專利名稱：：高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片及制備方法
技術(shù)領域：
：本發(fā)明涉及一種光學玻璃，尤其涉及高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片及制備方法。
背景技術(shù)：
：隨著世界光電子行業(yè)的異常迅猛發(fā)展，在數(shù)碼相機(DigitalCamera)、數(shù)碼攝像機(DigitalVideoCamera)、CCTV高級攝像系統(tǒng)，各類安全監(jiān)視系統(tǒng)等的成像要求也急劇提高。靜止畫面的成像畫素已經(jīng)從當初的數(shù)萬提高到了目前的高達1000萬畫素以上。已經(jīng)進入普通老百姓的生活，帶照相/攝像功能的手機也已經(jīng)達到300萬畫素以上。隨著成像畫素要求的不斷提高，原先不為人們所注重的成像缺陷等問題，已經(jīng)逐漸變?yōu)槿藗儫o法接受，從而成為該領域亟待解決的技術(shù)焦點。到目前為止，一般通過鍍膜來對光的選擇從而滿足分光要求。但是入射光在膜層中的反復多次穿透以及反射來完成成像要求的光路中，由于部分雜散光導致的像暈現(xiàn)象已經(jīng)無法解決。一些存在于光路中的光學部件上的極其微小的納米級的表面缺陷也被超高性能的光電轉(zhuǎn)換部件CCD/CMOS等進行高倍放大，影響成成像質(zhì)量，是目前高畫素成像系統(tǒng)中目前亟待解決的最大難點課題。有色光學玻璃在照相器材、科研、冶金、醫(yī)療儀器等眾多領域有廣泛的應用，生產(chǎn)科技含量較高，生產(chǎn)工藝和配方復雜，世界先進國家的相關(guān)生產(chǎn)企業(yè)基本壟斷了該生產(chǎn)技術(shù)，并實行嚴格的技術(shù)保密和封鎖，使我國相關(guān)光學玻璃生產(chǎn)企業(yè)的技術(shù)相對較為薄弱。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是從磷酸鹽為基質(zhì)，摻加了二價銅離子和四價鈰離子，有效的解決磷酸鹽玻璃易析晶等難題，從而提供一種高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片及制備方法。高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片，其原料的重量百分比組成為:P205A1203Na20Li20BaoMgoZnoB203CuoGe2o340-5015-2020-251-35-81-52-61-51-30-1高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片的制備方法，其特征在于包括以下步驟先將按上述的重量百分比原料A1203、Na20、Li20、Bao、Mgo、Zno、B203、Cuo和Ce203—起放入配料箱，混合均勻后，再加入P205—起混勻;再加入原料總重0.5-5%比例的水作為催化劑進行預反應成反應料；然后將反應料加到石英坩堝里面進行高溫熔制，熔制溫度1200-1300°C，高溫澄清5-6小時；將退火后的玻璃切割、磨砂、拋光制得所需外型及厚度的產(chǎn)品，得到高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片。采用上述配方及工藝組成的本發(fā)明具有特殊的光譜選擇吸收性功能，使原來無法被鍍膜所解決的雜散光被材料本身吸收變成熱能。從根本上達到防止CCD/CM0S等由于像素間隔引起的偽色及波紋等現(xiàn)象，降低紅外光等對CCD/CMOS成像的影響。由此材料所制成的各類超高精度補色玻璃超薄片廣泛地應用于照相機、攝像機、手機攝像頭、投影儀、高級掃描儀、高級顯微系統(tǒng)等各相關(guān)領域。本發(fā)明具有以下特點1、以磷酸鹽為基質(zhì)的，摻加了二價銅離子和四價鈰離子，制備出適用于700萬以上像素數(shù)碼相機用低通濾波器基片，可替代進口氟磷酸鹽玻璃；2、在磷鋁酸鹽玻璃基材上添加鋇鋅等金屬氧化物，研制出高穩(wěn)定性的磷酸鹽低通濾波基片；3、開發(fā)了磷鋁酸鹽玻璃材料的制備技術(shù)，確立了熔制和后處理控制條件，有效的解決磷酸鹽玻璃易析晶等難題。具體實施方式下面結(jié)合實施例對本發(fā)明作進一步的描鴻。下表是本發(fā)明的四個實施例，原料比例配方(重量百分比％)<table>tableseeoriginaldocumentpage5</column></row><table>上表所示配方中，所使用的為高純度原材料。實施例1的高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片的制備方法為-先按上表中實施例編號1中的重量百分比原料Al203、Na20、Li20、Bao、Mgo、Zno、B203、Cuo和Ce203—起放入配料箱，混合均勻后，再和？205—起混勻；再加入原料總重0.6%比例的水作為催化劑進行預反應成反應料；然后將反應料加到石英坩堝里面進行高溫熔制，熔制溫度125(TC，高溫澄清5小時；將退火后的玻璃切割、磨砂、拋光制得所需外型及厚度的產(chǎn)品，得到本發(fā)明的高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片。上表中的實施例2、實施例3和實施例4的高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片的制備方法均為先將上表中實施例對應編號的重量百分比的原料Al203、Na20、Li20、Bao、Mgo、Zno、B203、Cuo和Ce203—起放入配料箱，分人工和機械兩步混均勻后，再加P20s—起混勻；再加入原料總重0.5-5%比例的水作為催化劑進行預反應成反應料；然后將反應料加到石英坩堝里面進行高溫烙制，熔制溫度1200-1300°C，高溫澄清5-6小時；將退火后的玻璃切割、磨砂、拋光制得所需外型及厚度的產(chǎn)品，得到本發(fā)明的高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片。經(jīng)檢測用上述四個配方和工藝制成的高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片，其各項性能如下表所示:<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>該產(chǎn)品的光學性能與日本HOYA產(chǎn)品相當，部份指標優(yōu)于國外同類產(chǎn)品，可替代進口材料，為國家節(jié)省大量外匯，可促進我國數(shù)碼相機等產(chǎn)品的開發(fā)進程。權(quán)利要求1、高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片，其特征在于其原料的重量百分比組成為<tablesid="tabl0001"num="0001"><table><tgroupcols="10"><colspeccolname="c001"colwidth="10%"/><colspeccolname="c002"colwidth="10%"/><colspeccolname="c003"colwidth="10%"/><colspeccolname="c004"colwidth="10%"/><colspeccolname="c005"colwidth="10%"/><colspeccolname="c006"colwidth="10%"/><colspeccolname="c007"colwidth="10%"/><colspeccolname="c008"colwidth="10%"/><colspeccolname="c009"colwidth="10%"/><colspeccolname="c010"colwidth="9%"/><thead></column></row><row><column><entrymorerows="1">P2O5</entry><entrymorerows="1">Al2O3</entry><entrymorerows="1">Na2O</entry><entrymorerows="1">Li2O</entry><entrymorerows="1">Bao</entry><entrymorerows="1">Mgo</entry><entrymorerows="1">Zno</entry><entrymorerows="1">B2O3</entry><entrymorerows="1">Cuo</entry><entrymorerows="1">Ce2o3</entry></column></row></thead><tbody></column></row><row><column><entrymorerows="1">40-50</entry><entrymorerows="1">15-20</entry><entrymorerows="1">20-25</entry><entrymorerows="1">1-3</entry><entrymorerows="1">5-8</entry><entrymorerows="1">1-5</entry><entrymorerows="1">2-6</entry><entrymorerows="1">1-5</entry><entrymorerows="1">1-3</entry><entrymorerows="1">0-1</entry></column></row></tbody></tgroup></column></row><table></tables>2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片的制備方法，其特征在于包括以下步驟先將按權(quán)利要求l中的重量百分比原料Al203、Na20、Li20、Bao、Mgo、Zno、B203、Cuo和Ce203—起放入配料箱，混合均勻后，再和PA—起混勻；再加入原料總重0.5-5%比例的水作為催化劑進行預反應成反應料；然后將反應料加到石英坩堝里面進行高溫熔制，熔制溫度1200-1300°C，高溫澄清5-6小時；將退火后的玻璃切割、磨砂、拋光制得所需外型及厚度的產(chǎn)品，得到高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片。3、根據(jù)權(quán)利要求1所述高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片，其特征在于其原料的重量百分比組成為PAA1203Na20Li20Bax>MgoZnoB203CuoGe2o345162225.223.521.80.54、根據(jù)權(quán)利要求3所述的高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片的制備方法，其特征在于包括以下步驟先將按權(quán)利要求3中的重量百分比原料Al203、Na20、Li20、Bao、Mgo、Zno、B203、Cuo和Ce203—起放入配料箱，混合均勻后，再和&05—起混勻；再加入原料總重0.6%比例的水作為催化劑進行預反應成反應料；然后將反應料加到石英坩堝里面進行高溫熔制，熔制溫度1250°C，高溫澄清5小時；將退火后的玻璃切割、磨砂、拋光制得所需外型及厚度的產(chǎn)品，得到高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片。全文摘要本發(fā)明公開了一種高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片及制備方法。其原料的重量百分比組成為P<sub>2</sub>O<sub>5</sub>、40-50、Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>、15-20、Na<sub>2</sub>O、20-25、Li<sub>2</sub>O、1-3、BaO5-8、MgO1-5、Zno2-6、B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>1-5、CuO1-3和Ce<sub>2</sub>O<sub>3</sub>0-1。其制備方法包括以下步驟先將按上述的重量百分比原料Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>、Na<sub>2</sub>O、Li<sub>2</sub>O、BaO、MgO、ZnO、B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>、CuO和Ce<sub>2</sub>O<sub>3</sub>一起放入配料箱，混合均勻后，再加入P<sub>2</sub>O<sub>5</sub>一起混勻；再加入原料總重0.5-5％比例的水作為催化劑進行預反應成反應料；然后將反應料加到石英坩堝里面進行高溫熔制，熔制溫度1200-1300℃，高溫澄清5-6小時；將退火后的玻璃切割、磨砂、拋光制得所需外型及厚度的產(chǎn)品，得到高像素700萬以上數(shù)碼相機用低通濾波器基片。文檔編號C03C4/08GK101403799SQ200810122238公開日2009年4月8日申請日期2008年11月13日優(yōu)先權(quán)日2008年11月13日發(fā)明者倪國強,顧敏娟,顧敏強申請人:嘉善科瑞光學材料有限公司