330使玻璃帶G冷卻(急冷)。通過冷卻輥330的急冷，使玻璃帶的兩端部的黏度例如成為109_° IOici 5Pois^在使用了冷卻輥330的急冷 緩冷步驟中，通過冷卻功能較上述急冷中的冷卻功能低的冷卻，可將玻璃帶G的兩端部的黏度維持于例如IO1a5 IO14-5Poise0在冷卻輥330的下方設(shè)置有冷卻單元340。冷卻單元340冷卻通過了冷卻輥330的玻璃帶G。通過該冷卻單元340的冷卻，可抑制玻璃帶G的翹曲。在冷卻單元340的下方，以預(yù)定的間隔設(shè)置有搬送輥350a 350h，搬送輥350a 350h用于將玻璃帶G朝下方牽引。冷卻單元340下方的空間為緩冷爐50的爐內(nèi)部空間。搬送輥350a 350h分別具有輥對(duì)，且以?shī)A著玻璃帶G的兩側(cè)的方式設(shè)置于玻璃帶G的寬度方向的兩側(cè)端部。在成形爐40的爐內(nèi)部空間中，設(shè)置有計(jì)測(cè)爐內(nèi)部空間的氣壓的壓力傳感器355(參照?qǐng)D4)。壓力傳感器355設(shè)置于在高度方向(鉛垂上方)與成形體310相同的位置。所謂高度方向是圖3、4中紙面的上方。由于玻璃帶G自成形體310朝鉛垂下方流動(dòng)，故而玻璃帶G的流動(dòng)方向與高度方向?yàn)橄喾捶较?。在緩冷爐50的爐內(nèi)部空間中，設(shè)置有壓力傳感器360a 360c (參照?qǐng)D4)。另一方面，在成形爐40的爐壁的外側(cè)，設(shè)置有通過隔離壁而相對(duì)于大氣壓環(huán)境以建筑物B的隔離壁分隔開的空間、即爐外部空間Sl、S2、S3a S3c。爐外部空間SI為相對(duì)于成形爐40的內(nèi)部空間的頂面進(jìn)一步位于上方的上部空間。這些空間分別在高度方向上被底面(底壁)411、412、413a 413c分隔開。即，成形裝置300設(shè)置于具有多層的建筑物B中，通過底面而分隔成多個(gè)的爐外部空間(部分空間)S1、S2、S3a S3c設(shè)置于各層中。進(jìn)而，在爐外部空間S3c的下方，在層414上設(shè)置有以壁分隔出的空間S4(切斷空間)?？臻gS4中未設(shè)置爐壁。這些空間的氣壓分別通過后述的送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424而調(diào)整。爐外部空間SI是位于比成形體310的高度方向的位置靠鉛垂上方的空間，爐外部空間SI中設(shè)置有計(jì)測(cè)爐外部空間的氣壓的壓力傳感器415。爐外部空間S2是設(shè)置于底面412上的空間，對(duì)應(yīng)于該空間的爐內(nèi)部空間中配置有成形體310。此外，爐外部空間S2中，設(shè)置有計(jì)測(cè)爐外部空間S2的氣壓的壓力傳感器416。由爐壁所包圍的爐內(nèi)部空間中，在壓力傳感器416的高度方向的相同位置設(shè)置有計(jì)測(cè)爐內(nèi)部空間的氣壓的壓力傳感器355 (參照?qǐng)D4)。爐外部空間S3a S3c是在爐外部空間S2的下方自高度方向較高處起按照爐外部空間S3a S3c的順序而設(shè)置的空間。爐外部空間S3a S3c設(shè)置于底面413a 413c上。此外，在爐外部空間S3a S3c分別設(shè)置有計(jì)測(cè)爐外部空間S3a S3c的氣壓的壓力傳感器417a 417c。由爐壁所包圍的爐內(nèi)部空間中，在壓力傳感器417a 417c的高度方向的相同位置設(shè)置有計(jì)測(cè)爐內(nèi)部空間的氣壓的壓力傳感器360a 360c(參照?qǐng)D4)。再者，在本實(shí)施方式中是將壓力傳感器355、360a 360c設(shè)置于爐內(nèi)部空間的各位置，但亦可在爐內(nèi)部空間的各位置插入壓力傳感器而進(jìn)行壓力的測(cè)定。此外，在對(duì)爐外部空間S1、S2、S3a S3c及空間S4分別進(jìn)行分隔的隔離壁的外偵牝相對(duì)于爐外部空間Sl、S2、S3a S3c及空間S4分別設(shè)置有送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c,424ο通過送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424自大氣送入的空氣通過管分別供給至爐外部空間Sl、S2、S3a S3c及空間S4。送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424送入的空氣的量分別根據(jù)來自后述驅(qū)動(dòng)單元510的驅(qū)動(dòng)信號(hào)而決定。送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424作為為了控制爐外部空間Sl、S2、S3a S3c及空間S4各自的氣壓而在與大氣之間對(duì)空氣的流入進(jìn)行調(diào)整的氣壓控制裝置而發(fā)揮功能。圖5是控制送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424送入的空氣的量的控制系統(tǒng)的
概略圖?？刂葡到y(tǒng)包括:設(shè)置于爐內(nèi)部空間的壓力傳感器355、360a 360c ;設(shè)置于各爐外部空間的壓力傳感器415、416、417a 417c、418 ;控制裝置500 ;驅(qū)動(dòng)單元510 ;及送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424。控制裝置500使用分別自壓力傳感器355、360a 360c發(fā)送的爐內(nèi)部空間的氣壓的計(jì)測(cè)結(jié)果以及自壓力傳感器415、416、417a 417c、418發(fā)送的爐外部空間的氣壓的計(jì)測(cè)結(jié)果，生成控制信號(hào)，該控制信號(hào)用于調(diào)整送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424自大氣送入的空氣的量，以將爐內(nèi)部空間及爐外部空間在高度方向的相同位置上的氣壓的差調(diào)整至設(shè)定的范圍。將生成的控制信號(hào)發(fā)送至驅(qū)動(dòng)單元510。驅(qū)動(dòng)單元510基于控制信號(hào)而生成用于分別調(diào)整由送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424送入的空氣的量的驅(qū)動(dòng)信號(hào)。驅(qū)動(dòng)單元510將驅(qū)動(dòng)信號(hào)發(fā)送至各送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424。在本實(shí)施方式中，控制裝置500及驅(qū)動(dòng)單元510自動(dòng)控制空氣的送入量，但亦可由操作人員手動(dòng)調(diào)整空氣的送入量。此處，對(duì)于送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424送入的空氣的量，以使?fàn)t外部空間S2、S3a S3c的氣壓相對(duì)于高度方向的相同位置上的爐內(nèi)部空間的氣壓降低的方式調(diào)整各爐外部空間的氣壓。成形爐40的爐內(nèi)部空間與爐外部空間S2之間的氣壓的差為O (不含) 40Pa，優(yōu)選為4 35Pa， 更佳為8 30Pa，進(jìn)而優(yōu)選為10 27Pa，進(jìn)而優(yōu)選為10 25Pa。
若上述氣壓的差超過上述范圍，則有大量的空氣自爐壁的間隙從爐內(nèi)部空間向爐外部空間S2流出的可能，從而增大爐內(nèi)部空間中空氣的上升。另一方面，若上述氣壓的差低于上述范圍，則有空氣自爐壁的間隙從爐外部空間S2向爐內(nèi)部空間流入的可能，使?fàn)t內(nèi)部空間的溫度分布不均。通過將氣壓的差調(diào)整為上述范圍，可防止低溫的空氣自爐外部空間S2流入成形爐40的爐內(nèi)部空間中。因此，可抑制爐內(nèi)部空間的溫度的不均。由此，可抑制冷卻速度的不均、以及玻璃帶G的板厚的不均。再者，所謂溫度的不均是指自預(yù)先設(shè)定的溫度意外地發(fā)生變化。另一方面，緩冷爐50的爐內(nèi)部空間與爐外部空間S3a S3c之間的氣壓的差為0 (不含) 40Pa，優(yōu)選為2 35Pa，更優(yōu)選為2 25Pa，進(jìn)而優(yōu)選為3 23Pa，進(jìn)而優(yōu)選為5 20Pa。特別優(yōu)選為10 20Pa。若上述氣壓的差超過上述范圍，則有大量的空氣自爐壁的間隙從爐內(nèi)部空間向爐外部空間S3a S3c流出的可能，從而增大爐內(nèi)部空間中空氣的上升。另一方面，若上述氣壓的差低于上述范圍，則有空氣自爐壁的間隙從爐外部空間S3a S3c向爐內(nèi)部空間流入的可能，使?fàn)t內(nèi)部空間的溫度分布不均。通過將氣壓的差調(diào)整為上述范圍，可防止低溫的空氣自爐外部空間S3a S3c流入緩冷爐50的爐內(nèi)部空間，因此可抑制爐內(nèi)部空間的溫度的不均。由此，可抑制玻璃帶G的變形、翹曲、平面應(yīng)變的不均及熱收縮的不均。此外，優(yōu)選為爐外部空間S3a S3c與爐內(nèi)部空間的氣壓的差越向上方越大。爐內(nèi)部空間的溫度越向上方越高，可認(rèn)為較爐內(nèi)部空間低的溫度的空氣流入造成的影響變大。此時(shí)，爐外部空間S3c與空間S4的氣壓差優(yōu)選為0〈(爐外部空間S3c的氣壓-空間S4的氣壓)，更優(yōu)選為0〈(爐外部空間S3c的氣壓-空間S4的氣壓)<20Pa,進(jìn)而優(yōu)選為lPa< (爐外部空間S3c的氣壓-空間S4的氣壓)<15Pa,更優(yōu)選為2Pa〈(爐外部空間S3c的氣壓-空間S4的氣壓)<15Pa。此外，爐外部下方空間S2與爐外部空間S3a的氣壓差優(yōu)選為0〈(爐外部下方空間S2的氣壓-爐外部空間S3a的氣壓)，更優(yōu)選為0〈(爐外部空間S2的氣壓-爐外部空間S3a的氣壓)<20Pa,進(jìn)而優(yōu)選為lPa〈(爐外部空間S2的氣壓-爐外部空間S3a的氣壓)<15Pa,更優(yōu)選為2Pa〈(爐外部空間S2的氣壓-爐外部空間S3a的氣壓)<15Pa。此外，爐外部空間S1與爐外部空間S2的氣壓差優(yōu)選為0〈(爐外部空間SI的氣壓-爐外部空間S2的氣壓)，更優(yōu)選為0〈(爐外部空間SI的氣壓-爐外部空間S2的氣壓)<30Pa,進(jìn)而優(yōu)選為lPa〈(爐外部空間SI的氣壓-爐外部空間S2的氣壓)<25Pa,更優(yōu)選為2Pa〈(爐外部空間SI的氣壓-爐外部空間S2的氣壓)<15Pa。若使?fàn)t外部空間S3c與空間S4的氣壓差、爐外部空間S2與爐外部空間S3a的氣壓差及爐外部空間SI與爐外部空間S2的氣壓差過大，則爐外部空間S1、爐外部空間S2、爐外部空間S3a S3c的氣壓的絕對(duì)值變得過大，導(dǎo)致空氣自爐外部空間流入爐內(nèi)部空間內(nèi)。因此，有可能產(chǎn)生爐內(nèi)部空間內(nèi)的溫度發(fā)生變動(dòng)的問題。進(jìn)而，有在爐外部空間中產(chǎn)生局部的氣流的集中、以及氣流的流速局部地變快的情況，而使?fàn)t外部空間的氣壓穩(wěn)定性降低的可能，其結(jié)果是，亦有產(chǎn)生爐內(nèi)部空間內(nèi)的溫度不均的問題的可能。再者，在本實(shí)施方式中，將爐外部空間的氣壓調(diào)整成使所有爐外部空間的氣壓相對(duì)于高度方向的相同位置上的爐內(nèi)部空間的氣壓要低，但亦可以將爐外部空間的氣壓調(diào)整成使?fàn)t外部空間的至少一部分的氣壓相對(duì)于高度方向的相同位置上的爐內(nèi)部空間的氣壓要低。此種情形下，優(yōu)選為在對(duì)應(yīng)于玻璃帶G的緩冷點(diǎn)溫度的緩冷爐內(nèi)的位置與對(duì)應(yīng)于玻璃帶G的應(yīng)變點(diǎn)溫度的緩冷爐內(nèi)的位置之間的區(qū)域中，將爐外部空間的氣壓調(diào)整成相對(duì)于高度方向的相同位置上的爐內(nèi)部空間的氣壓要低。對(duì)應(yīng)于緩冷點(diǎn)溫度的位置例如位于爐外部空間S3a的高度方向的位置，此外，對(duì)應(yīng)于應(yīng)變點(diǎn)溫度的位置例如位于爐外部空間S3b的高度方向的位置。由于上述區(qū)域中為玻璃帶G進(jìn)行固化的階段，最易對(duì)玻璃的平面應(yīng)變或熱收縮造成影響，故而優(yōu)選為在上述區(qū)域中效率良好地調(diào)整氣壓，抑制自爐外部空間的空氣的流入，由此抑制爐內(nèi)部空間的溫度的不均。進(jìn)而，通過調(diào)整與緩冷爐50的爐內(nèi)部空間中玻璃帶G的溫度成為應(yīng)變點(diǎn)溫度以下的區(qū)域?qū)?yīng)的高度方向的相同位置上的爐外部空間的氣壓，可抑制空氣自爐外部空間的流入，可抑制該區(qū)域的溫度的不均，并可通過該抑制而防止玻璃帶G的翹曲。此處，玻璃帶G在自成形爐40切斷的前為一片連續(xù)的板。因此，若在玻璃帶G的溫度成為應(yīng)變點(diǎn)溫度以下的區(qū)域中，玻璃帶G的翹曲形狀變化，則亦對(duì)成為應(yīng)變點(diǎn)溫度以上的區(qū)域的玻璃帶造成影響，導(dǎo)致產(chǎn)生平面應(yīng)變或熱收縮的不均。如上所述，即通過抑制玻璃帶G的溫度成為應(yīng)變點(diǎn)溫度以下的區(qū)域的溫度的不均，可抑制翹曲、平面應(yīng)變及熱收縮的不均。此外，位于無爐內(nèi)部空間的高度方向的位置上的壓力傳感器415優(yōu)選為計(jì)測(cè)爐外部空間SI的氣壓，以通過送風(fēng)機(jī)421調(diào)整爐外部空間SI，使得空氣不會(huì)自爐外部空間SI流入爐內(nèi)部空間。在隔離爐內(nèi)部空間與爐外部空間的爐壁，在冷卻輥330及搬送輥350a 350h的軸周圍存在間隙，而且，在對(duì)爐內(nèi)部空間和爐外部空間進(jìn)行分隔的爐壁與底面411連接的連接部分等存在間隙。因此，在氣壓的差到達(dá)一定程度以上的情形下，容易在爐內(nèi)部空間與爐外部空間之間產(chǎn)生空氣的流動(dòng)。因此，優(yōu)選為調(diào)整包圍爐內(nèi)部空間的周圍的爐外部空間的氣壓。尤其是，爐內(nèi)部空間中的成形爐40的空間在爐內(nèi)部空間內(nèi)位于最上游側(cè)的位置，氣壓較高，空間內(nèi)的溫度亦較高?？諝庾栽摮尚螤t40的內(nèi)部空間的頂面朝爐外部空間SI流出的情況通過煙囪效果而促進(jìn)爐內(nèi)部空間的空氣的流動(dòng)，故而欠佳。因此，為防止空氣向爐外部空間SI流出，而提高爐外部空間SI的氣壓。然而，若使?fàn)t外部空間SI的氣壓過高，則空氣反而容易自爐外部空間SI流入爐內(nèi)部空間。此種情形下，由于在成形爐40的空間中利用成形體310成形玻璃帶，故而自爐外部空間SI流入的冷空氣對(duì)成形中的熔融玻璃的黏度造成影響，因此欠佳。此外，亦對(duì)緩冷步驟中的玻璃帶的冷卻造成影響。因此，壓力傳感器415計(jì)測(cè)爐外部空間S1的氣壓，以通過送風(fēng)機(jī)421調(diào)整爐外部空間SI，使得空氣不會(huì)自爐外部空間SI流入爐內(nèi)部空間。即，優(yōu)選為以空氣不會(huì)在未設(shè)置冷卻輥或搬送輥的成形爐40的頂面處自頂面的間隙從爐外部空間SI流入爐內(nèi)部空間的方式通過送風(fēng)機(jī)421對(duì)成形爐外部空間SI的氣壓進(jìn)行調(diào)整。此外，壓力傳感器418用于空間S4中的氣壓的計(jì)測(cè)。例如優(yōu)選為以使空間S4的氣壓相對(duì)于爐內(nèi)部空間的最低的氣壓更低的方式調(diào)整空間S4的氣壓。此時(shí)，優(yōu)選為以使空間S4的氣壓成為大氣壓以上的氣壓的方式進(jìn)行調(diào)整。另一方面，若空間S4的氣壓成為預(yù)定的壓力以上，則擔(dān)心空氣容易流入爐內(nèi)部空間，而影響爐內(nèi)部空間的溫度。因此，將空間S4的氣壓調(diào)整成大氣壓以上且未達(dá)預(yù)定的壓力。更具體而言，將空間S4的氣壓調(diào)整成大氣壓以上且爐內(nèi)部空間的最低的氣壓(爐內(nèi)部空間的最低氣壓)以下。例如，空間S4的氣壓優(yōu)選為0〈(空間S4的氣壓-大氣壓)，更優(yōu)選為0〈(空間S4的氣壓-大氣壓)<40Pa,進(jìn)而優(yōu)選為5Pa〈(空間S4的氣壓-大氣壓)<40Pa。通過以上述方式調(diào)整空間S4的氣壓，可減少自空間S4流入爐內(nèi)部空間的空氣。再者，送風(fēng)機(jī)421、422、423a、423b、423c、424 通過向爐外部空間 Sl、S2、S3a S3c及空間S4送入空氣，將任一空間的氣壓均調(diào)整為相對(duì)于大氣壓較高，使這些空間的氣壓相對(duì)于大氣壓較高的目的在于:防止大量的空氣自建筑物B的外部流入爐外部空間S1、S2、S3a S3c及空間S4內(nèi)，效率良好地調(diào)整爐外部空間Sl、S2、S3a S3c、S4的氣壓。此外，關(guān)于爐內(nèi)部空間中的氣壓，高度方向的位置越高氣壓越高。其原因在于:成為高溫的空氣通過上升氣流而向上方移動(dòng)。即便如上述那樣在爐內(nèi)部空間中產(chǎn)生溫度分布且產(chǎn)生氣壓分布，亦根據(jù)該氣壓分布而調(diào)整爐外部空間的氣壓。其目的在于，抑制空氣由于爐外部空間各自的氣壓與爐內(nèi)部空間的氣壓差而流入爐內(nèi)部空間的情況，并抑制空氣向爐外部空間泄漏而產(chǎn)生空氣的對(duì)流的情況。因此，爐內(nèi)部空間中，壓力傳感器設(shè)置于與分別設(shè)置于爐外部空間的壓力傳感器在高度方向上相同的位置。在如上述那樣在爐內(nèi)部空間產(chǎn)生壓力分布的情形下，優(yōu)選為將爐外部空間各自的氣壓與該爐外部空間的高度方向的相同位置上的爐內(nèi)部空間的氣壓的差調(diào)整成根據(jù)高度方向的位置而改變。例如，優(yōu)選調(diào)整成:在高度方向的相同位置上存在爐內(nèi)部空間的爐外部空間S2、S3a S3c中的最上部的爐外部空間S2與最下部的爐外部空間S3c之間進(jìn)行比較時(shí)，最上部的氣壓的差較最下部的氣壓的差大。例如，以隨著高度方向的位置變高而增大氣壓的上述差的方式設(shè)定便可。這是為了防止以下情況:由于緩冷爐的爐內(nèi)部空間中，高度方向的位置越高溫度越高，因此冷空氣流入時(shí)與玻璃帶G之間的溫度差變大，故而高度方向的位置越高，玻璃帶G的溫度的不均越大。此外，爐外部空間的氣壓優(yōu)選為高度方向的位置越高則越高，S卩，越是靠玻璃帶的流動(dòng)方向的上游側(cè)的位置越高。由此，可降低爐外部空間中沿爐壁產(chǎn)生的上升氣流的大小。即，可抑制因沿爐壁產(chǎn)生的上升氣流引起的爐壁的溫度變動(dòng)而使?fàn)t壁附近的爐內(nèi)部空間的溫度發(fā)生變動(dòng)的情況，因此亦可抑制爐內(nèi)部空間的溫度的不均。(玻璃帶的冷卻)在本實(shí)施方式中可降低玻璃板的熱收縮的不均，進(jìn)而，通過調(diào)整成形的玻璃帶的冷卻速度，不但可抑制熱收縮的不均，而且可抑制玻璃板的變形、抑制翹曲、降低熱收縮率的絕對(duì)值。具體而言，在一邊使用輥來搬送玻璃帶一邊進(jìn)行緩冷的緩冷步驟中，確定自玻璃帶的緩冷點(diǎn)溫度加150°C而得的溫度至玻璃帶的應(yīng)變點(diǎn)溫度減去200°C而得的溫度為止的溫度區(qū)域。此時(shí)，優(yōu)選為至少在上述溫度區(qū)域中，玻璃帶的寬度方向的中央部的冷卻速度較玻璃帶的兩端部的冷卻速度快，使玻璃帶自玻璃帶的寬度方向的中央部的溫度高于玻璃帶的兩端部的狀態(tài)向中央部的溫度低于兩端部的狀態(tài)變化。由此，可使拉伸應(yīng)力在玻璃帶的寬度方向的中央部沿玻璃帶的流動(dòng)方向發(fā)揮作用。通過使拉伸應(yīng)力沿玻璃帶的流動(dòng)方向發(fā)揮作用，可更進(jìn)一步抑制玻璃帶以及玻璃板的翹曲。進(jìn)而，緩冷步驟可包括第I冷卻步驟、第2冷卻步驟及第3冷卻步驟。第1冷卻步驟是以第I平均冷卻速度使玻璃帶的寬度方向的中央部的溫度冷卻至緩冷點(diǎn)溫度為止的步驟。第2冷卻步驟是以第2平均冷卻速度使玻璃帶的寬度方向的中央部的溫度自緩冷點(diǎn)溫度冷卻至應(yīng)變點(diǎn)溫度_50°C為止的步驟。
第3冷卻步驟是以第3平均冷卻速度使玻璃帶的寬度方向的中央部的溫度自應(yīng)變點(diǎn)溫度_50°C冷卻至應(yīng)變點(diǎn)溫度_200°C為止的步驟。此種情形下，優(yōu)選為第I平均冷卻速度為5°C /秒以上，第I平均冷卻速度較第3平均冷卻速度快，且第3平均冷卻速度較第2平均冷卻速度快。即，平均冷卻速度按照從高到低順序?yàn)榈贗平均冷卻速度、第3平均冷卻速度、第2平均冷卻速度。此時(shí)，第I冷卻步驟中玻璃帶的中央部的平均冷卻速度優(yōu)選為5.5°C /秒 50°C /秒。若第I冷卻步驟中玻璃帶的中央部的平均冷卻速度未達(dá)5.5°C /秒，則導(dǎo)致生產(chǎn)性降低。另一方面，若第I冷卻步驟中玻璃帶的中央部的平均冷卻速度超過50°C /秒，則用以抑制平面應(yīng)變或翹曲而進(jìn)行的玻璃帶的寬度方向的溫度分布的控制變得困難，故而欠佳。第I冷卻步驟中玻璃帶的中央部的平均冷卻速度更優(yōu)選為8°C /秒 16.50C /秒。此外，第2冷卻步驟(熱收縮降低處理步驟)中玻璃帶的平均冷卻速度優(yōu)選為
0.5 未達(dá)5.5°C /秒。若第2冷卻步驟中玻璃帶的中央部的平均冷卻速度未達(dá)0.5°C /秒，則導(dǎo)致緩冷裝置變長(zhǎng)而制造設(shè)備巨大化且生產(chǎn)性降低。另一方面，若為5.5°C /秒以上，則無法充分降低熱收縮率。第2冷卻步驟中玻璃帶的中央部的平均冷卻速度更優(yōu)選為0.5°C /秒 5.5°C /秒。另一方面，第3冷卻步驟中的玻璃帶的中央部的冷卻速度并無特別限定，優(yōu)選為
1.50C /秒 7°C /秒。若第3冷卻步驟中玻璃帶的中央部的冷卻速度未達(dá)1.50C /秒，則導(dǎo)致生產(chǎn)性降低。另一方面，若為7°C /秒以上，則有因玻璃帶過度急冷而導(dǎo)致玻璃帶破裂的可能。綜上所述，第3冷卻步驟中玻璃帶的中央部的冷卻速度優(yōu)選為1.5°C /秒 7V /秒，更優(yōu)選為2V /秒 5.5°C /秒。玻璃帶在流動(dòng)方向上的冷卻速度會(huì)對(duì)所制造的玻璃板的熱收縮造成影響。然而，通過在緩冷步驟中設(shè)定上述冷卻速度，可提高玻璃板的制造量，并可獲得具有較佳的熱收縮率的玻璃板。此種冷卻速度可通過使用設(shè)置于爐內(nèi)部空間的未圖示的加熱器控制溫度而實(shí)現(xiàn)。再者，通過在緩冷步驟后另外設(shè)置熱收縮降低處理(離線退火)步驟，亦可使熱收縮率變小。然而，若與緩冷步驟分開設(shè)置離線退火步驟，則有生產(chǎn)性降低、成本高漲的問題。因此，優(yōu)選為通過如上述那樣在緩冷步驟中實(shí)施控制玻璃板的冷卻速度的熱收縮降低處理(在線退火)，而將熱收縮率控制于預(yù)定范圍內(nèi)。即，緩冷步驟優(yōu)選包含熱收縮降低處理步驟。再者，緩冷步驟中上述第2冷卻步驟相當(dāng)于熱收縮降低處理步驟。(玻璃板)本實(shí)施方式的玻璃板所使用的玻璃例如可應(yīng)用硼硅玻璃、鋁硅玻璃、鋁硼硅玻璃、鈉鈣玻璃、堿硅玻璃、堿鋁硅玻璃、堿鋁鍺玻璃等。再者，可用于本發(fā)明的玻璃并不限定于上述。(玻璃組成1)本實(shí)施方式中所使用的玻璃板的玻璃組成例如可列舉以下玻璃組成。以下所示的組成的含有率表示為質(zhì)量％。Si02:40 70%、Al203:2 25%、B203:0 20%、
MgO:0 10%、CaO:0 15%、SrO:0 10%、BaO:0 15%、ZnO:0 10%、Zr02:0 10%、澄清劑:0 2%的無堿玻璃。(玻璃組成2)此外，亦可例示下述組成的無堿玻璃。以下括號(hào)內(nèi)的表示為各成分的優(yōu)選含有率，記載于越后者越佳。Si02:50 70% (55 65%、57 64%、58 62%)、A1203:2 25%(10 20%、12 18%、15 18%)、B203:0 20%(5 15%、6 13%、7 12%)。此時(shí)，亦可含有下述成分作為任意成分。MgO:0 10%(下限為0.01%、下限為0.5%、上限為5%、上限為4%、上限為2%)、CaO:0 20%(下限為1%、下限為3%、下限為4%、上限為9%、上限為8%、上限為7%、
上限為6%)、SrO:0 20%(下限為0.5%、下限為3%、上限為9%、上限為8%、上限為7%、上限為6%)、BaO:0 10%(上限為8%、上限為3%、上限為1%、上限為0.2%)、Zr02:0 10%(0 5%, 0 4%, 0 1%,0 0.1%)。(玻璃組成3)尤其優(yōu)選為含有:Si02:50 70%、B203:5 18%、A1203:0 25%、MgO:0 10%、CaO:0 20%、SrO:0 20%、BaO:0 10%、RO:5 20%(其中，R為選自Mg、Ca、Sr及Ba中的至少1種，且為玻璃板所含有的成分)。進(jìn)而，優(yōu)選為含有R' 20合計(jì)超過0.20%且為2.0%以下(其中，R'為選自L1、Na及K中的至少1種，且為玻璃板所含有的成分)。此外，優(yōu)選為合計(jì)含有0.05 1.5%的澄清劑，且實(shí)質(zhì)上不含有As203、Sb203及PbO。此外，玻璃中的氧化鐵的含量進(jìn)一步優(yōu)選為
0.01 0.2%(玻璃組成4)本實(shí)施方式中所使用的其它玻璃板的玻璃組成例如可列舉以下玻璃組成。通過使玻璃板成為以下所示的組成，可提高應(yīng)變點(diǎn)溫度，可進(jìn)一步降低玻璃板的熱收縮。因此，下述組成的玻璃板適合于液晶顯示器用玻璃基板或有機(jī)EL顯示器用玻璃基板，尤其適合于應(yīng)用多晶硅TFT的玻璃基板。以下所示的組成的含有率表示為質(zhì)量％。以下括號(hào)內(nèi)的表示為各成分的優(yōu)選含有率，記載于越后者越佳。Si02:57 75%、A1203:8 25%、B203:3 未達(dá) 11%、CaO:0 20%、MgO:0 15%的無堿玻璃。此時(shí)，若滿足下述算式的任一個(gè)或多個(gè)，則可維持耐失透性及熔解性，且實(shí)現(xiàn)應(yīng)變點(diǎn)溫度的提高及玻璃的輕量化，故而更適合于多晶硅TFT用玻璃基板。(Si02+A1203)/B203:8 20%(9 17%、9 15%、9 12%)SrO+BaO:0 3.3%(O 1.5%、實(shí)質(zhì)上不含有)Ca0/R0:0.65% 以上(0.8 1%、0.9 1%)(其中，R 為選自 Mg、Ca、Sr 及 Ba 中的至少I種，且為玻璃板所含有的成分)Si02+A1203:75% 以上(75 90%,79 85%)Ca0/B203:0.6% 以上(0.9 3%、1.0 2%、1.1 1.5%)再者,雖然在上述各實(shí)施方式中設(shè)為無堿玻璃，但玻璃板亦可微量地含有堿金屬。含有堿金屬的情形下，優(yōu)選為含有V 20合計(jì)超過0.20%且為2.0%以下(其中，Ri為選自L1、Na及K中的至少I種，且為玻璃板所含有的成分)。此外，優(yōu)選為合計(jì)含有0.05 1.5%的澄清劑，且實(shí)質(zhì)上不含有As203、Sb203及PbO。此外，為使玻璃容易熔解，就降低電阻率的觀點(diǎn)而言，玻璃中的氧化鐵的含有率進(jìn)一步優(yōu)選為0.01 0.2%。(玻璃組成5)作為實(shí)施化學(xué)強(qiáng)化后應(yīng)用于保護(hù)玻璃或太陽電池用玻璃板的玻璃板，例如可例示以質(zhì)量％表不含有以下成分的玻璃板。Si02:50 70% (55 65%、57 64%、57 62%)、A1203:5 20%(9 18%、12 17%)、Na20:6 30%(7 20%、8 18%、10 15%)。此時(shí)，亦可含有下述組成作為任意成分。Li20:0 8%(O 6%、0 2%、0 0.6%、0 0.4%、0 0.2%)、B203:0 5%(O 2%、0 1%、0 0.8%)、K20:0 10%(下限為1%、下限為2%、上限為6%、上限為5%、上限為4%)。MgO:0 10%(下限為1%、下限為2%、下限為3%、下限為4%、上限為9%、上限為8%、上限為7%)、CaO:0 20%(下限為0.1%、下限為1%、下限為2%、上限為10%、上限為5%、上限為
4%、上限為3%)、Zr02:0 10%(O 5%, O 4%, O 1%,0 0.1%)。
(玻璃組成6)近年來，為進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)平板顯示器組裝的高精細(xì)化，需要使用多晶硅(低溫多晶娃)TFT或氧化物半導(dǎo)體而非使用非晶娃TFT (Thin Film Transistor)的平板顯示器。此處，在使用多晶硅TFT或氧化物半導(dǎo)體的平板制造步驟中，存在比使用非晶硅TFT的平板制造步驟高溫的熱處理步驟。因此，對(duì)于形成多晶硅TFT或氧化物半導(dǎo)體的玻璃板，要求熱收縮率較小。為降低熱收縮率，優(yōu)選使玻璃板的緩冷條件及玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度提高。尤其是，對(duì)于多晶硅TFT或氧化物半導(dǎo)體，優(yōu)選為玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度為675°C以上(應(yīng)變點(diǎn)溫度675°C 750°C )的玻璃板，進(jìn)而優(yōu)選為應(yīng)變點(diǎn)溫度為680°C以上(應(yīng)變點(diǎn)溫度680°C 750℃ )的玻璃板，特別優(yōu)選為應(yīng)變點(diǎn)溫度為690°C以上(應(yīng)變點(diǎn)溫度690°C 750°C )的玻璃板。作為玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度為675°C以上的玻璃板的組成，例如可例示以質(zhì)量％表示含有以下成分的玻璃板。Si02:52 78%、A1203:3 25%、B203:3 15%、R0(其中，RO為MgO、CaO、SrO及BaO中的、玻璃板所含有的總成分的合量):3 20%、質(zhì)量比(Si02+A1203)/B203為7 20的范圍的玻璃板。此種情形下，就輕量化及降低熱膨脹系數(shù)的觀點(diǎn)而言，SrO及BaO的合計(jì)含有率優(yōu)選為未達(dá)8質(zhì)量％。SrO及BaO的合計(jì)含有率優(yōu)選為0 7%，更優(yōu)選為0 5%，進(jìn)而優(yōu)選為0 3%，更進(jìn)一步優(yōu)選為0 1%，尤其，在降低玻璃板的密度的情形下，優(yōu)選為實(shí)質(zhì)上不含有SrO及BaO。所謂實(shí)質(zhì)上不含有，是指并不有意地含有，但不排除SrO及BaO不可避免地作為雜質(zhì)而混入。進(jìn)而，為進(jìn)一步提高應(yīng)變點(diǎn)溫度，質(zhì)量比(Si02+A1203)/R0優(yōu)選為7.5以上。進(jìn)而，為提高應(yīng)變點(diǎn)溫度，優(yōu)選將β -OH值設(shè)為0.1 0.3 [mm-1]。另一方面，在熔解時(shí)為使電流不流經(jīng)熔解槽201而非熔融玻璃，就降低玻璃的電阻率的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為玻璃板含有R20(其中，R20為L(zhǎng)i20、Na20及K20中的、玻璃板所含有的總成分的合量)0.01 0.8質(zhì)量％?；蛘?，為降低玻璃的電阻率，優(yōu)選含有0.01 1質(zhì)量％的Fe203。進(jìn)而，為實(shí)現(xiàn)高應(yīng)變點(diǎn)溫度且防止失透溫度的上升，玻璃板的Ca0/R0優(yōu)選設(shè)為0.65以上。通過將失透溫度設(shè)為1250°C以下，可實(shí)現(xiàn)溢流下拉法的應(yīng)用。此外，若考慮應(yīng)用于移動(dòng)通信終端之類的移動(dòng)設(shè)備等中，則就輕量化的觀點(diǎn)而言，SrO及BaO的合計(jì)含有率優(yōu)選為0%以上且未達(dá)2%。(各成分的說明)Si02是構(gòu)成玻璃板的玻璃的骨架的成分，具有提高玻璃的化學(xué)耐久性及應(yīng)變點(diǎn)溫度的效果。在Si02的含有率過低的情形下，無法充分獲得化學(xué)耐久性及耐熱性的效果。進(jìn)而，應(yīng)變點(diǎn)溫度降低，熱膨脹系數(shù)增大，故而熱收縮率變大。若Si02的含有率過高，則容易引起玻璃的失透，使成形困難，并且使黏性上升而使得玻璃的均質(zhì)化變得困難。此外，由于會(huì)增大玻璃的電阻率，故而使熔解困難。A1203是構(gòu)成玻璃的骨架的成分，具有提高玻璃的化學(xué)耐久性及應(yīng)變點(diǎn)溫度的效果。此外，具有提高蝕刻速度的效果。在A1203的含有率過低的情形下，無法充分獲得玻璃的化學(xué)耐久性及耐熱性的效果。此外，會(huì)使應(yīng)變點(diǎn)溫度及楊氏模量降低。另一方面，若A1203的含有率過高，則使玻璃的黏性上升而使熔解困難，并且耐酸性下降。此外，由于會(huì)增大玻璃的電阻率，故而使熔解困難。B203是降低玻璃的黏性、并促進(jìn)玻璃的熔解及澄清的成分。若B203的含有率過低，則熔解困難，此外，玻璃的耐酸性降低。此外，耐失透性降低，熱膨脹系數(shù)增加。另一方面，若B203的含有率過高，則應(yīng)變點(diǎn)溫度降低，因此耐熱性降低。此外，楊氏模量降低。此外，由于玻璃熔解時(shí)B203的揮發(fā)，導(dǎo)致玻璃的不均質(zhì)變得顯著而容易產(chǎn)生條紋。MgO及CaO是降低玻璃的黏性、并促進(jìn)玻璃的熔解及澄清的成分。此外，由于Mg及Ca在堿土金屬中使玻璃的密度上升的比率較小，故而是有利于使所獲得的玻璃輕量化并且提高熔解性的成分。但是，若該MgO及CaO的含有率過高，則應(yīng)變點(diǎn)溫度降低。進(jìn)而，玻璃的化學(xué)耐久性降低。再者，CaO是在不降低電阻率、不使玻璃的失透溫度急遽上升的情況下提高玻璃的熔解性方面有效的成分。因此，優(yōu)選為使高應(yīng)變點(diǎn)溫度的玻璃中含有CaO。此夕卜，由于MgO會(huì)使玻璃的失透溫度上升，故而在降低失透溫度的情形下，優(yōu)選為實(shí)質(zhì)上不含有 MgO。SrO及BaO為降低玻璃的黏性、并促進(jìn)玻璃的熔解及澄清的成分。此外，它們亦是提高玻璃原料的氧化性并提高澄清性的成分。但是，若SrO及BaO的含有率過高，則玻璃的密度上升而無法實(shí)現(xiàn)玻璃板的輕量化，并且玻璃的化學(xué)耐久性降低。再者，為了減輕環(huán)境負(fù)擔(dān)，優(yōu)選為實(shí)質(zhì)上不含有BaO。再者，在本說明書中，所謂實(shí)質(zhì)上不含有BaO，是指未達(dá)0.01%質(zhì)量，且除雜質(zhì)以外不有意地含有。Li20、Na20及K20是使玻璃的黏度降低、并提高玻璃的熔解性或成形性的成分。在Li20、Na20或K20的含有率過低的情形下，玻璃的熔解性降低，用于熔解的成本提高。另一方面，若Li20、Na20或K20的含有率變得過高，則會(huì)產(chǎn)生由玻璃平衡的惡化引起的耐失透性降低。再者，由于Li20、Na20、K20是有可能自玻璃溶出而使TFT的特性變差、并且增大玻璃的熱膨脹系數(shù)而在熱處理時(shí)使基板破損的成分，因此在用作液晶顯示器用玻璃基板或有機(jī)EL顯示器用玻璃基板的情形下，優(yōu)選為實(shí)質(zhì)上不含有Li20、Na20、K20。然而，通過在玻璃中有意含有預(yù)定量的上述成分，可將TFT的特性的變差或玻璃的熱膨脹抑制于固定范圍內(nèi)，并提高玻璃的堿性度，使價(jià)數(shù)變動(dòng)的金屬容易氧化，而發(fā)揮澄清性。因此，Li20、Na20、K20的合量為O 2.0%，更優(yōu)選為0.1 1.0%，進(jìn)而優(yōu)選為0.2 0.5%。再者，優(yōu)選為不含有Li20、Na20，而含有上述成分中最不易自玻璃溶出而使TFT的特性變差的K20。K20的含有率為O 2.0%，更優(yōu)選為0.1 1.0%，進(jìn)而優(yōu)選為0.2 0.5%。Zr02是提高玻璃的失透溫度附近的黏性或應(yīng)變點(diǎn)溫度的成分。此外，Zr02亦是提高玻璃的耐熱性的成分。然而，若Zr02的含有率過高，則失透溫度上升，耐失透性降低。Τ 02是降低玻璃的高溫黏度的成分。然而，若Ti02的含有率過高，則耐失透性降低。進(jìn)而，會(huì)使玻璃著色，而不宜用于電子設(shè)備的顯示畫面的保護(hù)玻璃等。此外，由于玻璃著色而使紫外線穿透率降低，因此在進(jìn)行使用了紫外線硬化樹脂的處理的情形下，會(huì)產(chǎn)生紫外線硬化樹脂無法充分硬化這一問題?？稍诓ＡО宓牟Ａе刑砑映吻鍎┳鳛槭共Ａе械臍馀菹莸某煞帧Ｗ鳛槌吻鍎?，只要為環(huán)境負(fù)擔(dān)較小、玻璃的澄清性方面優(yōu)異者，則并無特別限制，例如可列舉出選自氧化錫、氧化鐵、氧化鈰、氧化鋱、氧化鑰及氧化鎢等金屬氧化物中的至少I種。再者，As203、Sb203及PbO是具有在熔融玻璃中產(chǎn)生與價(jià)數(shù)變動(dòng)相伴的反應(yīng)而使玻璃澄清的效果的物質(zhì)，但由于As203、Sb203及PbO是環(huán)境負(fù)擔(dān)較大的物質(zhì)，故而優(yōu)選為實(shí)質(zhì)上不含有。再者，在本說明書中，所謂實(shí)質(zhì)上不含有AS203、Sb203及Pb0，是指未達(dá)0.01%質(zhì)量，且除雜質(zhì)以外不有意地含有。本實(shí)施方式的玻璃板的厚度例如為0.1mm 1.5mm。優(yōu)選為0.1 1.2mm,更優(yōu)選為0.3 1.0mm,進(jìn)而更優(yōu)選為0.3 0.8mm,特別優(yōu)選為0.3 0.5mm。此處,玻璃板越薄則玻璃的潛熱越小，故而成形爐40及緩冷爐50中的玻璃溫度分布的控制越難。因此，通過對(duì)厚度0.5mm以下的玻璃板使用可使?fàn)t內(nèi)部空間的溫度穩(wěn)定化的本實(shí)施方式的方法，抑制玻璃板的變形、翹曲、平面應(yīng)變的不均及熱收縮的不均等的效果較大。本實(shí)施方式的玻璃板寬度方向的長(zhǎng)度例如為500mm 3500mm，優(yōu)選為IOOOmm 3500mm,更優(yōu)選為2000mm 3500mm。另一方面，玻璃板縱方向的長(zhǎng)度也例如為500mm 3500mm,優(yōu)選為 1000mm 3500mm,更優(yōu)選為 2000mm 3500mm。再者，若玻璃板大型化，則玻璃制造裝置亦對(duì)應(yīng)于玻璃板的大小而大型化。S卩，若玻璃板大型化，則包括成形爐40和緩冷爐50的爐亦大型化。因此，爐內(nèi)部空間變大,低溫的空氣自爐外部空間流入爐內(nèi)部空間時(shí)，對(duì)玻璃帶G的冷卻造成的影響在玻璃帶G的寬度方向上不同。因此，有與玻璃帶G的緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度對(duì)應(yīng)的區(qū)域在玻璃帶G的寬度方向上不穩(wěn)定、玻璃帶G通過上述緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度的時(shí)間不穩(wěn)定的情形。其結(jié)果是，玻璃帶G的熱收縮亦在寬度方向上產(chǎn)生不均。因此，在玻璃板的寬度方向的長(zhǎng)度為2000mm以上的情形下，本實(shí)施方式的效果，S卩，抑制玻璃板的變形、翹曲、平面應(yīng)變的不均及熱收縮的不均等的效果變大。進(jìn)而，玻璃板的寬度方向的長(zhǎng)度越是在2500mm以上、3000mm以上，則本實(shí)施方式的效果越發(fā)顯著。(玻璃板的特性:熱收縮率)本實(shí)施方式所制造的玻璃板在550°C的溫度環(huán)境下放置了 2小時(shí)的時(shí)候的熱收縮率為IlOppm以下、80ppm以下、50ppm以下，優(yōu)選為40ppm以下，更優(yōu)選為35ppm以下，進(jìn)而優(yōu)選為30ppm以下，特別優(yōu)選為20ppm以下。尤其是，對(duì)于用以形成多晶硅TFT的玻璃板，優(yōu)選為50ppm以下。再者，熱收縮率根據(jù)熱收縮量/初始的長(zhǎng)度XlO6(PPm)而算出。作為熱收縮率的測(cè)定方法，可例示以下方法。1.使用金剛石筆在玻璃板的兩端劃出平行的劃線。2.沿相對(duì)于劃線垂直的方向?qū)⒉ＡО鍖?duì)半切斷，對(duì)其中一塊進(jìn)行熱處理(上述中為以550°C處理2小時(shí))。3.將熱處理后的玻璃板與另一玻璃板對(duì)接，并測(cè)定劃線的偏移量。(玻璃板的特性:熱收縮率的不均)尤其在顯示器的制作中在玻璃板上形成TFT的情形下，熱收縮率的不均較熱收縮率的高低更容易成為顯示器面板的顯示不良的原因。就該方面而言，抑制熱收縮率的不均很重要。再者，玻璃板的熱收縮率的不均優(yōu)選為±3.05%以下。此處所謂熱收縮率的不均，是指通過上述方法在玻璃板的寬度方向的3個(gè)部位的位置(例如，中央部的位置及寬度方向的兩端部附近的位置)測(cè)定了熱收縮率時(shí)，這些位置的測(cè)定值相對(duì)于它們的平均值變動(dòng)的上限(+)及下限(_)。 該玻璃板的熱收縮的不均優(yōu)選為±3.0%以下，更優(yōu)選為±2.85%以下，進(jìn)而優(yōu)選為±2.7%以下，進(jìn)而優(yōu)選為±2.65%以下。尤其，在選擇降低熱收縮率的玻璃組成而制造出的高應(yīng)變點(diǎn)玻璃中，熱收縮率的不均優(yōu)選為±3.0%以下。優(yōu)選為±2.8%以下，更優(yōu)選為±2.7%以下，進(jìn)而優(yōu)選為±2.6%以下。此處，在本說明書中，所謂高應(yīng)變點(diǎn)玻璃是表示應(yīng)變點(diǎn)溫度為680°C以上的玻璃。(玻璃板的特性:平面應(yīng)變)此外,玻璃板的平面應(yīng)變的最大值(遲滯值的最大值)優(yōu)選為1.7nm以下。優(yōu)選為1.3nm以下,更優(yōu)選為1.0nm以下,進(jìn)而優(yōu)選為0.7nm以下。再者,平面應(yīng)變例如通過uniopt公司制造的雙折射測(cè)定裝置而測(cè)定。此處，由于液晶顯示器需要高精度的組裝，故而可降低玻璃板的平面應(yīng)變的本實(shí)施方式的方法尤其適合用于液晶顯示器用玻璃基板的制造。(玻璃板:翹曲)利用以下方法對(duì)玻璃板的翹曲進(jìn)行了測(cè)定的情形下，翹曲的最大值為O至0.2mm的范圍，優(yōu)選為O 0.15mm,更優(yōu)選為O 0.1mm以下,進(jìn)而優(yōu)選為O 0.05mm以下,特別優(yōu)選為O 0.05mm以下。翹曲的測(cè)定為:1.首先，自玻璃板切出多片小板(約400mm見方的矩形板)。2.其次，針對(duì)各小板，分別在正反面測(cè)定角部4個(gè)部位與中央部4個(gè)部位的翹曲(即，測(cè)定合計(jì)16個(gè)部位的翹曲)。例如，在測(cè)定了 8片小板的翹曲的情形下，獲得16個(gè)部位X8片即128個(gè)部位的翹曲的測(cè)定數(shù)據(jù)。3.確認(rèn)上述2中所獲得的測(cè)定數(shù)據(jù)中的最大值是否處于上述范圍。再者，在本實(shí)施方式中，將在多個(gè)小板中測(cè)定出的翹曲的最大值作為玻璃板的翹曲。實(shí)驗(yàn)I為確認(rèn)本實(shí)施方式的效果，對(duì)玻璃板的制造方法進(jìn)行各種變更來制造玻璃板，進(jìn)而，在與制作液晶顯示器時(shí)相同的條件下進(jìn)行熱處理，利用上述方法測(cè)得熱收縮率及平面應(yīng)變，進(jìn)而求得各者的熱收縮率的不均。1.實(shí)施例1以使?fàn)t內(nèi)部空間中玻璃帶G的溫度為緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度的區(qū)域、與對(duì)應(yīng)于該區(qū)域的高度方向的相同位置的爐外部空間的氣壓差成為5Pa(詳細(xì)而言為3 7Pa)的方式調(diào)整爐外部空間的氣壓。制造的玻璃板為液晶顯示器用玻璃基板，大小為2200_X2500mm，厚度為0.7_。玻璃板的玻璃組成如下所述。含有率以質(zhì)量％表示。Si02 60%A1203 19.5%B203 10%CaO 5%SrO 5%Sn02 0.5%2.實(shí)施例2與實(shí)施例1同樣地， 以使?fàn)t內(nèi)部空間中玻璃帶G的溫度為緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度的區(qū)域、與對(duì)應(yīng)于該區(qū)域的高度位置的爐外部空間的氣壓差成為5Pa(詳細(xì)而言為3 7Pa)的方式調(diào)整爐外部空間的氣壓。制造的玻璃板的厚度與實(shí)施例1相同，但玻璃組成如下所述(含有率以質(zhì)量％表示)。再者，玻璃板的大小為1100_X 1300_。該玻璃板被用作形成多晶硅TFT的液晶顯不器用玻璃基板。Si02 66%Al203 17.5%B203 7.5%CaO 8.5%Sn02 0.5%3.實(shí)施例3爐內(nèi)部空間中玻璃帶G的溫度為緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度的區(qū)域、與對(duì)應(yīng)于該區(qū)域的高度位置的爐外部空間的氣壓差為20Pa(詳細(xì)而言為18 22Pa)，除此以外以與實(shí)施例I同樣的方法進(jìn)行液晶顯示器用玻璃基板的制造。4.實(shí)施例4爐內(nèi)部空間中玻璃帶G的溫度為緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度的區(qū)域、與對(duì)應(yīng)于該區(qū)域的高度位置的爐外部空間的氣壓差為20Pa(詳細(xì)而言為18 22Pa)，除此以外以與實(shí)施例2同樣的方法進(jìn)行形成多晶硅TFT的液晶顯示器用玻璃基板的制造。5.實(shí)施例5爐內(nèi)部空間中玻璃帶G的溫度為緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度的區(qū)域、與對(duì)應(yīng)于該區(qū)域的高度位置的爐外部空間的氣壓差為35Pa (詳細(xì)而言為33 37Pa)，除此以外以與實(shí)施例I同樣的方法進(jìn)行液晶顯示器用玻璃基板的制造。6.實(shí)施例6爐內(nèi)部空間中玻璃帶G的溫度為緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度的區(qū)域、與對(duì)應(yīng)于該區(qū)域的高度位置的爐外部空間的氣壓差為35Pa (詳細(xì)而言為33 37Pa)，除此以外以與實(shí)施例2同樣的方法進(jìn)行形成多晶硅TFT的液晶顯示器用玻璃基板的制造。7.實(shí)施例7爐內(nèi)部空間中玻璃帶G的溫度為緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度的區(qū)域、與對(duì)應(yīng)于該區(qū)域的高度位置的爐外部空間的氣壓差為60Pa (詳細(xì)而言為55 65Pa)，除此以外以與實(shí)施例I同樣的方法進(jìn)行液晶顯示器用玻璃基板的制造。8.比較例爐內(nèi)部空間中玻璃帶G的溫度為緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度的區(qū)域、與對(duì)應(yīng)于該區(qū)域的高度位置的爐外部空間的氣壓差為_5Pa(詳細(xì)而言為-6 -4Pa)(即，與玻璃帶G的溫度為緩冷點(diǎn)溫度 應(yīng)變點(diǎn)溫度的區(qū)域相比，對(duì)應(yīng)于該區(qū)域的高度位置的爐外部空間的氣壓較高)， 除此以外以與實(shí)施例1同樣的方法進(jìn)行液晶顯示器用玻璃基板的制造。下述表I表示實(shí)施例1 7及比較例的評(píng)價(jià)結(jié)果。[表 I]
權(quán)利要求
1.一種玻璃板的制造方法，其特征在于，上述玻璃板的制造方法是利用下拉法的玻璃板的制造方法，且上述玻璃板的制造方法包括: 熔解步驟，在該熔解步驟中，熔解玻璃原料而獲得熔融玻璃； 成形步驟，在該成形步驟中，將上述熔融玻璃供給至設(shè)置于成形爐內(nèi)的成形體來成形玻璃帶，并形成上述玻璃帶的帶流； 緩冷步驟，在該緩冷步驟中，利用設(shè)置于緩冷爐內(nèi)的輥牽弓I上述玻璃帶，使上述玻璃帶在上述緩冷爐內(nèi)冷卻；以及 切斷步驟，在該切斷步驟中，在切斷空間內(nèi)切斷經(jīng)冷卻的上述玻璃帶， 在將設(shè)置有上述成形體的上述成形爐的內(nèi)部空間以及設(shè)置有上述輥的上述緩冷爐的內(nèi)部空間作為爐內(nèi)部空間、將上述成形爐以及上述緩冷爐的外部空間作為爐外部空間時(shí)，上述爐外部空間為相對(duì)于大氣壓環(huán)境以隔離壁分隔開的空間，以使上述爐外部空間的至少一部分的氣壓比上述玻璃帶的流動(dòng)方向的相同位置處的上述爐內(nèi)部空間的氣壓低的方式進(jìn)行氣壓的調(diào)整。
2.如權(quán)利要求1所述的玻璃板的制造方法，其中， 將氣壓調(diào)整成:在上述緩冷爐內(nèi)的對(duì)應(yīng)于上述玻璃帶的緩冷點(diǎn)溫度的位置與上述緩冷爐內(nèi)的對(duì)應(yīng)于上述玻璃帶的應(yīng)變點(diǎn)溫度的位置之間的區(qū)域，上述爐外部空間的氣壓比上述爐內(nèi)部空間的相同位置處的氣壓低。
3.如權(quán)利要求1或2所述的玻璃板的制造方法，其中， 關(guān)于上述爐外部空間的上述至少一部分的氣壓，在上述玻璃帶的流動(dòng)方向的相同位置，上述爐內(nèi)部空間的氣壓與上述爐外部空間的氣壓的差為40Pa以下。
4.如權(quán)利要求1 3中的任一項(xiàng)所述的玻璃板的制造方法，其中， 上述爐外部空間的氣壓被調(diào)整成比大氣壓高。
5.如權(quán)利要求1 4中的任一項(xiàng)所述的玻璃板的制造方法，其中， 上述爐外部空間包括相對(duì)于上述成形爐的上述內(nèi)部空間的頂面位于上方的上部空間，對(duì)于上述上部空間，上述上部空間的氣壓被調(diào)整成使空氣不會(huì)自上述上部空間流入上述爐內(nèi)部空間。
6.如權(quán)利要求1 5中的任一項(xiàng)所述的玻璃板的制造方法，其中， 上述玻璃帶的流動(dòng)方向?yàn)殂U垂方向， 上述成形爐相對(duì)于上述緩冷爐設(shè)置于鉛垂上方， 上述爐外部空間在鉛垂方向上被分成多個(gè)部分空間， 將氣壓調(diào)整成:在上述部分空間中的最上部的部分空間與最下部的部分空間之間對(duì)上述部分空間各自的氣壓與該部分空間的鉛垂方向的相同位置處的上述爐內(nèi)部空間的氣壓的差進(jìn)行比較時(shí)，上述最上部的上述差比上述最下部的上述差大。
7.如權(quán)利要求6所述的玻璃板的制造方法，其中， 上述部分空間的上述氣壓的上述差越向上方越大。
8.如權(quán)利要求1 7中的任一項(xiàng)所述的玻璃板的制造方法，其中， 上述玻璃板為在表面形成薄膜晶體管的液晶顯示器用玻璃基板。
9.一種玻璃板的制造裝置，其特征在于，所述玻璃板的制造裝置是利用下拉法的玻璃板的制造裝置，且所述玻璃板的制造裝置包括:熔解裝置，其用于熔解玻璃原料而獲得熔融玻璃； 成形裝置，其用于將上述熔融玻璃供給至設(shè)置于成形爐內(nèi)的成形體來成形玻璃帶，且形成上述玻璃帶的帶流，并利用設(shè)置于緩冷爐內(nèi)的輥牽引上述玻璃帶，使上述玻璃帶在上述緩冷爐內(nèi)冷卻；以及 切斷裝置，其用于在切斷空間內(nèi)切斷經(jīng)冷卻的上述玻璃帶， 在將設(shè)置有上述成形體的上述成形爐的內(nèi)部空間以及設(shè)置有上述輥的上述緩冷爐的內(nèi)部空間作為爐內(nèi)部空間、將上述成形爐以及上述緩冷爐的外部空間作為爐外部空間時(shí)，上述爐外部空間為相對(duì)于大氣壓環(huán)境以隔離壁分隔開的空間，在上述成形裝置設(shè)置有氣壓控制裝置，上述氣壓控制裝置以使上述爐外部空間的至少一部分的氣壓比上述玻璃帶的流動(dòng)方向的相同位置處的上述爐內(nèi)部空間的氣壓低的方式進(jìn)行氣壓的調(diào)整。
10.如權(quán)利要求9所述的玻璃板的制造裝置，其中， 上述氣壓控制裝置是為了 控制上述爐外部空間的氣壓而在與上述外部空間之間對(duì)空氣的流入進(jìn)行調(diào)整的裝置。
全文摘要
玻璃板的制造方法包括熔解步驟，在熔解步驟中，熔解玻璃原料而獲得熔融玻璃；成形步驟，在成形步驟中，將上述熔融玻璃供給至設(shè)置于成形爐內(nèi)的成形體來成形玻璃帶，并形成上述玻璃帶的帶流；緩冷步驟，在緩冷步驟中，利用設(shè)置于緩冷爐內(nèi)的輥牽引上述玻璃帶使其在上述緩冷爐內(nèi)冷卻；及切斷步驟，在切斷步驟中，在切斷空間內(nèi)切斷經(jīng)冷卻的上述玻璃帶。在將上述成形爐的內(nèi)部空間及上述緩冷爐的內(nèi)部空間作為爐內(nèi)部空間、將上述成形爐及上述緩冷爐的外部空間作為爐外部空間時(shí)，上述爐外部空間為相對(duì)于大氣壓環(huán)境以隔離壁分隔開的空間。以使上述爐外部空間的至少一部分的氣壓比上述玻璃帶的流動(dòng)方向的相同位置的上述爐內(nèi)部空間的氣壓低的方式調(diào)整上述爐外部空間的氣壓。
文檔編號(hào)C03B17/06GK103108840SQ201280002970
公開日2013年5月15日 申請(qǐng)日期2012年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月30日
發(fā)明者苅谷浩幸, 中島公彥 申請(qǐng)人:安瀚視特控股株式會(huì)社, 安瀚視特韓國(guó)有限公司