專利名稱:一種硅片切割冷卻裝置的制作方法
技術領域:
本發(fā)明涉及硅片切割領域,尤其涉及一種硅片切割冷卻裝置。
背景技術:
金鋼線切割是一種新型的硅片切割技術,為了使鋼線獲得最佳的冷卻效果,在切割工序中需要一種特殊的冷卻裝置對鋼線進行冷卻以保證切割的質量?,F有的硅片切割冷卻裝置均采用冷卻液直接作用在鋼線上的做法,其是由線網將冷卻水帶到硅塊上的一種技術方案。實現上述技術方案的硅片切割冷卻裝置因結構設計不合理,存在一定的缺陷例如,噴嘴不能夠引流冷卻水,無法獲得較為穩(wěn)定均勻的冷卻液,導致切割線的帶液能力不足;冷卻的可控區(qū)域比較小,在不同的工況下無法獲得較好的冷卻效果;此外,不可以調節(jié)冷卻液與硅塊之間的距離。
發(fā)明內容
本發(fā)明實施例所要解決的技術問題在于,提供一種硅片切割冷卻裝置,冷卻液能夠直接作用在切割塊附近,不但能夠保證冷卻效果,而且節(jié)省流量,結構合理,使用便捷。為了解決上述技術問題,本發(fā)明實施例提供了一種硅片切割冷卻裝置,所述硅片切割冷卻裝置主要由砂漿管、用于注入懸浮液的注液部、用于固定冷卻裝置于硅片切割工作面附近的固持部以及用于冷卻液噴出的噴嘴組成;
所述砂漿管是中空的具有狹長腔室的柱體結構,所述腔室由頂板、兩側板以及底板圍擋而成;
所述注液部設置為多組并固定設置在所述頂板上,所述噴嘴由設置分離的所述一側板和所述一底板形成;
所述固持部位置可調的設置在所述砂漿管相對的兩端部。在所述一側板和所述一底板間設置分離形成一缺口,所述缺口沿所述砂漿管側表面的底部的一端部延伸至相對的另一端部;
所述噴嘴位于所述缺口處。形成所述缺口的所述一側板和所述一底板間互成銳角。所述固持部為兩個大小不同的支撐架,其進一步包括支撐架本體和延展設置在所述支撐架本體端部邊緣的夾持臂,所述夾持臂夾持固定在所述砂漿管相對的兩端部,所述支撐架本體上開設腰型孔;
所述砂漿管通過一螺栓與所述腰型孔的螺固連接固定在硅片切割工作面的附近。在所述腔室中分別設置上下排列的第一過濾板和第二過濾板;
所述第一過濾板位于所述頂板的鄰側橫跨設置在所述腔室中,呈狹長條狀,其兩端分別固定在所述砂漿管相對的兩端,其表面間隔貫通開設過濾孔;
所述第二過濾板位于所述底板的鄰側所述第一過濾板的下方,其橫跨設置在所述腔室中,其兩端亦分別固定在所述砂漿管相對的兩端,所述第二過濾板表面間隔貫通開設過濾孔。所述第一過濾板的所述過濾孔設置為單排,所述第二過濾板的所述過濾孔設置為雙排,所述單排過濾孔的孔徑大于所述雙排過濾孔的孔徑。所述砂漿管的側體表面上間隔設置呈環(huán)狀的加強筋。所述注液部為固定在所述頂板上的兩端具有開孔的中空圓柱管,所述圓柱管設置為兩個并分別與所述腔室設置連通。實施本發(fā)明實施例的硅片切割冷卻裝置,具有如下有益效果,噴嘴是由一側板和一底板間設置分離形成,由于噴嘴的底板為一斜面,使得冷卻裝置能夠引流冷卻水,獲得較為穩(wěn)定均勻的冷卻液,不但能降低切割液流量的負荷,而且能增加切割線的帶液能力;由于砂漿管是中空的具有狹長腔室的柱體結構,使得硅片切割冷卻裝置的可控區(qū)域大,在不同的工況下都可以獲得較好的冷卻效果;同時通過固定部的兩個大小不同的支撐架調整砂漿管特別是噴嘴相對于硅片切割工作面的位置,使得冷卻液能夠直接作用在切割塊附近,不但能夠保證冷卻效果,而且節(jié)省流量,結構合理,使用便捷。
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下,根據這些附圖獲得其他的附圖仍屬于本發(fā)明的范疇。圖1是本發(fā)明實施例硅片切割冷卻裝置的結構示意圖; 圖2是本發(fā)明實施例硅片切割冷卻裝置的側面結構示意圖3是本發(fā)明實施例硅片切割冷卻裝置的沿圖2所示A-A方向的結構示意圖; 圖4是本發(fā)明實施例硅片切割冷卻裝置的過濾板的結構示意圖; 圖5是本發(fā)明實施例硅片切割冷卻裝置的小支撐架的結構示意圖; 圖6是本發(fā)明實施例硅片切割冷卻裝置的大支撐架的結構示意圖。
具體實施例方式為使本發(fā)明的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結合附圖對本發(fā)明作進一步地詳細描述。結合參照圖1、圖2所示,本發(fā)明實施例公開的一種硅片切割冷卻裝置,主要由砂漿管1、用于注入懸浮液的注液部2,用于固定冷卻裝置于硅片切割工作面附近的固持部3 以及用于冷卻液噴出的噴嘴4組成,所述砂漿管1是中空的具有狹長腔室10的柱體結構, 所述腔室10由頂板101、兩側板102以及底板103圍擋而成,所述注液部2設置為多組并固定設置在所述頂板101上,所述噴嘴4由所述一側板102和所述一底板103間設置分離形成;所述固持部3位置可調的設置在所述砂漿管1相對的兩端部。參見圖3,砂漿管1是中空的具有狹長腔室10的柱體結構,其是硅片切割冷卻裝置的主要載體。本實施例中,砂漿管1由四塊板體依次圍擋連接圍擋而成,分別是頂板101、兩側板102以及底板103 ;—側板102依次連接頂板101、相對的另一側板102以及底板103 形成中空柱狀腔室10,在所述一側板102和所述一底板103間設置分離形成一缺口(未圖示),該缺口沿砂漿管1側表面的底部的一端部延伸至相對的另一端部,也就是說,該缺口的長度與砂漿管1的長度大致相同。優(yōu)選的,砂漿管1側體表面上間隔設置呈環(huán)狀的加強筋11,其作用是用以加強砂漿管1的強度。腔室10是由上述頂板101、兩側板102以及底板103相圍擋但未完全封閉圍擋的結構,進一步說,腔室10在一側板102和所述一底板103間設置分離形成缺口的位置并未封閉。參見圖4,在腔室10中分別設置上下排列的多組過濾板,本實施例中,過濾板設置為兩組,亦即上下排列在腔室10中的第一過濾板108和第二過濾板109,其中,第一過濾板 108位于頂板101的鄰側橫跨設置在腔室10中,呈狹長條狀,其兩端分別固定在砂漿管1相對的兩端,其表面間隔貫通開設過濾孔1081,第二過濾板109位于底板103的鄰側所述第一過濾板108的下方,其橫跨設置在腔室10中,其形狀與第一過濾板108的形狀相似,兩端亦分別固定在砂漿管1相對的兩端,其表面間隔貫通開設多組過濾孔1091,其中,過濾孔1081 設置為單排,而過濾孔1091設置為雙排,過濾孔1081的孔徑略大于過濾孔1091的孔徑,其作用是第一過濾板108的過濾孔1081可以先過濾顆粒較大的雜質,而第二過濾板109的過濾孔1091可以起到進一步過濾的作用。注液部2是用于注入冷卻液的接口構件,本實施例中,注入的冷卻液為懸浮液。注液部2設置為多組并固定在頂板101上,其為兩端具有開孔的中空圓柱管,本實施例中的圓柱管設置為兩個并與腔室10連通,由注液部2注入的液體將流入腔室10中并順序經過上述多組過濾板。如圖5、圖6所示,固持部3用于固定冷卻裝置在硅片切割工作面的附近,固持部3 位置可調的設置在所述砂漿管1相對的兩端部。本實施例中,固持部3為兩個大小不同的支撐架,其進一步包括支撐架本體31和延展設置在所述支撐架本體31端部邊緣的夾持臂 32,所述夾持臂32夾持固定在所述砂漿管1相對的兩端部,所述支撐架本體31上開設用于連接固定所述固持部3的腰型孔312,所述腰型孔312呈倒角矩狀,其長度遠大于固定在其上的螺栓(圖未示)的孔徑,當螺栓固定在腰型孔312上時,可調整腰型孔312位于螺栓中的位置對固持部3相對于砂漿管1的位置進行調整,進而實現硅片切割冷卻裝置能夠上下移動。噴嘴4位于上述一側板102和相分離設置的上述一底板103間的缺口處,該缺口處的側板102和底板103互成一夾角小于90°的銳角,也就是說,該噴嘴4處的底板103為一斜面,使得進入腔室10的冷卻液經噴嘴4導流后可以形成冷卻液水簾直接作用在硅塊切割工作面附近。本發(fā)明實施例的一種硅片切割冷卻裝置在具體實施時,通過固定部3的兩個大小不同的支撐架調整砂漿管1特別是噴嘴4相對于硅片切割工作面的位置以保證冷卻效果, 由于固持部3夾持臂32夾持固定在所述砂漿管1相對的兩端部,通過調整支撐架本體31 上開設的腰型孔312相對于固定在其上螺栓的位置即可調整砂漿管1整體相對于硅片切割工作面的位置。具體的,當砂漿管1整體通過螺栓與腰型孔312的螺固連接時,可調節(jié)鎖緊螺母,如螺栓位于腰型孔312中的位置調整固持部3相對于砂漿管1的位置,進而實現硅片切割冷卻裝置能夠上下移動,以保證冷卻的效果和切割質量;上述硅片切割冷卻裝置的位
5置調整完畢后就可以實施硅片切割冷卻裝置對金剛線切割的冷卻,具體的,由注液部2的兩個圓柱管注入冷卻液,由于圓柱管與腔室10連通,液體將流入腔室10中并順序經過第一過濾板108和第二過濾板109,并且由于第一過濾板108的過濾孔1081的孔徑略大于第二過濾板109過濾孔1091的孔徑,第一過濾板108可以先過濾顆粒較大的雜質,而第二過濾板109的過濾孔1091可以起到進一步過濾的作用,懸浮液在腔室10中過濾后可以在砂漿管1底部的噴嘴4處形成一定的流量,由于噴嘴4處的底板103為一斜面,使得進入腔室10 的冷卻液經噴嘴4導流后可以形成冷卻液水簾直接作用在硅塊切割工作面附近。在鋼線運動進出時,可以使鋼線獲得最佳的冷卻效果。本發(fā)明實施例的硅片切割冷卻裝置,噴嘴是由一側板和一底板間設置分離形成, 由于噴嘴的底板為一斜面,使得冷卻裝置能夠引流冷卻水,獲得較為穩(wěn)定均勻的冷卻液,不但能降低切割液流量的負荷,而且能增加切割線的帶液能力;由于砂漿管是中空的具有狹長腔室的柱體結構,使得硅片切割冷卻裝置的可控區(qū)域大,在不同的工況下都可以獲得較好的冷卻效果;同時通過固定部的兩個大小不同的支撐架調整砂漿管特別是噴嘴相對于硅片切割工作面的位置,使得冷卻液能夠直接作用在切割塊附近,不但能夠保證冷卻效果,而且節(jié)省流量,結構合理,使用便捷。以上所揭露的僅為本發(fā)明一種較佳實施例而已,當然不能以此來限定本發(fā)明之權利范圍,因此依本發(fā)明權利要求所作的等同變化,仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權利要求
1.一種硅片切割冷卻裝置,其特征在于,所述硅片切割冷卻裝置主要由砂漿管、用于注入懸浮液的注液部、用于固定冷卻裝置于硅片切割工作面附近的固持部以及用于冷卻液噴出的噴嘴組成;所述砂漿管是中空的具有狹長腔室的柱體結構,所述腔室由頂板、兩側板以及底板圍擋而成;所述注液部設置為多組并固定設置在所述頂板上,所述噴嘴由設置分離的所述一側板和所述一底板形成;所述固持部位置可調的設置在所述砂漿管相對的兩端部。
2.如權利要求1所述的硅片切割冷卻裝置,其特征在于,在所述一側板和所述一底板間設置分離形成一缺口,所述缺口沿所述砂漿管側表面的底部的一端部延伸至相對的另一端部;所述噴嘴位于所述缺口處。
3.如權利要求2所述的硅片切割冷卻裝置,其特征在于,形成所述缺口的所述一側板和所述一底板間互成銳角。
4.如權利要求1所述的硅片切割冷卻裝置,其特征在于,所述固持部為兩個大小不同的支撐架,其進一步包括支撐架本體和延展設置在所述支撐架本體端部邊緣的夾持臂,所述夾持臂夾持固定在所述砂漿管相對的兩端部,所述支撐架本體上開設腰型孔;所述砂漿管通過一螺栓與所述腰型孔的螺固連接固定在硅片切割工作面的附近。
5.如權利要求1所述的硅片切割冷卻裝置,其特征在于,在所述腔室中分別設置上下排列的第一過濾板和第二過濾板;所述第一過濾板位于所述頂板的鄰側橫跨設置在所述腔室中,呈狹長條狀,其兩端分別固定在所述砂漿管相對的兩端,其表面間隔貫通開設過濾孔;所述第二過濾板位于所述底板的鄰側所述第一過濾板的下方,其橫跨設置在所述腔室中,其兩端亦分別固定在所述砂漿管相對的兩端,所述第二過濾板表面間隔貫通開設過濾孔。
6.如權利要求5所述的硅片切割冷卻裝置,其特征在于,所述第一過濾板的所述過濾孔設置為單排,所述第二過濾板的所述過濾孔設置為雙排,所述單排過濾孔的孔徑大于所述雙排過濾孔的孔徑。
7.如權利要求1所述的硅片切割冷卻裝置,其特征在于,所述砂漿管的側體表面上間隔設置呈環(huán)狀的加強筋。
8.如權利要求1所述的硅片切割冷卻裝置,其特征在于,所述注液部為固定在所述頂板上的兩端具有開孔的中空圓柱管,所述圓柱管設置為兩個并分別與所述腔室設置連通。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種硅片切割冷卻裝置,所述硅片切割冷卻裝置主要由砂漿管、用于注入懸浮液的注液部、用于固定冷卻裝置于硅片切割工作面附近的固持部以及用于冷卻液噴出的噴嘴組成;所述砂漿管是中空的具有狹長腔室的柱體結構,所述腔室由頂板、兩側板以及底板圍擋而成;所述注液部設置為多組并固定設置在所述頂板上,所述噴嘴由設置分離的所述一側板和所述一底板形成;所述固持部位置可調的設置在所述砂漿管相對的兩端部。采用本發(fā)明實施例的硅片切割冷卻裝置,冷卻液能夠直接作用在切割塊附近,不但能夠保證冷卻效果,而且節(jié)省流量,結構合理,使用便捷。
文檔編號B28D7/02GK102229217SQ20111015688
公開日2011年11月2日 申請日期2011年6月13日 優(yōu)先權日2011年6月13日
發(fā)明者劉之文, 李建敏, 梅守志, 胡青梅 申請人:江西賽維Ldk太陽能高科技有限公司