專利名稱：一種硅片切割過程中斷線的處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于晶硅太陽能電池技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種晶硅太陽能電池片切 割過程中斷線的處理裝置。
背景技術(shù)：
隨著光伏產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，對硅片的需求量越來越大，處于光伏產(chǎn)業(yè)上游硅片制 備環(huán)節(jié)顯得越來越重要。硅片在太陽能電池的成本中占了 60%左右，所以利用線切割設(shè)備 的先進(jìn)工藝和技術(shù)特性來降低硅片成本，節(jié)約原材料，提高生產(chǎn)效率，已成為該領(lǐng)域技術(shù)研 發(fā)和生產(chǎn)實際中廣泛關(guān)注的焦點。在硅片制備過程中，線切割環(huán)節(jié)顯的尤為重要，切割以前 的整個流程中，拉晶(鑄錠)、分段、開方(破錠)三個環(huán)節(jié)的硅料損耗都很低，唯獨在切割中 造成的損耗最大。究其原因，主要是切割過程中斷線現(xiàn)象時有發(fā)生，而斷線后，處理不當(dāng)又 極可能造成硅片報廢。因此控制線切割斷線以及在斷線后的處理是提高硅片質(zhì)量和成品率 的重要因素之一。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是，提供一種硅片切割過程中斷線的處理裝置，使切割過程中 出現(xiàn)斷線時能得到很好的處理，最大限度地減少硅材料的損耗，提高硅片質(zhì)量和成品率，降 低硅片成本，節(jié)約原材料。本實用新型解決技術(shù)問題的采取的技術(shù)方案是一種硅片切割過程中斷線的處理 裝置，它用于沖洗步驟，由一組五根設(shè)有若干噴射孔且尾端密封的噴管組成，所述噴射孔垂 直于噴管；其中噴管I兩根，噴管II、噴管III、噴管IV各一根，所述的噴管I設(shè)有一排噴射 孔，所述的噴管II設(shè)有兩排噴射方向呈180°夾角的噴射孔、所述的噴管III設(shè)有兩排噴射方 向呈120°夾角的噴射孔、所述的噴管IV設(shè)有兩排噴射方向呈90°夾角的噴射孔；所述各 噴管設(shè)置噴射孔段的長度與被切割硅棒的長度相當(dāng)，所述噴射孔的孔徑為0. 8mm 1. 2mm, 所述噴射孔的間距為1. 2mm 1. 6mm。作為一種優(yōu)選，所述各噴管的噴射孔的孔徑為1mm，噴射孔的間距為1. 5mm。本實用新型所述的斷線有幾種情況，發(fā)生于收線一端、發(fā)生于出線一端第一或者 發(fā)生在線網(wǎng)中間。當(dāng)斷線發(fā)生于收線一端，則直接從斷線處拉出并連接到收線卷筒即可繼 續(xù)切割；當(dāng)斷線發(fā)生于出線一端，則可將斷線向出線一端拉出并連接到出線卷筒，變換進(jìn)給 方向進(jìn)行反向切割；而當(dāng)斷線發(fā)生在線網(wǎng)中間，重新布線時斷線可拉向收線卷筒并連接后 繼續(xù)切割，也可以拉向出線卷筒并連接后進(jìn)行反向切割。然而斷線處理過程中的清洗步驟 十分重要，以往設(shè)備中沒有專門的清洗設(shè)備。本實用新型彌補(bǔ)了這一缺陷，清洗時，將各噴 管安裝到切割機(jī)中原噴漿管的位置，其中兩根噴管I分別安裝于處于并列狀態(tài)的兩硅棒的 左右兩側(cè)；噴管II、噴管III、噴管IV則根據(jù)切割深度選擇并安裝于兩硅棒之間，切割深度小 于50mm而用砂漿沖洗時，選擇噴管II，切割深度大于50mm而用水沖洗時，以水的噴射方向 能最大限度地對準(zhǔn)切割縫為依據(jù)，選擇噴管III或噴管IV，通常情況下，切割深度相對較淺時選擇噴管III，切割深度相對較深時選擇噴管IV。用水沖洗時，水的溫度和流量要適當(dāng)，一般 情況下，水溫宜控制在18°c 25 °C，流量宜控制在75 L/min 85L/min。實施本實用新型，在切割過程中出現(xiàn)斷線而進(jìn)行處理時，采用本實用新型替換噴 漿裝置，處理效果極佳，從而減少硅材料的損耗，提高硅片質(zhì)量和成品率，降低硅片生產(chǎn)成 本，節(jié)約原材料。

圖1為本實用新型一種實施方式裝置結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1所示裝置的截面圖，其中(a)為噴管I，(b)為噴管II，(c)為噴管III， (d)為噴管IV。
具體實施方式
實施例1 一種沖洗用的裝置由一組五根設(shè)有噴射孔且尾端密封的噴管組成，其中噴管I兩根，噴管II、噴管 III、噴管IV各一根。噴管I設(shè)有一排噴射孔，如圖1和圖2(a)所示；噴管II設(shè)有兩排噴射方 向呈180°夾角的噴射孔，如圖2(b)；噴管III設(shè)有兩排噴射方向呈120°夾角的噴射孔，如 圖2(c)；噴管IV設(shè)有兩排噴射方向呈90°夾角的噴射孔，如圖2(d)。噴管上設(shè)置噴射孔段 的長度與被切割硅棒的長度相同為300mm，每一排有200個噴射孔，噴射孔的孔徑為1mm，噴 射孔的間距為1. 5mm。
權(quán)利要求1.一種硅片切割過程中斷線的處理裝置，用于沖洗步驟，其特征在于，由一組五根設(shè) 有若干噴射孔且尾端密封的噴管組成，所述噴射孔垂直于噴管；其中噴管I兩根，噴管II、 噴管III、噴管IV各一根，所述的噴管I設(shè)有一排噴射孔，所述的噴管II設(shè)有兩排噴射方向呈 180°夾角的噴射孔、所述的噴管III設(shè)有兩排噴射方向呈120°夾角的噴射孔、所述的噴管 IV設(shè)有兩排噴射方向呈90°夾角的噴射孔；所述各噴管設(shè)置噴射孔段的長度與被切割硅 棒的長度相當(dāng)，所述噴射孔的孔徑為0. 8mm 1. 2mm，所述噴射孔的間距為1. 2mm 1. 6mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片切割過程中斷線的處理裝置，其特征在于，所述各 噴管的噴射孔的孔徑為1mm，噴射孔的間距為1. 5mm。
專利摘要本實用新型涉及一種晶硅太陽能電池片切割過程中斷線的處理裝置。由一組五根設(shè)有若干噴射孔且尾端密封的噴管組成；其中設(shè)有一排噴射孔的噴管Ⅰ兩根，設(shè)兩排噴射孔噴射方向呈180°夾角、120°夾角和90°夾角的噴管Ⅱ、噴管Ⅲ和噴管Ⅳ各一根，噴射孔的孔徑為0.8mm～1.2mm，噴射孔的間距為1.2mm～1.6mm。采用本實用新型替換噴漿裝置，處理效果極佳，可減少硅材料的損耗，提高硅片質(zhì)量和成品率，降低硅片生產(chǎn)成本，節(jié)約原材料。
文檔編號B28D7/00GK201863308SQ201020591738
公開日2011年6月15日 申請日期2010年11月4日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月4日
發(fā)明者徐國華 申請人:浙江芯能光伏科技有限公司