專利名稱：一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用型新涉及一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件屬建筑領(lǐng)域，墻體調(diào)整構(gòu)件保證了由墻體構(gòu)件組成的墻體的水平高度一致。
背景技術(shù)：
墻體通常用磚塊粘接疊徹而成，也有些是用水泥或鋼筋水泥制成，該兩種制作方法廢料、耗工時(shí)、成本高，不適合非主體墻?，F(xiàn)代的建筑采用預(yù)制的墻體構(gòu)件，構(gòu)件間采用不同的對應(yīng)的結(jié)合結(jié)構(gòu)連結(jié)，由于但是墻體構(gòu)件的積累誤差，墻體表面的高度不會在一個(gè)水平上，所以需要可調(diào)整的結(jié)構(gòu)件。
發(fā)明內(nèi)容·[0003]本實(shí)用新型一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件，其目的是解墻體構(gòu)件連接所產(chǎn)生的積累誤差。本實(shí)用新型一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件，其目的是解墻體構(gòu)件連接所產(chǎn)生的積累誤差。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是在墻體構(gòu)件的高度方向上留下一個(gè)梯級，在這梯級平面可以填上墻體材料，以使該墻體高度一致。一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件，包括正方體或長方體，由四個(gè)側(cè)面和二個(gè)正面組成，其特征在于正方體或長方體有一側(cè)面分為高平面一和低平面二，與低平面二接觸的側(cè)面有側(cè)槽，與低平面對應(yīng)的側(cè)面有側(cè)槽。上述的一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件，其特征在于所述的三個(gè)側(cè)面的側(cè)槽相通。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，高低平面有足夠的高度差來補(bǔ)償墻體構(gòu)件形成的積累誤差，使用方便，易操作，節(jié)省施工時(shí)間、原材料，可工業(yè)化生產(chǎn)。上述的一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件，其特征在于所述的三個(gè)側(cè)面的側(cè)槽相通。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，高低平面有足夠的高度差來補(bǔ)償墻體構(gòu)件形成的積累誤差，使用方便，易操作，節(jié)省施工時(shí)間、原材料，可工業(yè)化生產(chǎn)。
圖I是一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件主視圖；圖2是一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件俯視圖；圖3是一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件右視圖；圖4是一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件立體圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)以具體例子說明本方案，圖1-4顯示出一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件，它是一個(gè)長方體，長方體的上側(cè)面分為高平面一 I和低平面二 2，低平面二 2 二邊有側(cè)槽一 3及側(cè)槽二4，底面有側(cè)槽三5，側(cè)槽一 3、側(cè)槽二 4和側(cè)槽三5相通。使用時(shí)，該墻體構(gòu)件與其他墻體構(gòu)件相互粘結(jié)，成為墻體。
權(quán)利要求1.一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件，包括正方體或長方體，由四個(gè)側(cè)面和二個(gè)正面組成，其特征在于正方體或長方體有一側(cè)面由高平面一(I)和低平面二( 2 )組成，與低平面二( 2 )接觸的側(cè)面有側(cè)槽一(3 )、側(cè)槽二( 4 )，與低平面二( 2 )對應(yīng)的側(cè)面有側(cè)槽三(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件，其特征在于所述的三個(gè)側(cè)面的側(cè)槽一(3)、側(cè)槽二(4)和側(cè)槽(5)相通。
專利摘要本實(shí)用型新涉及一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件，屬建筑領(lǐng)域，適用于建筑構(gòu)件之間相互扣接連成一墻體，墻體調(diào)整構(gòu)件保證了由墻體構(gòu)件組成的墻體的水平高度一致。其目的是解墻體構(gòu)件連接所產(chǎn)生的積累誤差一種建筑用墻體調(diào)整構(gòu)件，包括正方體或長方體，其特征在于正方體或長方體有一側(cè)面為高低二平面，其余的三個(gè)側(cè)面有側(cè)槽，即是低二平面二邊的側(cè)槽及底面的側(cè)槽。
文檔編號E04C1/39GK202577726SQ201120533028
公開日2012年12月5日 申請日期2011年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月19日
發(fā)明者鄧國華 申請人:鄧國華