專利名稱：蝕刻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種蝕刻裝置，尤其涉及一種用于對(duì)玻璃進(jìn)行蝕刻的蝕刻裝置。
背景技術(shù)：
玻璃加工過程中經(jīng)常涉及對(duì)玻璃表面進(jìn)行蝕刻處理，一般蝕刻裝置包括多個(gè)并排設(shè)置的噴嘴，噴嘴下方并排豎直固定地設(shè)置多塊玻璃。蝕刻時(shí)，蝕刻液沿玻璃側(cè)面基本勻速地向玻璃底部流去。然而，上述蝕刻裝置僅適用于蝕刻平板玻璃，如需蝕刻曲面玻璃時(shí)，由于曲面玻璃側(cè)面曲率不規(guī)則變化，使蝕刻液的流速不均勻，蝕刻液在曲面玻璃表面的停留時(shí)間不一致,從而導(dǎo)致曲面玻璃蝕刻不均勻。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上內(nèi)容，有必要提供一種可均勻蝕刻曲面玻璃的蝕刻裝置。一種蝕刻裝置，其包括基體及儲(chǔ)液件，儲(chǔ)液件安裝于基體上，儲(chǔ)液件開設(shè)有用于收容蝕刻液的容納孔。儲(chǔ)液件的側(cè)面還開設(shè)有與容納孔連通的噴射孔，蝕刻液從噴射孔噴射而出。蝕刻裝置還包括轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于基體上的轉(zhuǎn)動(dòng)件，且轉(zhuǎn)動(dòng)件與儲(chǔ)液件的側(cè)面相對(duì)設(shè)置。采用上述蝕刻裝置蝕刻曲面玻璃時(shí)，由于轉(zhuǎn)動(dòng)件帶動(dòng)曲面玻璃轉(zhuǎn)動(dòng),蝕刻液可從各個(gè)角度噴射至曲面玻璃上，使曲面玻璃均勻地受到蝕刻液的蝕刻，從而避免了由于曲面玻璃表面不規(guī)則，使蝕刻液的流速不均勻而導(dǎo)致蝕刻不均勻。


圖I是本發(fā)明實(shí)施方式的裝設(shè)有曲面玻璃的蝕刻裝置的立體組裝示意圖。圖2是圖I所示的裝設(shè)有曲面玻璃的蝕刻裝置的立體分解圖。圖3是沿圖I中III-III線的剖視圖。主要元件符號(hào)說明
權(quán)利要求
1.一種蝕刻裝置，其包括基體及儲(chǔ)液件，所述儲(chǔ)液件安裝于所述基體上，所述儲(chǔ)液件開設(shè)有用于收容蝕刻液的容納孔，其特征在于所述儲(chǔ)液件的側(cè)面還開設(shè)有與所述容納孔連通的噴射孔，所述蝕刻液從所述噴射孔噴射而出，所述蝕刻裝置還包括轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于所述基體上的轉(zhuǎn)動(dòng)件，且所述轉(zhuǎn)動(dòng)件與所述儲(chǔ)液件的側(cè)面相對(duì)設(shè)置。
2.如權(quán)利要求I所述的蝕刻裝置，其特征在于所述儲(chǔ)液件包括收容部，所述收容部包括遠(yuǎn)離所述基體的第一端面，所述第一端面與所述側(cè)面相連接，所述容納孔開設(shè)于所述第一端面，所述噴射孔的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述噴射孔圍繞所述容納孔開設(shè)。
3.如權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置，其特征在于所述收容部呈圓柱體，所述容納孔沿軸向延伸，所述噴射孔沿徑向延伸。
4.如權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置，其特征在于多個(gè)所述噴射孔呈規(guī)則排布。
5.如權(quán)利要求4所述的蝕刻裝置，其特征在于多個(gè)所述噴射孔形成層狀結(jié)構(gòu)，且多個(gè) 所述噴射孔每一層所在的平面與所述第一端面平行。
6.如權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置，其特征在于所述儲(chǔ)液件還包括與所述收容部的第一端面連接的端蓋部，所述端蓋部開設(shè)有連通孔，所述連通孔與所述容納孔連接，所述蝕刻裝置還包括空氣壓縮機(jī)，所述空氣壓縮機(jī)與所述連通孔相連接。
7.如權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置，其特征在于所述轉(zhuǎn)動(dòng)件的數(shù)量為多個(gè)，且多個(gè)所述轉(zhuǎn)動(dòng)件圍繞所述儲(chǔ)液件設(shè)置。
8.如權(quán)利要求I所述的蝕刻裝置，其特征在于所述儲(chǔ)液件可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于所述基體上。
9.如權(quán)利要求I所述的蝕刻裝置，其特征在于所述轉(zhuǎn)動(dòng)件包括主體及設(shè)置于所述主體的側(cè)面上且與所述噴射孔相對(duì)的多個(gè)吸盤或卡合結(jié)構(gòu)。
10.如權(quán)利要求9所述的蝕刻裝置，其特征在于所述轉(zhuǎn)動(dòng)件還包括轉(zhuǎn)動(dòng)軸，所述基體上開設(shè)有安裝孔，所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸穿過所述安裝孔將所述主體可轉(zhuǎn)動(dòng)地固定于所述基體上。
全文摘要
一種蝕刻裝置，其包括基體及儲(chǔ)液件，儲(chǔ)液件安裝于基體上，儲(chǔ)液件開設(shè)有用于收容蝕刻液的容納孔。儲(chǔ)液件的側(cè)面還開設(shè)有與容納孔連通的噴射孔，蝕刻液從噴射孔噴射而出。蝕刻裝置還包括轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于基體上的轉(zhuǎn)動(dòng)件，且轉(zhuǎn)動(dòng)件與儲(chǔ)液件的側(cè)面相對(duì)設(shè)置。采用上蝕刻裝置蝕刻曲面玻璃時(shí)，由于轉(zhuǎn)動(dòng)件帶動(dòng)曲面玻璃轉(zhuǎn)動(dòng)，蝕刻液可從各個(gè)角度噴射至曲面玻璃上，使曲面玻璃均勻地受到蝕刻液的蝕刻，從而避免了由于曲面玻璃表面不規(guī)則，使蝕刻液的流速不均勻而導(dǎo)致蝕刻不均勻。
文檔編號(hào)C03B15/00GK102923936SQ201110229889
公開日2013年2月13日 申請(qǐng)日期2011年8月11日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月11日
發(fā)明者劉咸柱, 陳鉅盛, 肖興榮 申請(qǐng)人:富泰華工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司