專利名稱：具有高的陽光得熱系數(shù)的陽光控制涂層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體涉及陽光控制涂層，并且在一個特定實施方案中涉及提供高的陽光得熱系數(shù)(SHGC)和低的總傳熱系數(shù)(U-值)的陽光控制涂層。技術(shù)考慮SHGC是通過窗戶接納的入射陽光輻射的部分，既有直接透射的，又有吸收并隨后向內(nèi)釋放的。SHGC越低，透射的太陽熱越低。U-值是通過一種材料的非陽光的熱損失或熱增加的比例的量度。U-值越低，熱流阻力越大并且絕緣值越好。陽光控制涂層在建筑和汽車透明制品領(lǐng)域中是已知的。這些陽光控制涂層阻擋或過濾選定范圍的電磁輻射，例如陽光紅外輻射或陽光紫外輻射范圍內(nèi)的電磁輻射，從而降低進入車輛或建筑物的太陽能的量。太陽能透射率的這種降低有助于降低車輛或建筑物冷卻單元的負擔，尤其在夏季的月份中。常規(guī)的陽光控制涂層典型提供相對低的SHGC。盡管低SHGC涂層在南方氣候下是有利的，但其在北方氣候下不是期望的。對北方氣候而言，在冬季的月份期間，具有較高SHGC的窗戶可更加節(jié)能以便在建筑物內(nèi)從太陽捕獲更多熱量。在秋季和冬季的寒冷天數(shù)多于春季和夏季的溫暖天數(shù)的北方氣候下尤其如此。因此，在希望于建筑物內(nèi)從太陽捕獲熱量的北方氣候下，期望提供一種改善建筑物的能量效率的涂層和/或涂覆制品。該涂層和/或涂覆制品可具有低的發(fā)射率以提供低 U-值，同時具有高SHGC以便使更多的太陽熱進入建筑物并將其保持在建筑物中。發(fā)明概述一種涂層，其提供高的陽光得熱系數(shù)(SHGC)和低的總傳熱系數(shù)(U-值)以捕獲和保存太陽熱。該涂層和涂覆制品特別適用于在北方氣候下的建筑透明制品。一種涂覆的透明制品，其包含基底和在至少一部分該基底上方形成的涂層。該涂層包含在至少一部分該基底上方形成的第一介質(zhì)層；在至少一部分第一介質(zhì)層上方形成的連續(xù)金屬層，該金屬層的厚度小于8nm ；在至少一部分該金屬層上方形成的底漆層；在至少一部分該底漆層上方形成的第二介質(zhì)層；和在至少一部分第二介質(zhì)層上方形成的罩面層。當該涂層應用于基準IGU的第3表面上時，該涂層提供大于或等于0. 6的SHGC以及小于或等于0. 35的U-值。在一種示例性涂層中，第一介質(zhì)層的厚度為40nm至50nm。該第一介質(zhì)層包含沉積在錫酸鋅膜上方的氧化鋅膜，該氧化鋅膜的厚度為3至15nm，并且該錫酸鋅膜的厚度為 25至40nm。該金屬層包含具有小于或等于7. 5nm厚度的銀。所述底漆層包含鈦。第二介質(zhì)層的厚度為30nm至40nm。第二介質(zhì)層包含氧化鋅膜和沉積在該氧化鋅膜上方的錫酸鋅膜。所述氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm。所述罩面層的厚度為2nm至6nm并且包含氧化鈦。當所述涂層用于基準IGU的第3表面上時，該涂層提供大于或等于0. 6、例如大于或等于0. 65的SHGC，以及小于或等于0. 35、例如小于或等于0. 33的U-值。在另一示例性涂層中，第一介質(zhì)層包含含錫酸鋅的第一層，含氧化鋅的第二層， 含錫酸鋅的第三層，以及含氧化鋅的第四層，其中第一介質(zhì)層的厚度為44nm至48nm，第一層和第三層各自的厚度為16nm至17nm，以及第二層和第四層各自的厚度為6nm至8nm。金屬層包含具有小于或等于7nm厚度的銀。底漆層包含鈦。第二介質(zhì)層包含含氧化鋅的第一層，含錫酸鋅的第二層，含氧化鋅的第三層，以及含錫酸鋅的第四層，其中第二介質(zhì)層具有30nm至35nm的厚度，第一層和第三層各自的厚度為3nm至5nm，以及第二層和第四層各自的厚度為Ilnm至12nm。所述罩面層的厚度為5nm至IOnm并且包含氧化鈦。當所述涂層用于基準IGU的第3表面時，該涂層提供大于或等于0. 6、例如大于或等于0. 65的SHGC，以及小于或等于0. 35、例如小于或等于0. 33的U-值。一種絕緣玻璃單元，其包含具有第1表面和第2表面的第一基底，和與第一基底隔開的且具有第3表面和第4表面的第二基底，其中第3表面面向第2表面。在至少一部分第3表面上方形成涂層。該涂層包含在至少一部分基底上方形成的第一介質(zhì)層；在至少一部分第一介質(zhì)層上方形成的連續(xù)金屬層，其中該金屬層包含具有小于或等于7. 5nm厚度的銀；在至少一部分金屬層上方形成的底漆層，其中該底漆膜包含鈦；在至少一部分底漆層上方形成的第二介質(zhì)層；以及在至少一部分第二介質(zhì)層上方形成的罩面層。該絕緣玻璃單元具有大于或等于0. 6、例如大于或等于0. 65的SHGC，以及小于或等于0. 35、例如小于或等于0.33的U-值。在一個實施例中，第一介質(zhì)層的厚度為40nm至50nm。該第一介質(zhì)層包含沉積在錫酸鋅膜上的氧化鋅膜，該氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm，并且該錫酸鋅膜的厚度為25nm至40nm。該金屬層包含具有小于或等于7. 5nm厚度的銀。底漆膜包含鈦。 第二介質(zhì)層包含氧化鋅膜和沉積在該氧化鋅膜上方的錫酸鋅膜，第二介質(zhì)層的厚度為30nm 至40nm，并且該氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm。所述罩面層的厚度為2nm至6nm并且包含氧化鈦。在另一絕緣玻璃單元中，第一介質(zhì)層包含含錫酸鋅的第一層，含氧化鋅的第二層， 含錫酸鋅的第三層，以及含氧化鋅的第四層，其中第一介質(zhì)層的厚度為44nm至48nm，第一層和第三層各自的厚度為16nm至17nm，并且第二層和第四層各自的厚度為6nm至8nm。所述金屬層包含具有小于或等于7nm厚度的銀。所述底漆膜包含鈦。第二介質(zhì)層包含含氧化鋅的第一層，含錫酸鋅的第二層，含氧化鋅的第三層，以及含錫酸鋅的第四層，其中第二介質(zhì)層的厚度為30nm至35nm，第一層和第三層各自的厚度為3nm至5nm，并且第二層和第四層各自的厚度為Ilnm至12nm。所述罩面層的厚度為5nm至IOnm并且包含氧化鈦。另一絕緣玻璃單元包含具有第1表面和第2表面的第一基底；與第一基底隔開的且具有第3表面和第4表面的第二基底，其中第3表面面向第2表面；與第二基底隔開的且具有第4表面和第5表面的第三基底。在至少一部分第5表面上方形成第一涂層。該第一涂層包含在至少一部分基底上方形成的第一介質(zhì)層；在至少一部分第一介質(zhì)層上方形成的連續(xù)金屬層；在至少一部分金屬層上方形成的底漆層；在至少一部分底漆層上方形成的第二介質(zhì)層；以及在至少一部分第二介質(zhì)層上方形成的罩面層，其中罩面層的厚度為 2nm至6nm且該罩面層包含氧化鈦。在至少一部分第2表面上方形成第二涂層，該第二涂層包含至少兩個被介質(zhì)層隔開的金屬銀層。該絕緣玻璃單元具有大于或等于0. 6、例如大于或等于0. 65的SHGC，以及小于或等于0. 35、例如小于或等于0. 33的U-值。在一個實施例中，第一涂層的第一介質(zhì)層的厚度為40nm至50nm，該第一介質(zhì)層包含沉積在錫酸鋅膜上方的氧化鋅膜，該氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm，并且該錫酸鋅膜的厚度為25nm至40nm。第一涂層的金屬層包含具有小于或等于7. 5nm厚度的銀。第一涂層的底漆膜包含鈦。第一涂層的第二介質(zhì)層包含氧化鋅膜和沉積在該氧化鋅膜上方的錫酸鋅膜，該第二介質(zhì)層的厚度為30nm至40nm，并且該氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm。第一涂層的罩面層的厚度為2匪至6nm并且包含氧氧化鈦。在另一實施例中，第一涂層的第一介質(zhì)層包含含錫酸鋅的第一層，含氧化鋅的第二層，含錫酸鋅的第三層，以及含氧化鋅的第四層，其中第一介質(zhì)層的厚度為44nm至48nm，第一層和第三層各自的厚度為16nm至17nm，并且第二層和第四層各自的厚度為6nm至8nm。第一涂層的金屬層包含具有小于或等于7nm厚度的銀。第一涂層的底漆層包含鈦。第一涂層的第二介質(zhì)層包含含氧化鋅的第一層，含錫酸鋅的第二層，含氧化鋅的第三層，以及含錫酸鋅的第四層，其中第二介質(zhì)層具有30nm至35nm的厚度，第一層和第三層各自的厚度為3nm至5nm，以及第二層和第四層各自的厚度為Ilnm至12nm。第一涂層的罩面層的厚度為5nm至IOnm并且該罩面層包含氧化鈦。附圖簡述 將參考如下附圖來描述本發(fā)明，其中通篇中相同的附圖標記表示相同的部件。

圖1為具有本發(fā)明涂層的絕緣玻璃單元(IGU)的側(cè)視圖(未按比例)；圖2為具有本發(fā)明特征的涂層的側(cè)視圖(未按比例)；圖3為具有本發(fā)明特征的另一涂層的側(cè)視圖(未按比例)；圖4為具有本發(fā)明涂層的另一絕緣玻璃單元(IGU)的側(cè)視圖(未按比例)。優(yōu)選實施方案詳述本文使用的空間或方向術(shù)語，例如“左”、“右”、“內(nèi)”、“外”、“上方”、“下方”等等，涉
及如附圖中所示的本發(fā)明。然而，應理解本發(fā)明可采用多種替代取向，因此，不應將此類術(shù)語考慮為限定。此外，正如本文所使用的，說明書和權(quán)利要求書中使用的所有表示尺寸、物理特性、工藝參數(shù)、成分數(shù)量、反應條件等的數(shù)字，應理解為在所有情況下均被術(shù)語“約”修飾。因此，除非有相反說明，則在下面的說明書和權(quán)利要求書中述及的數(shù)值可根據(jù)意圖通過本發(fā)明獲得的期望性能而變化。至少，應不限制將等同原則應用于權(quán)利要求書的范圍，至少應根據(jù)所給出的有效數(shù)位的數(shù)字和通過應用普通舍入技術(shù)來理解每個數(shù)值。此外，本文公開的所有范圍應理解為包括從起始范圍值到結(jié)束范圍值以及其中包含的所有子范圍。例如，所述的“1至10”的范圍應被理解為包括處在最小值1和最大值10(包含端值)之間的任何子范圍和所有子范圍；即從1以上的最小值開始并且以10以下的最大值結(jié)束的所有
子范圍，例如1至3.3，4.7至7.5，5.5至10等。此外，本文使用的術(shù)語“在......上方形
成”、“在......上方沉積”或“在......上方提供”意味著在表面上但不一定與該表面接
觸地形成、沉積或提供。例如，在基底“上方形成的”涂層不排除在形成的涂層和基底之間存在一層或多層其它具有相同或不同組成的涂層或膜。術(shù)語“可見區(qū)”或“可見光”是指具有380nm至SOOnm波長的電磁輻射。術(shù)語“紅外區(qū)”或“紅外輻射”是指具有大于SOOnm至 IOOOOOnm波長的電磁輻射。術(shù)語“紫外區(qū)”或“紫外輻射”是指著具有300nm至小于380nm 波長的電磁能。另外，本文提到的所有文獻，例如但不限于授權(quán)專利和專利申請，應視為被以其整體“并入作為參考”。本文使用的術(shù)語“膜”是指期望的或選擇的涂層組合物的涂層區(qū)域?！皩印笨梢园粋€或多個“膜”，并且“涂層”或“涂層疊層”可包含一個或多個“層”。 本文中的U-值是以0° F(-18°C )的室外溫度、70° F(21°C )的室內(nèi)溫度、15英里/小時的風速、并且無陽光負載的NFRC/ASHRAE冬季條件來表示。為了下面的討論，將關(guān)于建筑透明制品中的使用討論本發(fā)明，例如但不限于絕緣玻璃單元(IGU)。本文使用的術(shù)語“建筑透明制品”是指位于建筑物上的任何透明制品，例如但不限于窗戶和天窗。然而，應當理解的是，本發(fā)明并不限于在這類建筑透明制品中使用，還可用于任何期望領(lǐng)域中的透明制品，例如但不限于疊層或非疊層的住宅和/或商業(yè)窗戶，和/或陸用車輛、航空器、空間飛行器、水上航行器和水下航行器用的透明制品。因此，應當理解的是，給出具體公開的示例性實施方案僅僅是用于解釋本發(fā)明的一般概念，并且本發(fā)明并不限于這些特定的示例性實施方案。此外，盡管典型的“透明制品”可具有足夠的可見光透射使得可通過該透明制品觀察材料，但在本發(fā)明的實施中，“透明制品”無需對可見光透明，而可以是半透明或不透明的(如下所述)。圖1中示出了具有本發(fā)明特征的一種非限制性透明制品10。透明制品10可具有任何期望的可見光、紅外輻射或紫外輻射透射和/或反射。例如，透明制品10可具有任何期望量的可見光透射，如大于0%直至100%。圖1的示例性透明制品10的形式為常規(guī)的雙層片(ply)絕緣玻璃單元，并且其包括具有第一主表面14(第1表面)和相對的第二主表面16(第2表面)的第一層片12。在所示的非限制性實施方案中，第一主表面14面向建筑物外部，即其為外部主表面，而第二主表面16面向建筑物內(nèi)部。透明制品10還包括與第一層片12隔開的第二層片18，該第二層片具有外部(第一)主表面20(第3表面)和內(nèi)部(第二)主表面22(第4表面)。這種層表面編號方式與門窗領(lǐng)域(fenestration)的常規(guī)做法一致。所述一層片和第二層片 12、18可以按任何適宜方式彼此連接，例如膠粘結(jié)合至常規(guī)間隔框架24。在兩個層片12、18 之間形成間隔或腔室26。腔室沈可填充有選定的氣氛，例如空氣或非反應性氣體，如氬氣或氪氣。本發(fā)明的陽光控制涂層30形成于層片12、18之一的至少一部分上方，例如但不限于，在第2表面16的至少一部分上方或在第3表面20的至少一部分上方。然而如果需要， 該涂層也可在第1表面或第4表面上。可以在例如下列美國專利中找到絕緣玻璃單元的實例:US4, 193，236，US4, 464，874，US5, 088，258，以及 US5, 106，663。在本發(fā)明廣泛實踐中，透明制品10的層片12、18可具有相同或不同的材料。層片 12、18可包括具備任何所需性能的任何期望材料。例如，層片12、18中的一個或多個可對可見光透明或半透明?！巴该鳌币馕吨哂写笥?%至100%的可見光透射。作為替代，層片 12、18中一個或多個可以為半透明?！鞍胪该鳌币馕吨试S電磁能(例如可見光)通過，但會使該能量散射，使得在與觀察者相反側(cè)的物體不是清晰可見。合適材料的實例包括但不限于，塑料基底(例如丙烯酸聚合物，如聚丙烯酸 ’聚甲基丙烯酸烷基酯，如聚甲基丙烯酸甲酯，聚甲基丙烯酸乙酯，聚甲基丙烯酸丙酯等；聚氨酯；聚碳酸酯；聚對苯二甲酸烷基酯， 如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)，聚對苯二甲酸丙二酯，聚對苯二甲酸丁二酯等；含聚氧硅烷的聚合物；或用于制備它們的任何單體的共聚物，或它們的任何混合物)；陶瓷基底；玻璃基底；或上述任何基底的混合物或組合物。例如，層片12、18中的一個或多個可以包括常規(guī)的鈉鈣硅酸鹽玻璃，硼硅酸鹽玻璃，或含鉛玻璃。所述玻璃可以為凈片玻璃(clear glass) 0 “凈片”玻璃是指沒有染色或沒有著色的玻璃。作為替代，所述玻璃可以是染色或著色玻璃。
8所述玻璃可以是退火或熱處理的玻璃。本文使用的術(shù)語“熱處理”是指回火或至少部分回火。所述玻璃可以為任何類型，例如常規(guī)浮法玻璃，并且可以是具有任何光學特性的任何組成，如任意值的可見光透射，紫外透射，紅外透射，和/或總太陽能透射?！案》úＡА笔侵竿ㄟ^常規(guī)浮法工藝形成的玻璃，其中將熔融玻璃沉積至熔融金屬浴上，并且受控冷卻從而形成浮法玻璃帶。美國專利US4，466，562和US4，671，155中公開了浮法玻璃工藝的實例。第一層片和第二層片12、18中的 每一個可以是例如凈片浮法玻璃，或者可以是染色或著色玻璃，或者層片12、18之一為凈片玻璃，而層片12、18中另一個為著色玻璃。盡管并不限制本發(fā)明，在美國專利 US4，746，347，US4, 792，536，US5, 030, 593，US5, 030, 594， US5, 240，886，US5, 385，872和US5, 393，593中描述了適用于第一層片12和/或第二層片18的玻璃的實例。第一層片和第二層片12、18可以具有任何所需尺寸，例如長度、寬度、形狀或厚度。在一種示例性的透明制品中，第一層片和第二層片的每一個可為Imm至 IOmm厚，例如Imm至8mm厚，例如2mm至8mm厚，例如3mm至7mm厚，例如5mm至7mm厚， 例如6mm厚?？捎糜趯嵤┍景l(fā)明的非限制性的玻璃實例包括凈片玻璃，Starphire ， Solargreen , Solextra ，GL-20 ，GL-35 , Solarbronze , Solargray 玻璃， Pacifica 玻璃，SolarBlue 玻璃，Solarphire 玻璃，Solarphire PV 玻璃，以及 Optiblue 玻璃，所有這些均可商購自賓夕法尼亞州匹茲堡的PPG工業(yè)公司。將本發(fā)明的涂層30沉積在玻璃層片12、18之一的至少一個主表面的至少一部分上方。在圖1所示的實施例中，涂層30形成于內(nèi)側(cè)玻璃層片18的外表面20的至少一部分上方。涂層30被設(shè)置為低發(fā)射率涂層，其接受并保留太陽熱?？梢酝ㄟ^任何常規(guī)方法來沉積涂層30，例如并不限于，常規(guī)化學氣相沉積(CVD) 和/或物理氣相沉積(PVD)法。PVD工藝的實例包括熱蒸發(fā)或電子束蒸發(fā)以及真空濺射 (如磁控濺射真空沉積(MSVD))。也可使用其它涂覆方法，例如但不限于，溶膠凝膠沉積。 在一個非限制性實施方案中，可通過MSVD沉積涂層30。MSVD涂覆設(shè)備和方法的實例是本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的，并且在例如美國專利US4, 379，040，US4, 861，669，US4, 898，789， US4, 898，790,US4, 900，633,US4, 920，006,US4, 938，857，US5，328，768 和 US5, 492，750 中有描述。圖2示出本發(fā)明的一種示例性的非限制性涂層30。該示例性涂層30包括沉積在基底主表面的至少一部分上方(如第二層片18的第3表面20)的基層或第一介質(zhì)層40。 該第一介質(zhì)層40可為單一層，或者可包含多于一層的抗反射材料和/或介質(zhì)材料的膜，例如但不限于，金屬氧化物，金屬合金的氧化物，氮化物，氮氧化物，或其混合物。第一介質(zhì)層 40可以對可見光透明。適用于第一介質(zhì)層40的金屬氧化物實例包括鈦、鉿、鋯、鈮、鋅、鉍、 鉛、銦、錫的氧化物或其混合物。這些金屬氧化物可具有少量其它材料，例如錳在氧化鉍中， 錫在氧化銦中，等等。此外，可以使用金屬合金或金屬混合物的氧化物，例如包含鋅和錫的氧化物(如錫酸鋅)，銦-錫合金的氧化物，氮化硅，氮化硅鋁、或氮化鋁。另外，可以使用摻雜的金屬氧化物，例如銻或銦摻雜的氧化錫，或鎳或硼摻雜的氧化硅。第一介質(zhì)層40可為基本單一相的膜，如金屬合金氧化物膜，如錫酸鋅，或者可以為由鋅和錫的氧化物構(gòu)成的相的混合物，或可由多個膜構(gòu)成。第一介質(zhì)層40 (無論是單一膜或是多重膜的層)可具有20納米(nm)至70nm的厚度，例如20nm至60nm，例如30nm至60nm，例如40nm至55nm，例如44nm至46nm，例如45nm。
如圖2所示，第一介質(zhì)層40可包含多膜結(jié)構(gòu)，該多膜結(jié)構(gòu)具有第一膜42，如金屬合金氧化物膜，其沉積在基底(如第二層片18的外部主表面20)的至少一部分上方，和第二膜44，如金屬氧化物或氧化物混合物的膜，其沉積在第一金屬合金氧化物膜42上方。在一個非限制性實施方案中，第一膜42可以為鋅/錫合金氧化物?！颁\/錫合金氧化物”是指既是真實合金并且也是氧化物的混合物。鋅/錫合金氧化物可由鋅和錫的陰極進行磁控濺射真空沉積獲得。一種非限制性陰極可包含如下比例的鋅和錫5wt. %至95wt. %的鋅和 95wt. %M 5wt. %的錫，例如IOwt. %至90財.%的鋅和90% wt. %M IOwt. %的錫。然而， 也可使用其它的鋅與錫比例?？纱嬖谟诘谝荒?2中的一種合適的金屬合金氧化物為錫酸鋅。“錫酸鋅”是指ZnxSni_x02_x(通式1)的組成，其中“X”為大于0至小于1不等。例如， “X”可以大于0并且可以是大于0至小于1之間的任何分數(shù)或小數(shù)。例如，χ = 2/3時，通式1為Zn2/3Sni/304/3，其更通常表示為Zn2Sn04。含錫酸鋅的膜在該膜中以主要量具有通式1 的一種或多種形式。第二膜44可以為金屬氧化物膜，例如含氧化鋅的膜。該氧化鋅膜可由鋅陰極沉積，該鋅陰極包括其它材料以改善陰極的濺射特性。例如，該鋅陰極可包括少量(例如至多 IOwt. %，如至多5wt. % )的錫以改善濺射。在該情形中，所得氧化鋅膜會包括較小百分比的氧化錫，例如至多IOwt. %的氧化錫，如至多5wt. %的氧化錫。由具有至多IOwt. %錫(添加錫以便增強陰極的傳導性)的鋅陰極沉積的涂層在本文中仍被稱為“氧化鋅膜”，盡管其中可存在少量的錫。陰極中少量的錫(如小于或等于IOwt. %，如小于或等于5wt. % )被認為在主要為氧化鋅的第二膜44中形成氧化錫。第一膜42可包含厚度為20nm至60nm的錫酸鋅，例如25nm至50nm，例如35nm至 40nm。第二膜44可包含厚度為3nm至15nm、如5nm至IOnm的氧化鋅(例如90wt. %的氧化鋅和IOwt. %的氧化錫)?？稍诘谝唤橘|(zhì)層40上方沉積熱和/或輻射反射金屬層46。該反射層46可包括反射金屬，例如但不限于，金、銅、鉬、鋨、鈦、鎳、鉻、鈀、鋁、銀、或它們的混合物、合金、或組合。 在一個實施方案中，反射層46包含厚度為3nm至8nm的金屬銀層，例如4nm至8nm，例如5nm 至7nm，例如6nm至7nm。金屬層46為連續(xù)層。第一底漆層48位于反射層46上方。第一底漆層48可以為單一膜或多重膜的層。 第一底漆層48可包括捕氧材料，其可在沉積過程中犧牲從而防止第一反射層46在濺射過程或隨后的熱處理期間劣化或氧化。適用于第一底漆層48的材料的實例包括金屬或金屬氧化物，例如鈦、鋯、銅、鎳、鉻、鋁、硅、二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、鎳-鉻合金(如因科內(nèi)爾合金Dnconel])、鋯、鋁、硅和鋁的合金、含鈷和鉻的合金(如司太立合金[Stellite])， 及其混合物。例如，第一底漆層48可以是厚度為0. 5至3nm的鈦，例如0. 5至2nm，例如Inm 至 &im，例如 1. 4nm。對底漆層48而言，應理解的是，通過首先沉積金屬形成該層。在涂層30的進一步處理期間該金屬的至少一部分被氧化。在退火涂層的情形中(下述實施例1和幻，所述鈦底漆層在隨后的覆蓋氧化物層沉積期間被氧化。在可回火涂層的情形中(下述實施例2和 4)，一部分鈦在隨后的氧化物層沉積期間被氧化，而剩余部分在回火時被氧化。第二介質(zhì)層50位于反射層46上方(例如，在第一底漆層48上方)。第二介質(zhì)層 50包含一個或多個含金屬氧化物或含金屬合金氧化物的膜，例如前面關(guān)于第一介質(zhì)層40所述的那些。例如，第二介質(zhì)層50可包括第一金屬氧化物膜52，例如沉積在第一底漆膜48 上方的氧化鋅膜(例如，90wt. %的氧化鋅和IOwt. %的氧化錫)，以及沉積在第一氧化鋅膜 52上方的第二金屬合金氧化物膜54，如錫酸鋅膜。第二介質(zhì)層50的總厚度(例如所述層的組合厚度)可以為IOnm至50nm，例如 20nm 至 50nm,例如 30nm 至 50nm,例如 30nm 至 40nm,例如 35nm 至 40nm,例如 36. 2nm。

例如，氧化鋅膜52的厚度可以為3nm至15nm，例如5nm至10nm。金屬合金氧化物層(錫酸鋅)54的厚度可以為15nm至35nm，例如20nm至35nm，例如21nm至31nm。罩面層60可以位于第二介質(zhì)層50上方。罩面層60可有助于保護下方涂層免受機械侵蝕或化學侵蝕。罩面層60可以是，例如一個或多個金屬氧化物或金屬氮化物的層。 適宜材料的實例包括硅、鈦、鋁、鋯的氧化物和/或氮化物，以及它們的混合物，例如氧化硅和氧化鋁的混合物。例如，罩面層60可以是厚度為Inm至IOnm的氧化鈦，例如2nm至8nm， 例如4nm至6nm，例如5nm。涂層30還可以包括任選的保護涂層70。在制造、運輸、操縱、加工期間和/或在鏡子的實地使用壽命期間，保護涂層70有助于保護下方層免受機械侵蝕和化學侵蝕。保護涂層70還有助于保護下方層免受液體水、水蒸氣、以及其它環(huán)境污染物(其為固體、液體或氣體)的侵入。保護涂層70可為氧阻擋涂覆層，以防止或減少在隨后的處理期間(例如在加熱或彎曲期間)周圍氧氣進入下方層。保護涂層70可具有任何所需的材料或材料混合物，例如但不限于，一種或多種無機材料。在一種示例性實施方案中，保護涂層70可包括具有一種或多種金屬氧化物材料的層，例如但不限于，鋁的氧化物、硅的氧化物、或它們的混合物。 例如，保護涂層70可以是包含氧化硅、氧化鋁、或其混合物的單一涂層。例如，保護涂層70 可包括氧化硅和氧化鋁，其范圍為70wt. %至99wt. %氧化硅和Iwt. %至30wt. %氧化鋁， 例如75wt. %至90財.%氧化硅和25wt. %M IOwt. %氧化鋁，例如80wt. %至90財.%氧化硅和20wt. %M IOwt. %氧化鋁，例如85wt. %至90財.%氧化硅禾口 15wt. %M IOwt. %氧化鋁。在一個特定的非限制性實施方案中，保護涂層70包含85wt. %的氧化硅和15wt. %的氧化鋁。也可存在其它材料，例如鋁、鉻、鉿、釔、鎳、硼、磷、鈦、鋯、和/或它們的氧化物，以調(diào)整保護涂層70的折射率。保護涂層70可以具有非均勻厚度?！胺蔷鶆蚝穸取笔侵副Ｗo涂層70的厚度可以在給定的單位區(qū)域內(nèi)變化，例如保護涂層70可具有高和低的點或區(qū)域。保護涂層70的厚度可以為Inm至lOOOnm，例如IOnm至500nm，例如20nm至300nm，例如50nm 至 300nm,例如 50nm 至 200nm,例如 50nm 至 150nm,例如 50nm 至 120nm,例如 75nm 至 120nm, 例如75nm至lOOnm。在一個特定的非限制性實施方案中，保護涂層50的厚度至少為50nm， 例如至少75nm，例如至少lOOnm，例如至少llOnm，例如至少120nm，例如至少150nm，例如至少 200nm。在另一非限制性實施方案中，保護涂層70可包含多層結(jié)構(gòu)，例如第一層和形成于該第一層上方的至少一個第二層。在一個特定的非限制性實施方案中，第一層可包含氧化鋁或者含氧化鋁和氧化硅的混合物或合金。例如，第一層可包含氧化硅和氧化鋁混合物， 該混含物具有大于5wt. %的氧化鋁，例如大于IOwt. %的氧化鋁，例如大于15wt. %的氧化鋁，例如大于30wt. %的氧化鋁，例如大于40wt. %的氧化鋁，例如50wt. %至70wt. %的氧化鋁，例如70wt. %至IOOwt. %的氧化鋁和30wt. %至Owt. %的氧化硅，例如大于90wt. %的氧化鋁，例如大于95wt. %的氧化鋁。在一個非限制性實施方案中，第一層全部或基本上全部為氧化鋁。第一層的厚度可以為大于Onm至1微米，例如5nm至lOnm，例如IOnm至 25nm，例如IOnm至15nm。第二層可包含氧化硅或者含氧化硅和氧化鋁的混合物或合金。 例如第二層可包含氧化硅和氧化鋁的混合物，該混合物具有大于40wt. %的氧化硅，例如大于50wt. %的氧化硅，例如大于60wt. %的氧化硅，例如大于70wt. %的氧化硅，例如大于 80wt. %的氧化硅，例如80wt. %至90 丨.％的氧化硅和IOwt. %至20 丨.％的氧化鋁，例如 85wt. %的氧化硅和15wt. %的氧化鋁。第二層的厚度可以為大于Onm至2微米，例如5nm 至 500nm,例如 5nm 至 200nm,例如 IOnm 至 IOOnm,例如 30nm 至 50nm,例如 35nm 至 40nm。在另一非限制性實施方案中，第二層的厚度可以為大于Onm至1微米，例如5nm至lOnm，例如 IOnm至25nm，例如IOnm至15nm。在另一非限制性實施方案中，保護涂層70可以是通過將一個含金屬氧化物的層(如含氧化硅和/或氧化鋁的第一層)形成于另一含金屬氧化物的層(如含氧化硅和/或氧化鋁的第二層)上方制成的雙層。多層保護涂層中的單獨層可具有任何所需的厚度。例如，美國專利申請US10/007，382、US10/133，805、US10/397，001、 US10/422, 094、US10/422，095和US10/422，096中描述了合適的保護涂層70的非限制性實例。保護涂層70可位于罩面層60上方。作為替代，保護涂層70也可以位于罩面層60 下方，例如在罩面層60和第二介質(zhì)層50之間?；蛘?，可不使用罩面層60，而使用保護涂層 70替代罩面層60，即在第二介質(zhì)層50上方提供保護涂層70。任選的第二底漆層(未示出)可位于第一介質(zhì)層40和金屬層46之間。該任選的第二底漆層可由上文關(guān)于第一底漆層48所述材料中的任何材料形成。例如，該任選的第二底漆層可以是厚度為0. 5nm至2nm的鈦，例如Inm至2nm，例如1. 5nm。圖3中示出本發(fā)明的另一非限制涂層100。該示例性涂層100包括沉積于基底主表面(例如第二層片18的第3表面20)的至少一部分上方的基層或第一介質(zhì)層102。第一介質(zhì)層102可以是單層，或者也可包含多于一層的防反射材料和/或介質(zhì)材料的膜，例如但不限于，金屬氧化物，金屬合金的氧化物，氮化物，氮氧化物，或它們的混合物。第一介質(zhì)層 102可對可見光透明。適用于第一介質(zhì)層102的金屬氧化物的實例包括鈦、鉿、鋯、鈮、鋅、 鉍、鉛、銦、錫的氧化物，或它們的混合物。這些金屬氧化物可具有少量其它材料，例如錳在氧化鉍中，錫在氧化銦中，等等。此外，也可使用金屬合金或金屬混合物的氧化物，例如包含鋅和錫的氧化物(如錫酸鋅)，銦-錫合金的氧化物，氮化硅，氮化硅鋁，或氮化鋁。另外， 還可使用摻雜的金屬氧化物，例如銻或銦摻雜的氧化錫，或鎳或硼摻雜的氧化硅。第一介質(zhì)層102可為基本單一相的膜，如金屬合金氧化物膜，如錫酸鋅，或者可以為由鋅和錫的氧化物構(gòu)成的相的混合物，或者可由多個膜構(gòu)成。第一介質(zhì)層102(無論是單一膜或是多重膜的層)的厚度可以為20納米(nm)至 70nm,例如 20nm 至 60nm，例如 30nm至 60nm，例如 40nm 至 55nm，例如 Mnm 至 48nm，例如 47nm。第一介質(zhì)層102可包含多層膜結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)具有第一膜104，例如金屬合金氧化物膜；第二膜106，例如金屬氧化物或氧化物混合物的膜，其沉積在第一金屬合金氧化物膜 104上方；第三膜108，例如金屬合金氧化物膜；第四膜110，例如金屬氧化物或氧化物混合物的膜，其沉積在第三金屬合金氧化物膜104上方。第一膜104和第三膜108可包含錫酸鋅。第二膜106和第四膜110可包含氧化鋅，例如90wt. %的氧化鋅和IOwt. %的氧化錫。
例如，第一膜104和第三膜108可為錫酸鋅，且每個膜的厚度為5nm至25nm，例如 IOnm至20nm，例如15nm至20nm，例如15nm至17nm，例如16nm至17nm。所述膜不必具有相同的厚度。第二膜106和第四膜110可以為氧化鋅(例如90wt. %的氧化鋅和IOwt. % 的氧化錫),且每個膜的厚度為3nm至10nm，例如4nm至8nm，例如5nm至8nm，例如6nm至 8nm。所述膜不必具有相同的厚度。例如，第二膜可厚于第四膜?？稍诘谝唤橘|(zhì)層102上方沉積熱和/或輻射反射金屬層112，并且其可以是如上文關(guān)于金屬層46所述。在一個實施方案中，反射層112包含厚度為3nm至Snm的金屬銀，例如4nm至8nm，例如5nm至7nm，例如6nm至7nm。金屬層112為連續(xù)層。底漆層114位于反射層112上方。底漆層114可如上文關(guān)于底漆層48所述。例如，底漆層114可以是鈦并且可以具有0. 5至5nm的厚度，例如1至5nm，例如2nm至5nm， 例如3nm至4nm。第二介質(zhì)層120位于反射層112上方(如在第一底漆層114上方)。第二介質(zhì)層 120包含一個或多個含金屬氧化物或金屬合金氧化物的膜，例如上文關(guān)于第一介質(zhì)層40所述的那些。例如，第二介質(zhì)層120可包括第一金屬氧化物膜122，例如氧化鋅膜，第二金屬合金氧化物膜124，例如錫酸鋅膜，第三金屬氧化物膜126，例如氧化鋅膜，和第四金屬合金氧化物膜128，例如錫酸鋅膜。第二介質(zhì)層120的總厚度(例如所述層的組合厚度)可以為IOnm至50nm，例如 20nm 至 50nm,例如 30nm 至 50nm,例如 30nm 至 40nm,例如 30nm 至 35nm。例如，氧化鋅膜122和126中每一個的厚度可以為3nm至15nm，例如3nm至10nm， 例如3nm至5nm，例如4nm至5nm。所述膜不必具有相同的厚度。金屬合金氧化物(錫酸鋅) 層124和128可具有5nm至20nm的厚度，例如5nm至15nm,例如IOnm至15nm,例如Ilnm 至12nm。所述膜不必具有相同的厚度。罩面層140可位于第二介質(zhì)層120上方。罩面層140可以是如上文關(guān)于罩面層60 所述。例如，罩面層140可以是厚度為Inm至IOnm的氧化鈦，例如2nm至8nm，例如4nm至 8nm,例如 6nm 至 8nm。可提供任選的保護涂層150。該保護涂層150可以是如上文關(guān)于保護涂層70所述。保護涂層150可位于罩面層140上方、罩面層140下方、或者可使用其替代罩面層140。當使用涂層30、100來制備基準絕緣玻璃單元(IGU)時，該基準絕緣玻璃單元具有兩塊3mm的凈片玻璃板，兩塊玻璃板之間有0. 5英寸的間隙，該間隙被氬氣所填充，并且涂層30、100在IGU的第3表面上(例如在內(nèi)側(cè)玻璃板的外表面上)，所述涂層可實現(xiàn)如下的性能SHGC大于或等于0. 60，例如大于或等于0. 62，例如大于或等于0. 63、，例如大于或等于0. 65、例如大于或等于0. 66、例如大于或等于0. 67、例如大于或等于0. 70、例如大于或等于0. 75，以及U-值小于或等于0. 40，例如小于或等于0. 38、例如小于或等于0. 36、例如小于或等于0. 35、例如小于或等于0. 34、例如小于或等于0. 33、例如小于或等于0. 32、例如小于或等于0. 30、例如小于或等于0. 28。如圖3所示，本發(fā)明的中性高透射涂層還非常適合用作三重玻璃I⑶80中使用的涂層。圖3中的I⑶80類似于圖1中的I⑶10，但其包括與第二層片18隔開的第三層片 82。第三層片82具有外表面84(第5表面)和相對的第二主表面86(第6表面)。本發(fā)明的涂層30或100可沉積在第5表面上方。另一涂層88也可被引入I⑶80中。在一個非限制性實施方案中，涂層88可與涂層30或100相同。例如，涂層30或100可形成于第5 表面的至少一部分的上方，以及涂層88 (涂層30或100)可形成于第2表面或第3表面的至少一部分的上方，以提供高的SHGC。在本發(fā)明另一非限制性實施方案中，為實現(xiàn)具有高可見光透射和低U-值的較低SHGC的I⑶，涂層30和100可如上文所述，但涂層88可為較低 SHGC的涂層。例如，涂層88可包括兩層或更多金屬銀層，如三層或更多金屬銀層，例如四層或更多金屬銀層。適宜的較低SHGC的涂層實例包括SOLARBAN 60涂層(包括2層銀反射層)或SOLARBAN 70XL涂層(包括3層銀反射層)，二者均可商購自賓夕法尼亞州匹茲堡的PPG工業(yè)公司。例如，本發(fā)明的涂層30或100可位于I⑶80的第4表面或第5表面上，而較低SHGC的涂層88可位于第2表面上。涂層88可具有比涂層30或100更低的發(fā)射率。例如，本發(fā)明的涂層30或100的發(fā)射率小于或等于0.15，例如小于或等于0.1。第二涂層88的發(fā)射率可小于或等于0. 1，例如小于或等于0. 05。下面的實施例說明了本發(fā)明的多種實施方案。然而，應理解本發(fā)明并不限于這些具體實施方案。
實施例表1舉例說明了本發(fā)明的涂層疊層的實施方案。在每個實施例中，反射層為銀，底漆層為氧化鈦，保護層為氧化鈦，且介質(zhì)層包括Si2SnO4和SiO (90wt. %的氧化鋅和IOwt. % 的氧化錫)的亞層，其中定位ZnO亞層使其靠近銀層。ZnO亞層處在5至15nm的范圍內(nèi)。 各涂層的性能數(shù)據(jù)是基于上文所述配置的填充氬氣的IGU。顏色坐標a*、b*和L*為本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所知曉的常規(guī)CIE(1931)和CIELAB體系的顏色坐標。涂層的反射顏色為中性至藍色。SHGC和U-值是關(guān)于前述基準I⑶的值。實施例1和3中的涂層疊層是用于退火玻璃產(chǎn)品，即不將帶涂層玻璃加熱至玻璃基底10的回火溫度(約1200° F)。如果將涂層加熱至玻璃基底的回火溫度，則涂層疊層將會分解并表現(xiàn)出混濁。實施例2和4中的涂層疊層是用于回火玻璃產(chǎn)品，即在帶涂層的玻璃基底回火之后，涂層達到所需的性能特性。表 權(quán)利要求
1.一種涂覆的透明制品，包含 基底；在至少一部分基底上方形成的第一介質(zhì)層；在至少一部分第一介質(zhì)層上方形成的連續(xù)金屬層，該金屬層厚度小于8nm ； 在至少一部分金屬層上方形成的底漆層； 在至少一部分底漆層上方形成的第二介質(zhì)層；以及在至少一部分第二介質(zhì)層上方形成的罩面層，其中，當該涂層應用于基準IGU的第3表面上時，該涂層提供大于或等于0. 6的SHGC 以及小于或等于0. 35的U-值。
2.權(quán)利要求1所述的透明制品，其中第一介質(zhì)層包含沉積于錫酸鋅膜上方的氧化鋅膜，且第一介質(zhì)層的厚度為40nm至50nm。
3.權(quán)利要求2所述的透明制品，其中氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm。
4.權(quán)利要求1所述的透明制品，其中金屬層包含具有小于或等于7.5nm厚度的銀。
5.權(quán)利要求1所述的透明制品，其中第二介質(zhì)層包含氧化鋅膜和沉積在該氧化鋅膜上方的錫酸鋅膜，且第二介質(zhì)層的厚度為30nm至40nm。
6.權(quán)利要求5所述的透明制品，所述氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm。
7.權(quán)利要求1所述的透明制品，其中罩面層包含氧化鈦且厚度為2nm至6nm。
8.權(quán)利要求1所述的透明制品，其中第一介質(zhì)層包含含錫酸鋅的第一層，含氧化鋅的第二層，含錫酸鋅的第三層，和含氧化鋅的第四層。
9.權(quán)利要求8所述的透明制品，其中第一介質(zhì)層的厚度為44nm至48nm，第一層和第三層各自的厚度為16nm至17nm，并且第二層和第四層各自的厚度為6nm至8nm。
10.權(quán)利要求1所述的透明制品，其中第二介質(zhì)層包含含氧化鋅的第一層，含錫酸鋅的第二層，含氧化鋅的第三層，和含錫酸鋅的第四層。
11.權(quán)利要求10所述的透明制品，其中第二介質(zhì)層的厚度為30nm至35nm，第一層和第三層各自的厚度為3nm至5nm，并且第二層和第四層各自的厚度為1 Inm至12nm。
12.權(quán)利要求1所述的透明制品，其中所述基底為玻璃基底，其中第一介質(zhì)層的厚度為40nm至50nm，該第一介質(zhì)層包含沉積于錫酸鋅膜上方的氧化鋅膜，該氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm，并且該錫酸鋅膜的厚度為25nm至40nm， 其中所述金屬層包含具有小于或等于7. 5nm厚度的銀， 其中所述底漆膜包含鈦，其中所述第二介質(zhì)層包含氧化鋅膜和沉積在該氧化鋅膜上方的錫酸鋅膜，所述第二介質(zhì)層的厚度為30nm至40nm，且所述氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm，其中所述罩面層的厚度為2nm至6nm，且所述罩面層包含氧化鈦，以及其中當該涂層應用于基準IGU的第3表面時，該涂層提供大于或等于0. 65的SHGC以及小于或等于0. 33的U-值。
13.權(quán)利要求1所述的涂覆的透明制品，其中所述基底為玻璃基底，其中第一介質(zhì)層含含錫酸鋅的第一層，含氧化鋅的第二層，含錫酸鋅的第三層，和含氧化鋅的第四層，其中第一介質(zhì)層的厚度為44nm至48nm，第一層和第三層各自的厚度為 16nm至17nm，且第二層和第四層各自的厚度為6nm至8nm，其中所述金屬層包含具有小于或等于7nm厚度的銀， 其中所述底漆膜包含鈦，其中所述第二介質(zhì)層包含含氧化鋅的第一層，含錫酸鋅的第二層，含氧化鋅的第三層，和含錫酸鋅的第四層，其中第二介質(zhì)層的厚度為30nm至35nm，第一層和第三層各自的厚度為3nm至5nm，且第二層和第四層各自的厚度為Ilnm至12nm，其中所述罩面層的厚度為5nm至lOnm，且所述罩面層包含氧化鈦，以及其中當該涂層應用于基準IGU的第3表面時，該涂層提供大于或等于0. 65的SHGC以及小于或等于0. 35的U-值。
14.一種絕緣玻璃單元，包含 具有第1表面和第2表面的第一基底；與第一基底隔開的第二基底，并且該第二基底具有第3表面和第4表面，且第3表面面向第2表面；以及形成于至少一部分第3表面上方的涂層，該涂層包含在至少一部分基底上方形成的第一介質(zhì)層；在至少一部分第一介質(zhì)層上方形成的連續(xù)金屬層，其中該金屬層包含具有小于或等于7. 5nm厚度的銀；在至少一部分第一金屬層上方形成的底漆層，其中該底漆膜包含鈦；在至少一部分底漆層上方形成的第二介質(zhì)層；以及在至少一部分第二介質(zhì)層上方形成的罩面層，其中，該絕緣玻璃單元具有大于或等于0. 65的SHGC以及小于或等于0. 35的U-值。
15.權(quán)利要求14所述的絕緣玻璃單元，其中第一介質(zhì)層的厚度為40nm至50nm，第一介質(zhì)層包含沉積于錫酸鋅膜上方的氧化鋅膜，該氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm，并且該錫酸鋅膜的厚度為25nm至40nm，其中該金屬層包含具有小于或等于7. 5nm厚度的銀， 其中所述底漆膜包含鈦，其中該第二介質(zhì)層包含氧化鋅膜和沉積在該氧化鋅鋅膜上方的錫酸鋅膜，所述第二介質(zhì)層的厚度為30nm至40nm，并且所述氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm，以及其中所述罩面層的厚度為2nm至6nm，且所述罩面層包含氧化鈦。
16.權(quán)利要求14所述的絕緣玻璃單元，其中第一介質(zhì)層包含含錫酸鋅的第一層，含氧化鋅的第二層，含錫酸鋅的第三層，和含氧化鋅的第四層，其中第一介質(zhì)層的厚度為44nm 至48nm，第一層和第三層各自的厚度為16nm至17nm，并且第二層和第四層各自的厚度為 6nm 至 8nm，其中所述金屬層包含具有小于或等于7nm厚度的銀， 其中所述底漆膜包含鈦，其中第二介質(zhì)層包含含氧化鋅的第一層，含錫酸鋅的第二層，含氧化鋅的第三層，和含錫酸鋅的第四層，其中第二介質(zhì)層的厚度為30nm至35nm，第一層和第三層各自的厚度為 3nm至5nm，并且第二層和第四層各自的厚度為Ilnm至12nm，以及其中所述罩面層的厚度為5nm至lOnm，且所述罩面層包含氧化鈦。
17.一種絕緣玻璃單元，包含具有第1表面和第2表面的第一基底；與第一基底隔開的第二基底，并且該第二基底具有第3表面和第4表面，且第3表面面向第2表面；與第二基底隔開的第三基底，并且該第三基底具有第4表面和第5表面； 形成于第5表面的至少一部分上方的第一涂層，該涂層包含 在至少一部分基底上方形成的第一介質(zhì)層； 在至少一部分第一介質(zhì)層上方形成的連續(xù)金屬層， 在至少一部分所述金屬層上方形成的底漆層； 在至少一部分底漆層上方形成的第二介質(zhì)層；以及在至少一部分第二介質(zhì)層上方形成的罩面層，其中該罩面層的厚度為2nm至6nm，并且該罩面層包含氧化鈦；以及形成于第2表面的至少一部分上方的第二涂層，該第二涂層包含至少兩個由介質(zhì)層隔開的金屬銀層，以及其中，該絕緣玻璃單元具有大于或等于0. 65的SHGC以及小于或等于0. 35的U-值。
18.權(quán)利要求17所述的絕緣玻璃單元，其中第一涂層的第一介質(zhì)層的厚度為40nm至 50nm，第一介質(zhì)層包含沉積于錫酸鋅膜上方的氧化鋅膜，該氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm， 并且該錫酸鋅厚度為25nm至40nm，其中第一涂層的金屬層包含具有小于或等于7. 5nm厚度的銀， 其中第一涂層的底漆膜包含鈦，其中第一涂層的第二介質(zhì)層包含氧化鋅膜和沉積在該氧化鋅膜上方的錫酸鋅膜，第二介質(zhì)層的厚度為30nm至40nm，并且該氧化鋅膜的厚度為3nm至15nm，以及其中第一涂層的罩面層具有2nm至6nm的厚度，并且所述罩面層包含氧化鈦。
19.權(quán)利要求17所述的絕緣玻璃單元，其中第一涂層的第一介質(zhì)層包含含錫酸鋅的第一層，含氧化鋅的第二層，含錫酸鋅的第三層，和含氧化鋅的第四層，其中第一介質(zhì)層的厚度為44nm至48nm，第一層和第三層各自的厚度為16nm至17匪，并且第二層和第四層各自的厚度為6nm至8nm，其中第一涂層的金屬層包含具有小于或等于7nm厚度的銀， 其中第一涂層的底漆膜包含鈦，其中第一涂層的第二介質(zhì)層包含含氧化鋅的第一層，含錫酸鋅的第二層，含氧化鋅的第三層，和含錫酸鋅的第四層，其中第二介質(zhì)層的厚度為30nm至35nm，第一層和第三層各自的厚度為3nm至5nm，第二層和第四層各自的厚度為Ilnm至12nm，以及其中第一涂層的罩面層的厚度為5nm至lOnm，并且該罩面層包含氧化鈦。
全文摘要
一種提供高的陽光得熱系數(shù)(SHGC)和低的總傳熱系數(shù)(U-值)以捕獲和保留太陽熱的涂層。該涂層和涂覆制品特別適用于北方氣候中的建筑物透明制品。該涂層包括第一介質(zhì)層；在至少一部分第一介質(zhì)層上方形成的連續(xù)金屬層，該金屬層厚度小于8nm；在至少一部分金屬層上方形成的底漆層；在至少一部分底漆層上方形成的第二介質(zhì)層；和在至少一部分第二介質(zhì)層上方形成的罩面層。當應用于基準IGU的第3表面上時，該涂層提供大于或等于0.6的SHGC以及小于或等于0.35的U-值。
文檔編號C03C17/36GK102438961SQ201080016459
公開日2012年5月2日 申請日期2010年5月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月8日
發(fā)明者A·V·瓦格納 申請人:Ppg工業(yè)俄亥俄公司