專利名稱：：光敏性組合物、用其制備的障壁以及包含障壁的顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明的各方面涉及光敏性糊狀組合物、采用該光敏性糊狀組合物制備的等離子體顯示面板(PDP)的障壁(barrierrib)、和包括該障壁的PDP。更具體地，本發(fā)明的各方面涉及光敏性糊狀組合物，其可用于制造具有高分辨率和高精度同時僅需要一次曝光的PDP的障壁的圖案和其可用于制造與傳統(tǒng)的障壁相比具有更高反射率的障壁，本發(fā)明還涉及采用該光敏性糊狀組合物制備的PDP的障壁以及包括障壁的PDP。
背景技術(shù)：
：在PDP中，障壁是在后面板(或后基板)上形成的結(jié)構(gòu)，用于限定放電空間和防止鄰近放電單元之間的電或光串?dāng)_。根據(jù)PDP的類型，該障壁可具有各種形狀(例如，以條紋或矩陣(matrix)的形式)并且可具有各種尺寸(根據(jù)寬度和間距的變化)。采用例如絲網(wǎng)印刷法、噴砂法、蝕刻、光刻等在覆蓋在PDP的下基板上的地址(address)電極的介電層上形成障壁。當(dāng)采用絲網(wǎng)印刷法形成障壁時，采用圖案化的掩模和刮板(squeegee)將用于印刷的障壁糊狀物印刷到基板上，并且干燥以去除溶劑。重復(fù)幾次該印刷和干燥以獲得具有期望厚度的膜。燒結(jié)該獲得的膜，由此形成障壁。然而，該方法是耗時的，并且由于低分辨率和重復(fù)印刷產(chǎn)生的不對準(zhǔn)，很難形成均勻圖案化的障壁。當(dāng)采用噴砂法形成障壁時，通過臺式涂布機(jī)(tablecoater)將障壁糊狀物一次印刷到基板上，并干燥以獲得具有期望厚度的薄膜。然后將具有耐砂磨性的干燥膜抗蝕劑層壓在薄膜上，并且通過曝光和顯影而圖案化。然后，采用干燥膜抗蝕劑圖案作為掩模在高壓下進(jìn)行微磨損(micro-abrasive)噴砂，以獲得圖案化的膜。去除殘留的干燥膜抗蝕劑，和將圖案化的膜燒結(jié)以完成障壁。盡管與通過絲網(wǎng)印刷形成的障壁相比較，通過噴砂形成的障壁具有更高的分辨率，但是該噴砂方法具有缺點例如工藝復(fù)雜和由于與磨砂接觸引起損害電極端子的風(fēng)險。蝕刻是與噴砂相似的方法，不同之處在于采用蝕刻法，通過采用蝕刻溶液圖案化燒結(jié)的膜形成障壁。采用蝕刻，高分辨率是可能的，但是制造成本高。當(dāng)采用光刻形成障壁時，如例如在美國專利No.5,209,688中所公開的，將光敏性糊狀物印刷并且干燥以形成具有期望厚度的膜。通過配備有光掩模的UV曝光系統(tǒng)將該膜曝光于UV光。將印刷、干燥和曝光重復(fù)兩次。然后進(jìn)行顯影以選擇性地去除未曝光區(qū)域，隨后燒結(jié)，以獲得障壁。相對于絲網(wǎng)印刷，光刻可形成具有更高分辨率的障壁，且不像噴砂法，不需要干燥膜抗蝕劑和砂磨處理。然而，傳統(tǒng)的光刻法有缺點，包括需要工藝的重復(fù)且由于重復(fù)工藝產(chǎn)生的不對準(zhǔn)的風(fēng)險。因此，如美國專利No.6,197,480、6,507,148和6,576,391中所公開的，已開發(fā)了如下通過一次曝光光刻形成障壁的方法最小化光敏性糊狀物中的無機(jī)和有機(jī)化合物的光折射率之間的差異，以最小化在曝光期間在無機(jī)和有機(jī)化合物之間的界面處輻射的光的散射和反射。上述專利中描述的大多數(shù)方法已被廣泛使用。然而，上述專利中描述的方法具有以下問題。首先，為最小化無機(jī)化合物和有機(jī)化合物的光折射率之間的差異，必須使用在特定范圍內(nèi)具有非典型的光折射率的無機(jī)化合物或有機(jī)化合物。即，由于通常用于噴砂法、蝕刻等的障壁材料的無機(jī)化合物典型地具有1.60-1.80的光折射，和其有機(jī)化合物典型地具有1.50-1.60或更小的光折射率，所以利用用于傳統(tǒng)的形成障壁工藝的無機(jī)化合物和有機(jī)化合物不能最小化無機(jī)化合物和有機(jī)化合物的光折射率之間的差異。因此，由于典型地用于形成障壁的無機(jī)化合物具有高光折射率，和典型地用于形成障壁的有機(jī)材料具有較低的光折射率，為了最小化無機(jī)化合物和有機(jī)化合物的光折射率之間的差別，必須開發(fā)和使用具有低光折射率的無機(jī)材料，或者具有高折射率的有機(jī)化合物。其次，已使用或提出的具有高折射率的特定有機(jī)材料具有缺點。特別地，含有Br原子的粘合劑是不利的，因為該材料可對人體有害。此外，因為昂貴，含S單體是不利的。第三，在噴砂法、蝕刻等中，為了保持障壁的形狀和提高障壁反射率或在燒結(jié)工藝中使障壁著色，以預(yù)定量使用粉末例如氧化鈦、氧化鋁、二氧化硅、氧化鋯、氧化釔、氧化鎂、氧化鋅、氧化錳、氧化鐵、氧化錫、氧化銅、氧化鉛等。然而，在上述專利申請中公開的涉及一次曝光光刻的方法中，不能使用具有這樣組分的粉末。這是因為具有這樣組分的粉末具有非常高的光折射率，且由此不能最小化有機(jī)化合物和該粉末之間的光折射率的差異。該粉末干擾在曝光期間輻射的紫外線的透射率，使得障壁不能通過一次曝光形成。由于這些問題，具有上述專利申請中使用具有高熔點和低光折射率且對于紫外線是透明的玻璃代替通常使用的具有上述組分的粉末。結(jié)果，采用上述專利中公開的方法制備的障壁具有低反射率。因此，當(dāng)PDP工作時發(fā)出的可見光線的反射率降低，導(dǎo)致與采用噴砂法或蝕刻制備的障壁相比，亮度降低更多。因此，為補(bǔ)償這些缺點，使用補(bǔ)償降低的亮度的方法，通過使障壁的寬度比采用其它方法制備的障壁窄，且因此，涂布有磷光體的面積最大化。最后，采用在上述專利中公開的方法制備的障壁與采用其它方法制備的障壁相比較具有較高的膜的表面粗糙度。原因如下為通過一次曝光形成障壁，在曝光期間輻射的紫外線必須到達(dá)底表面。為使這變得可能，不僅必須最小化無機(jī)化合物和有機(jī)化合物的光折射率的差異，而且必須使用與在其它方法(砂磨或蝕刻)中使用的相比較具有相對較大粒徑的無機(jī)化合物。此外，在顯影過程中通過顯影液一點一點地去除曝光以固化的部分的表面，因此表面變得粗糙。粗糙的表面在燒結(jié)之后趨于保持它的形狀，盡管它取決于燒結(jié)的程度。因此，最后制備的障壁與采用其它方法制備的障壁相比具有較高的表面粗糙度。當(dāng)障壁的膜變粗糙時，對于可見光線的反射效率降低，因此除了亮度降低之外，還引發(fā)放電單元之間的串?dāng)_，且面板的斷裂強(qiáng)度降低或可產(chǎn)生由上和下基板的振蕩導(dǎo)致的噪音。為提高障壁的反射率以克服上述專利的問題，日本專利公開No.1999-102645公開了采用預(yù)定量的二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯或二氧化硅粉末的方法。然而，當(dāng)使用這些組分時，這些組分和有機(jī)化合物之間光折射率的差異增加，或不能透射輻射的紫外線，因此曝光敏感度顯著降低。因此，具有期望形狀的障壁不能通過一次曝光制備。此外，日本專利公開No.2000-290040描述了使用5-80nm的二氧化鈦、氧化鋁、二氧化硅、氧化鋯、氧化釔等。而且，日本專利公開No.2004-318116公開了通過添加5-80nm的二氧化鈦、氧化鋁、二氧化硅、氧化鋯、氧化釔、氧化鎂、氧化鋅、氧化錳、氧化鐵、氧化錫、氧化銅或氧化鉛來提高障壁的反射率的方法。當(dāng)使用具有與在曝光期間輻射的光波長相比的非常小直徑的顆粒時，該顆粒不導(dǎo)致對于光的散射、反射等，和導(dǎo)致有機(jī)化合物的光折射率增加，以及不需要使用具有低折射率的無機(jī)化合物和具有高折射率的有機(jī)化合物。然而，當(dāng)通過簡單添加上述5-80nm的粒狀組分、混合、3-輥研磨等制備障壁時，該粒狀分不以單獨的顆粒狀態(tài)分散在糊狀物中且變得彼此聚集。因此，日本專利公開No.2000-290040中公開的方法具有與日本專利公開No.1999-102645中示出的方法相似的問題。日本專利公開No.2002-122985公開了采用含金屬氧化物溶膠的光敏性糊狀物制備PDP障壁的方法。然而，忽視金屬氧化物溶膠組分影響有機(jī)化合物折射率的事實，且不顧金屬氧化物溶膠的折射率，僅意在最小化有機(jī)化合物和無機(jī)化合物之間折射率的差異。因此，該方法仍具有與上述的美國專利No.6,197,480、6,507,148和6,576,391所示的相同問題。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的一方面提供光敏性糊狀組合物，其可用于形成具有高分辨率和高精度的等離子體顯示面板(PDP)的障壁。該障壁可以包括僅曝光一次光敏性糊狀物的方法形成。該光敏性糊狀組合物提供具有比傳統(tǒng)障壁高的反射率的障壁。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供光敏性糊狀組合物，其包含金屬氧化物溶膠和無機(jī)材料，其中金屬氧化物溶膠的平均光學(xué)折射率(N1)和無機(jī)材料的平均光學(xué)折射率(N2)滿足以下的方程式1方程式1-0.2≤N1-N2≤0.2根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種采用該光敏性糊狀組合物制備的PDP的障壁。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種包含該障壁的PDP。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供形成等離子體顯示面板的障壁的方法，該方法包括利用光敏性糊狀組合物涂布基板，該組合物包含金屬氧化物溶膠材料和無機(jī)材料，該溶膠材料包含分散在有機(jī)混合物中的金屬氧化物，其中金屬氧化物溶膠的平均光學(xué)折射率(N1)和無機(jī)材料的平均光學(xué)折射率(N2)滿足下面方程式1方程式1-0.2≤N1-N2≤0.2；通過光敏性糊狀組合物的光刻在基板上形成障壁圖案；和焙燒在其上形成有障壁圖案的基板以形成障壁。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供包括至少一個障壁的等離子體顯示面板，其中至少一個障壁如下形成用光敏性糊狀組合物涂布基板，該組合物包含包括分散在有機(jī)混合物中的金屬氧化物的金屬氧化物溶膠材料和無機(jī)材料，其中金屬氧化物溶膠的平均光學(xué)折射率(N1)和無機(jī)材料的平均光學(xué)折射率(N2)滿足下面方程式1方程式1-0.2≤N1-N2≤0.2；通過光敏性糊狀組合物的光刻在基板上形成障壁圖案；和焙燒在其上形成有障壁圖案的基板以形成至少一個障壁。本發(fā)明的另外的方面和/或優(yōu)點將部分地在隨后的說明書中闡述，和部分地從說明書中顯而易見，或可通過實踐本發(fā)明而了解。結(jié)合以下附圖從以下實施方案的描述，本發(fā)明的這些和/或其它方面以及優(yōu)點將變得明晰和更容易理解，其中圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施方案的PDP的部分分解透視圖。具體實施例方式現(xiàn)在詳細(xì)參見本發(fā)明的實施方案，在附圖中說明其實施例，其中通篇相同的附圖標(biāo)記表示相同的元件。下面通過參見附圖描述該實施方案以說明本發(fā)明?，F(xiàn)在更詳細(xì)描述本發(fā)明的各方面。本發(fā)明的各方面提供光敏性糊狀組合物，其包含金屬氧化物溶膠和無機(jī)材料，其中金屬氧化物溶膠的平均光學(xué)折射率(N1)和無機(jī)材料的平均光學(xué)折射率(N2)滿足下面方程式1方程式1-0.2≤N1-N2≤0.2不像傳統(tǒng)的光敏性糊狀組合物，該光敏性糊狀組合物含有金屬氧化物溶膠。該金屬氧化物溶膠為溶膠-狀態(tài)材料，其中具有幾到幾十nm的直徑的金屬氧化物分散在有機(jī)混合物中。該金屬氧化物以穩(wěn)定態(tài)分散在有機(jī)混合物中，其中不出現(xiàn)例如凝聚或沉淀的現(xiàn)象。該金屬氧化物溶膠可與無機(jī)材料組合使用。采用含金屬氧化物溶膠的光敏性糊狀組合物制備的障壁具有比傳統(tǒng)的光敏性障壁高的反射率，且因此提供增加的亮度，起到支持體的作用以使障壁的形狀在燒結(jié)工藝中不變形，并提供增加的障壁的緊密度(compactness)，由此降低它的表面粗糙度。金屬氧化物溶膠的金屬組分可以是，但不限于，選自Si、Ti、Al、Zr、Ta、Ge、Y、Zn等的至少一種金屬組分。通常如下制備金屬氧化物溶膠采用水解和縮合(condensation)，由醇鹽或鹵化物化合物制備金屬氧化物前體，且將制備的金屬氧化物前體分散在有機(jī)混合物中。在此，在制備金屬氧化物前體的過程中，可自由地額外引入表面改性劑。在金屬氧化物前體的制備中，通過水解和縮合的程度確定金屬氧化物的平均粒徑。作為非限制的實例，該金屬氧化物可優(yōu)選具有1-60nm的平均粒徑。作為更具體的非限制性實例，該金屬氧化物可具有2-40nm的平均粒徑。作為還更具體的非限制性實例，該金屬氧化物可具有4-20nm的平均粒徑。當(dāng)金屬氧化物的平均粒徑小于1nm時，其制備困難且金屬氧化物很難均勻分散在有機(jī)混合物中。當(dāng)金屬氧化物的平均粒徑大于60nm時，曝光時該金屬氧化物散射光，且因此干擾光透射率。金屬氧化物前體的金屬氧化物的平均光折射率可在1.3-3.0的范圍內(nèi)。通過在有機(jī)混合物中分散金屬氧化物前體制備的金屬氧化物溶膠的平均光折射率可在1.4-2.0的范圍內(nèi)。當(dāng)金屬氧化物前體和金屬氧化物溶膠的平均光折射率不在這些范圍內(nèi)時，難以制備折射率在上述方程式1中給定的折射率范圍內(nèi)的光敏性糊狀組合物。術(shù)語“金屬氧化物溶膠的平均光折射率”指的是無溶劑存在時測量的平均光折射率。采用光折射率測量裝置，通過將金屬氧化物溶膠涂布到透明膜或玻璃基板上，并然后在80-100℃范圍內(nèi)的溫度下干燥該涂布的金屬氧化物溶膠幾到幾十分鐘，來測量金屬氧化物溶膠的光折射率。此外，在通過將金屬氧化物前體分散在有機(jī)混合物中來制備金屬氧化物溶膠中，相對于100體積份的有機(jī)混合物，金屬氧化物的量可以為5-50體積份。當(dāng)相對于100體積份的有機(jī)混合物，金屬氧化物的量小于5體積份時，障壁的反射率的增加不大。當(dāng)相對于100體積份的有機(jī)混合物，金屬氧化物的量大于50體積份時，當(dāng)曝光金屬氧化物溶膠時交聯(lián)反應(yīng)不充分地進(jìn)行，因此該障壁不能具有期望的形狀。當(dāng)金屬氧化物溶膠與無機(jī)材料混合時，考慮兩種混合比。一種是金屬氧化物溶膠和無機(jī)材料的折射率的混合比。特別地，作為非限制性實例，金屬氧化物溶膠和無機(jī)材料的折射率值可以滿足上述給定的方程式1。作為更具體的非限制性的實例，金屬氧化物溶膠和無機(jī)材料的折射率值可滿足下面方程式2。作為還更具體的非限制性的實例，金屬氧化物溶膠和無機(jī)材料的折射率值可滿足下面方程式3。方程式2-0.1≤N1-N2≤0.1方程式3-0.05≤N1-N2≤0.05其中N1和N2的每個與方程式1中定義的相同。當(dāng)金屬氧化物溶膠和無機(jī)材料的折射率之間的關(guān)系在方程式1所給定的范圍之外時，曝光期間輻射的光的透射率降低使得不能一次曝光形成障壁。當(dāng)金屬氧化物溶膠和無機(jī)材料的折射率之間的關(guān)系在上述的方程式3的范圍內(nèi)時，曝光敏感性極好，且輻射光的散射降低使得障壁圖案的平直度(straightness)也極好。當(dāng)確定金屬氧化物溶膠與無機(jī)材料的混合比時，還應(yīng)該考慮相對于光敏性糊狀組合物中的無機(jī)材料，金屬氧化物溶膠中的金屬氧化物的量。作為非限制性的實例，相對于100體積份的無機(jī)材料，金屬氧化物的量可以為3-30體積份。作為更具體的非限制性的實例，相對于100體積份的無機(jī)材料，金屬氧化物的量可以為5-20體積份。當(dāng)相對于100體積份的無機(jī)材料，金屬氧化物的量小于3體積份時，障壁的反射率的增加不大。當(dāng)相對于100體積份的無機(jī)材料，金屬氧化物的量大于30體積份時，無機(jī)材料不能充分燒結(jié)，因此障壁的緊密度降低。金屬氧化物和無機(jī)材料的平均熱膨脹系數(shù)α可滿足下面方程式4。方程式4基板的熱膨脹系數(shù)×0.9≤α≤基板的熱膨脹系數(shù)當(dāng)金屬氧化物和無機(jī)材料的平均熱膨脹系數(shù)在方程式4的范圍之外時，在嚴(yán)重的情況下，在燒結(jié)之后基板彎曲或斷裂。根據(jù)本發(fā)明的各方面所使用的光敏性糊狀組合物的無機(jī)材料可具有1.5-1.8的平均光折射率。當(dāng)無機(jī)材料的平均光折射率在該范圍之外時，無機(jī)材料的光折射率和金屬氧化物溶膠的光折射率之間的差異太大，使得不能通過一次曝光形成障壁。該無機(jī)材料含有具有低熔點的玻璃粉和具有高熔點的玻璃粉。在燒結(jié)過程中燒結(jié)無機(jī)材料的具有低熔點的玻璃粉，由此形成致密的障壁膜，和在燒結(jié)過程中具有高熔點的玻璃粉保持障壁膜的形狀。不具體限制具有低熔點的玻璃粉的顆粒形狀，但是作為非限制性的實例，可以是球形或幾乎是球形。具有低熔點的玻璃粉的顆粒形狀越接近球形，對于填充比和紫外線透射率的特性改善越多。具有低熔點的玻璃粉的平均粒徑可具有2-5μm的平均值D50，0.1μm的最小值Dmin和20μm的最大值Dmax。當(dāng)平均值D50小于2μm，或最小值Dmin小于0.1μm時，具有低熔點的玻璃粉的分散性降低，使得印刷性能惡化，和在燒結(jié)過程中其收縮比高，使得不能獲得具有期望形狀的障壁。當(dāng)平均值D50大于5μm，或最大值Dmax大于20um時，障壁的緊密度和平直度降低。具有低熔點的玻璃粉的軟化溫度Ts可滿足下面方程式5。方程式5燒結(jié)溫度-80℃＜Ts＜燒結(jié)溫度當(dāng)具有低熔點的玻璃粉的軟化溫度小于燒結(jié)溫度減去80℃時，在燒結(jié)過程中障壁的形狀變形。當(dāng)具有低熔點的玻璃粉的軟化溫度大于燒結(jié)溫度時，燒結(jié)不能充分進(jìn)行。相對于100體積份的無機(jī)材料，具有低熔點的玻璃粉的量可以為70-100體積份。當(dāng)相對于100體積份的無機(jī)材料，具有低熔點的玻璃粉的數(shù)量小于70體積份時，燒結(jié)不能充分進(jìn)行。具有低熔點的玻璃粉的實例包括，但不限于，包含選自以下的至少三種氧化物的復(fù)合氧化物Pb、Bi、Si、B、Al、Ba、Zn、Mg、Ca、P、V、Mo、Te等的氧化物。具有低熔點的玻璃粉可單獨使用或與兩種復(fù)合氧化物組合使用。更具體地，具有低熔點的玻璃粉可包括選自PbO-B2O3基玻璃、PbO-SiO2-B2O3基玻璃、Bi2O3-B2O3基玻璃、Bi2O3-SiO2-B2O3基玻璃、SiO2-B2O3-A12O3基玻璃、SiO2-B2O3-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO基玻璃、ZnO-B2O3-Al2O3基玻璃、ZnO-SiO2-B2O3基玻璃、P2O5基玻璃、SnO-P2O5基玻璃、V2O5-P2O5基玻璃、V2O5-Mo2O3基玻璃和V2O5-P2O5-TeO2基玻璃的化合物。不具體限制具有高熔點的玻璃粉的顆粒形狀，但是作為非限制性的實例，可以是球形或幾乎是球形。具有高熔點的玻璃粉的顆粒形狀越接近球形，對于填充比和紫外線透射率的特性改善越多。具有高熔點的玻璃粉的平均粒徑可具有1-4μm的平均值，0.1μm的最小值和20μm的最大值。當(dāng)平均值小于1μm，或最小值小于0.1μm時，曝光敏感性降低和在燒結(jié)過程中收縮比高使得不能獲得具有期望形狀的障壁。當(dāng)平均值大于5μm，或最大值大于20um時，障壁的緊密度和平直度降低。具有高熔點的玻璃粉的軟化溫度Ts可滿足下面方程式6。方程式6Ts＞燒結(jié)溫度+20℃當(dāng)具有高熔點的玻璃粉的軟化溫度小于燒結(jié)溫度+20℃時，在燒結(jié)過程中障壁的形狀變形。相對于100體積份的無機(jī)材料，具有高熔點玻璃粉的量可以為0-30體積份。當(dāng)相對于100體積份的無機(jī)材料，具有高熔點玻璃粉的量大于30體積份時，燒結(jié)不能充分進(jìn)行。具有高熔點玻璃粉的實例包括，但不限于，包含選自以下的至少三種氧化物的復(fù)合氧化物Si氧化物、B氧化物、Al氧化物、Ba氧化物、Zn氧化物、Mg氧化物、Ca氧化物等。具有高熔點的玻璃粉可單獨使用或與兩種復(fù)合氧化物組合使用。更具體地，具有高熔點的玻璃粉可包括選自SiO2-B2O3-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO基玻璃、SiO2-B2O3-MgO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO-MgO基玻璃、SiO2-Al2O3-BaO基玻璃、SiO2-Al2O3-CaO基玻璃、SiO2-Al2O3-MgO基玻璃、SiO2-Al2O3-BaO-CaO基玻璃、SiO2-Al2O3-CaO-MgO基玻璃等的化合物。如上述具有低熔點的玻璃粉和具有高熔點的玻璃粉的平均光折射率可以在1.5-1.8的范圍內(nèi)。此外，具有低熔點的玻璃粉的折射率N3和具有高熔點玻璃粉的折射率N4之間的差可滿足下面方程式7。作為具體的非限制性實例，具有低熔點的玻璃粉的折射率N3和具有高熔點的玻璃粉的折射率N4之間的差可滿足下面方程式8。作為具體的非限制性實例，具有低熔點的玻璃粉的折射率N3和具有高熔點玻璃粉的折射率N4之間的差可滿足下面方程式9。方程式7-0.2≤N3-N4≤0.2方程式8-0.1≤N3-N4≤0.1方程式9-0.05≤N3-N4≤0.05當(dāng)具有低熔點的玻璃粉和具有高熔點的玻璃粉的光折射率之間的差在方程式7的范圍之外時，曝光期間輻射的光的透射率降低使得不能通過一次曝光形成障壁。根據(jù)本發(fā)明的各方面所使用的有機(jī)混合物包括粘合劑、光引發(fā)劑和交聯(lián)劑。此外，該有機(jī)混合物可包括用于添加劑的溶劑，其用于改善糊狀物的性質(zhì)和調(diào)節(jié)粘度等。對于粘合劑，一般使用具有羧基的基于丙烯?；臉渲涫乖趬A性顯影液中顯影成為可能且根據(jù)組分組合改變的特性調(diào)節(jié)容易。具有羧基的基于丙烯酰基的樹脂使在堿性水溶液中進(jìn)行顯影成為可能，使無機(jī)組分在光敏性糊狀組合物中分散變得更容易，且提供適當(dāng)?shù)恼扯群蛷椥?。可通過具有羧基的單體和具有乙烯不飽和基團(tuán)的單體的共聚制備具有羧基的基于丙烯?；臉渲?。作為非限制性實例，具有羧基的單體可以為選自以下的至少一種丙烯酸、甲基丙烯酸、富馬酸、馬來酸、乙烯基乙酸、和其酐。作為具體的非限制性實例，具有乙烯不飽和基團(tuán)的單體可以是選自以下的至少一種(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基三甘醇酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸二環(huán)戊基酯、(甲基)丙烯酸二環(huán)戊烯基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸1-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸氨基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、α-2-二甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯等。此外，可以將可交聯(lián)基團(tuán)進(jìn)一步添加到粘合劑中，該可交聯(lián)基團(tuán)可引起具有羧基的單體和烯屬不飽和單體之間的交聯(lián)反應(yīng)。作為非限制性實例，該烯屬不飽和單體可選自丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯、烯丙基氯、丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸3，4-環(huán)氧環(huán)己基甲酯、甲基丙烯酸3，4-環(huán)氧環(huán)己基甲酯等。該共聚物可單獨用作粘合劑。然而，為了增強(qiáng)有機(jī)混合物的膜流平性和/或觸變性，該共聚物可與增強(qiáng)膜流平性和/或觸變性的試劑混合。作為非限制性實例，該共聚物可以與選自以下的至少一種混合纖維素、甲基纖維素、乙基纖維素、正丙基纖維素、羥乙基纖維素、2-羥乙基纖維素、甲基-2-羥乙基纖維素、羥基丙基纖維素、羥基丙基甲基纖維素、羥基丁基甲基纖維素、羥基丙基甲基纖維素鄰苯二甲酸酯、硝酸纖維素、醋酸纖維素、三乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、乙酸氫鄰苯二甲酸纖維素(celluloseacetatehydrogenphthalate)、乙酸丙酸纖維素、丙酸纖維素、乙酸丙酸(丙烯酰氨基甲基)纖維素、乙酸丁酸(丙烯酰氨基甲基)纖維素、氰乙基化物(cyanoethylate)纖維素、果膠酸、脫乙酰殼多糖、殼多糖、羧甲基纖維素、羧甲基纖維素鈉鹽、羧乙基纖維素和羧乙基甲基纖維素。該共聚物可具有500-100,000g/mol的重均分子量和50-300mgKOH/g的酸值。如果該共聚物的重均分子量小于500g/mol，那么糊狀物中無機(jī)材料的分散性降低。如果該共聚物的重均分子量大于100,000g/mol，那么顯影速度太低或顯影不能進(jìn)行。此外，如果該共聚物的酸值小于50mgKOH/g，那么顯影性能惡化。如果該共聚物的酸值大于300mgKOH/g，甚至曝光區(qū)也可以顯影。相對于100重量份的有機(jī)混合物，粘合劑的量可以為30-80重量份。當(dāng)相對于100重量份的有機(jī)混合物，粘合劑的量小于30重量份時，糊狀物的涂布性能和分散性降低。當(dāng)相對于100重量份的有機(jī)混合物，粘合劑的量大于80重量份時，曝光期間不能充分進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)，因此不能獲得具有期望形狀的圖案。當(dāng)曝光，例如，曝光于通過曝光設(shè)備輻射的光時，光引發(fā)劑產(chǎn)生自由基，且產(chǎn)生的自由基引發(fā)具有乙烯不飽和基團(tuán)的交聯(lián)劑的聚合反應(yīng)以產(chǎn)生不溶于顯影溶液的產(chǎn)物。由于光引發(fā)劑需要高敏感性，可將以下的光引發(fā)劑的至少兩種組合。光引發(fā)劑的實例包括，但不限于，(i)基于咪唑的化合物，(ii)基于三嗪的化合物，(iii)基于氨基苯乙酮的化合物，(iv)基于二苯甲酮和苯乙酮的化合物，(v)基于苯偶姻的化合物，(vi)基于二茂鈦的化合物，(vii)基于二唑的化合物，(viii)基于噻噸酮的化合物，(ix)基于(雙)?；趸⒌幕衔锖?x)有機(jī)硼鹽化合物的組合。作為非限制性的實例，基于咪唑的化合物可以為2，2′-雙(鄰-氯苯基)-4，4′，5，5′-四苯基-1，2′-二咪唑(biimidazole)、2，2′-雙(鄰-溴苯基)-4，4′，5，5′-四苯基-1，2′-二咪唑、2，2′-雙(鄰-氯苯基)-4，4′，5，5′-四(鄰，對-二氯苯基)-1，2′-二咪唑、2，2′-雙(鄰，對-二氯苯基)-4，4′，5，5′-四(鄰，對-二氯苯基)-1，2′-二咪唑、2，2′-雙(鄰-氯苯基)-4，4′，5，5′-四(間-甲氧基苯基)-1，2′-二咪唑、2，2′-雙(鄰-甲基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基-1，2′-二咪唑等。作為非限制性的實例，基于三嗪的化合物可以為2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-三(三溴甲基)-s-三嗪、2-丙?；?4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯甲酰基-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氯苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-雙(4-甲氧基苯基)-6-三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氯苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氨基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2，4-雙(3-氯苯基)-6-三氯甲基-s-三嗪、2-(4-氨基苯乙烯基)-4，6-雙(二氯甲基)-s-三嗪等。作為非限制性的實例，基于氨基苯乙酮的化合物可以為2-甲基-2-氨基(4-嗎啉代苯基)乙烷-1-酮、2-乙基-2-氨基(4-嗎啉代苯基)乙烷-1-酮、2-丙基-2-氨基(4-嗎啉代苯基)乙烷-1-酮、2-丁基-2-氨基(4-嗎啉代苯基)乙烷-1-酮、2-甲基-2-氨基(4-嗎啉代苯基)丙烷-1-酮、2-甲基-2-氨基(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮、2-乙基-2-氨基(4-嗎啉代苯基)丙烷-1-酮、2-乙基-2-氨基(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮、2-甲基-2-甲基氨基(4-嗎啉代苯基)丙烷-1-酮、2-甲基-2-二甲基氨基(4-嗎啉代苯基)丙烷-1-酮、2-甲基-2-二乙基氨基(4-嗎啉代苯基)丙烷-1-酮等。作為非限制性的實例，基于二苯甲酮和苯乙酮的化合物可以為二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2，4，6-三甲基二苯甲酮、鄰-苯甲?；郊姿峒柞?、4-苯基二苯甲酮、3，3′-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、4-苯甲?；?4′-甲基二苯硫醚、4，4′-雙(N，N-二甲基氨基)二苯甲酮、4，4′-雙(N，N-二乙基氨基)二苯甲酮、3，3′，4，4′-四(叔丁基過氧羰基)二苯甲酮、(2-丙烯酰氧乙基)(4-苯甲酰基芐基)二甲基溴化銨、4-(3-二甲基氨基-2-羥基丙基)二苯甲酮、(4-苯甲?；S基)三甲基氯化銨、甲氯化物一水合物、二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-異丙基苯基)-2-甲基丙烷-1-酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、4-叔丁基-三氯苯乙酮等。作為非限制性的實例，基于苯偶姻的化合物可以為苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻異丁醚等。作為非限制性的實例，基于二茂鈦的化合物可以為二環(huán)戊二烯基-Ti-二氯化物、二環(huán)戊二烯基-Ti-二苯基、二環(huán)戊二烯基-Ti-雙(2，3，4，5，6-五氟苯基)、二環(huán)戊二烯基-Ti-雙(2，3，5，6-四氟苯基)、二環(huán)戊二烯基-Ti-雙(2，4，6-三氟苯基)、二環(huán)戊二烯基-Ti-雙(2，6-二氟苯基)、二環(huán)戊二烯基-Ti-雙(2，4-二氟苯基)、雙(甲基環(huán)戊二烯基)-Ti-雙(2，3，4，5，6-五氟苯基)、雙(甲基環(huán)戊二烯基)-Ti-雙(2，3，5，6-四氟苯基)、雙(甲基環(huán)戊二烯基)-Ti-雙(2，4，6-三氟苯基)、雙(甲基環(huán)戊二烯基)-Ti-雙(2，6-二氟苯基)、雙(甲基環(huán)戊二烯基)-Ti-雙(2，4-二氟苯基)等。作為非限制性的實例，基于二唑的化合物可以為2-苯基-5-三氯甲基-1，3，4-二唑、2-(對-甲基苯基)-5-三氯甲基-1，3，4-二唑、2-(對-甲氧基苯基)-5-三氯甲基-1，3，4-二唑、2-苯乙烯基-5-三氯甲基-1，3，4-二唑、2-(對-甲氧基苯乙烯基)-5-三氯甲基-1，3，4-二唑、2-(對-丁氧基苯乙烯基)-5-三氯甲基-1，3，4-二唑等。作為非限制性的實例，基于噻噸酮的化合物可以為噻噸酮、2，4-二乙基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2，4-二異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、2-(3-二甲基氨基-2-羥基丙氧基)-3，4-二甲基-9H-噻噸酮-9-酮甲氯化物等。作為非限制性的實例，基于(雙)酰基氧化膦的化合物可以為2，4，6-三甲基苯甲?；交趸?；雙(2，6-二甲氧基苯甲?；?-2，4，4-三甲基戊基氧化膦、雙(2，6-二氯苯甲酰基)苯基氧化膦、雙(2，6-二氯苯甲?；?-2，5-二甲基苯基氧化膦氧化物、雙(2，4，6-三甲基苯甲?；?苯基氧化膦等。作為非限制性的實例，該有機(jī)硼鹽化合物可以為下式1表示的有機(jī)季硼鹽化合物式1其中R1、R2、R3和R4各自獨立為烷基、芳基、芳烷基、烯基、炔基、甲硅烷基、雜環(huán)基、或鹵原子，其如果需要可具有取代基，和Z+表示任意正離子。該有機(jī)硼鹽化合物含有有機(jī)季硼負(fù)離子和正離子Z+。在式1中，R1、R2、R3和R4各自獨立為烷基、芳基、芳烷基、烯基、炔基、甲硅烷基、雜環(huán)基、或鹵原子，且這些基團(tuán)如果需要可具有取代基。作為非限制性的實例，該取代基可以為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基、正辛基、正十二烷基、環(huán)戊基、環(huán)己基、苯基、甲苯基、二甲苯基、甲氧苯基、聯(lián)苯基、二苯基甲基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、異丁氧基、叔丁氧基、亞甲二氧基、亞乙二氧基、苯氧基、萘氧基、芐氧基、甲硫基、苯硫基、2-呋喃基、2-噻吩基、2-吡啶基、硼基等。作為非限制性的實例，有機(jī)硼鹽化合物的有機(jī)季硼負(fù)離子可以為甲基三苯基硼酸根、正丁基三苯基硼酸根、正辛基三苯基硼酸根、正十二烷基三苯基硼酸根、仲丁基三苯基硼酸根、叔丁基三苯基硼酸根、芐基三苯基硼酸根、正丁基三(對-甲氧苯基)硼酸根、正辛基三(對-甲氧苯基)硼酸根、正十二烷基三(對-甲氧苯基)硼酸根、正丁基三(對-甲苯基)硼酸根、正丁基三(鄰-甲苯基)硼酸根、正丁基三(4-叔丁基苯基)硼酸根、正丁基三(4-氟-2-甲基苯基)硼酸根、正丁基三(4-氟苯基)硼酸根、正丁基三(1-萘基)硼酸根、乙基三(1-萘基)硼酸根、正丁基三[1-(4-甲基萘基)]硼酸根、甲基三[1-(4-甲基萘基)]硼酸根、三苯基甲硅烷基三苯基硼酸根、三甲基甲硅烷基三苯基硼酸根、四正丁基硼酸根、二正丁基二苯基硼酸根、四芐基硼酸根等。在有機(jī)季硼負(fù)離子的R1、R2、R3和R4中，為了保持有機(jī)硼鹽化合物的穩(wěn)定性和光反應(yīng)性的平衡，優(yōu)選，但不是在所有情況下必須的，R1為烷基，且R2、R3和R4為萘基。作為非限制性的實例，有機(jī)硼鹽化合物的正離子Z+可以為四甲基銨、四乙基銨、四正丁基銨、四辛基銨、N-甲基喹啉、N-乙基喹啉、N-甲基吡啶、N-乙基吡啶、四甲基鏻、四正丁基鏻、三甲基锍、三苯基锍、三甲基氧化锍、二苯基碘翁、二(4-叔丁基苯基)碘、Li正離子、Na正離子、K正離子等。為獲得較高敏感性，該光引發(fā)劑可與敏化劑組合使用。敏化劑的選擇取決于光引發(fā)劑，且上述的一些光引發(fā)劑也可用作其它光引發(fā)劑的敏化劑。例如，當(dāng)使用基于咪唑的光引發(fā)劑時，基于二苯甲酮或基于噻噸酮的化合物起到光引發(fā)劑和敏化劑兩者的作用，且因此可組合使用?？膳c有機(jī)硼鹽化合物組合使用的敏化劑可以為可吸收光和分解有機(jī)硼鹽化合物的任何材料。作為非限制性的實例，具有該功能的化合物可以選自基于二苯甲酮的化合物，基于噻噸酮的化合物，基于醌的化合物和陽離子染料?；诙郊淄幕衔锖突卩鐕嵧幕衔锟梢赃x自上述的化合物。基于醌的化合物可以為氫醌、2，5-二氯-1，4-苯醌、2，6-二氯-1，4-苯醌、苯基-1，4-苯醌、2-甲基-1，4-萘醌、2，3-二氯-1，4-萘醌、2-羥基-1，4-萘醌、5-羥基-1，4-萘醌、2-氨基-3-氯-1，4-萘醌、2-氯-3-嗎啉代-1，4-萘醌、蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2，3-二甲基蒽醌、1-氯蒽醌、2-氯蒽醌、1，4-二氯蒽醌、2-(羥甲基)蒽醌、9，10-菲醌等。該陽離子染料可以為在300nm到近紅外波長內(nèi)具有最大吸收波長的染料，且通?？蔀辄S色、橙色、紅色、綠色或藍(lán)色。陽離子染料的實例可包括堿性黃11、Astrazon橙G、ThioflavinT、槐黃(Auramine)O、靛氰綠、1，1′，3，3，3′，3′-六甲基靛碳氰(hexamethylindocarbocyanine)碘、IR-786高氯酸鹽等。相對于100重量份的有機(jī)混合物，光引發(fā)劑的量可以為1-20重量份。當(dāng)相對于100重量份的有機(jī)混合物，光引發(fā)劑的量小于1重量份時，曝光敏感性降低。當(dāng)相對于100重量份的有機(jī)混合物，光引發(fā)劑的量大于20重量份時，甚至非-曝光區(qū)也不顯影。作為非限制性的實例，交聯(lián)劑可包括單(甲基)丙烯酸酯和多官能(甲基)丙烯酸酯。該單(甲基)丙烯酸酯可以為，但不限于，(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基三甘醇酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸二環(huán)戊基酯、(甲基)丙烯酸二環(huán)戊烯基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸1-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸氨基乙酯等。該多官能(甲基)丙烯酸酯可以為，但不限于，二(甲基)丙烯酸酯例如1，6-己二醇二丙烯酸酯、(乙氧基化)1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-丁基-2-乙基-1，3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、(乙氧基化)n(n＝2到8)雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、或雙酚A環(huán)氧二(甲基)丙烯酸酯；三丙烯酸酯例如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、(乙氧基化)三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、(丙氧基化)甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、或(丙氧基化)三羥甲基丙烷-3-三(甲基)丙烯酸酯；四(甲基)丙烯酸酯例如二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、或季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；五(甲基)丙烯酸酯例如二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；六(甲基)丙烯酸酯例如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。交聯(lián)劑可以為選自上述的單和多官能丙烯酸酯的至少一種。相對于100重量份的有機(jī)混合物，交聯(lián)劑的量可以為15-60重量份。當(dāng)相對于100重量份的有機(jī)混合物，交聯(lián)劑的量小于15重量份時，曝光敏感性降低。當(dāng)相對于100重量份的有機(jī)混合物，交聯(lián)劑的量大于60重量份時，在燒結(jié)過程中該障壁可分離或斷開。該光敏性糊狀組合物還可包括添加劑。作為非限制性的實例，該添加劑可以為改進(jìn)光敏性糊狀組合物的存儲穩(wěn)定性的聚合抑制劑和抗氧化劑，改善分辨率的紫外吸收劑，減少組合物中的氣泡的消泡劑，改善分散性的分散劑，改善在印刷過程中膜平整度的流平劑，改善熱分解特性的增塑劑，提供觸變性特性的觸變劑等。該溶劑可以為這樣的溶劑，其不降低金屬氧化物的分散性，溶解粘合劑和光引發(fā)劑，與交聯(lián)劑和額外添加劑令人滿意地混合，且具有至少150℃的低沸點。當(dāng)溶劑沸點小于150℃時，在制備光敏性糊狀組合物的過程中揮發(fā)的可能性高，尤其在3-輥研磨過程中，且在印刷過程中溶劑可揮發(fā)很快使得印刷狀態(tài)不好?？蓾M足上述條件的溶劑可以為，但不限于，選自以下的至少一種乙基卡必醇、丁基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇一異丁酯、萜品油、二甘醇、二丙二醇、三丙二醇、二丙二醇甲醚、二丙二醇乙醚、二丙二醇單甲醚乙酸酯、γ-丁內(nèi)酯、乙酸溶纖劑和丁基溶纖劑乙酸酯。不具體限制溶劑的量，但是應(yīng)以足以提供適于印刷或涂布的糊狀物粘度的量使用溶劑?？赏ㄟ^以下工序制備本發(fā)明的光敏性糊狀組合物。首先，制備金屬氧化物溶膠。通過制備金屬氧化物前體，然后將其分散在有機(jī)混合物中來制備金屬氧化物溶膠。該有機(jī)混合物包括粘合劑、光引發(fā)劑、交聯(lián)劑和添加劑，且如果需要可包括溶劑。將有機(jī)混合物制備為均勻和透明溶液使得有機(jī)混合物的每種組分混合且充分?jǐn)嚢琛⒅苽涞慕饘傺趸锶苣z與無機(jī)材料混合以制備糊狀物?？刹捎眯行鞘交旌掀?PLM)等混合該糊狀物，然后通過3-輥研磨充分地機(jī)械混合。當(dāng)3-輥研磨過程終止時，采用例如不銹鋼(SUS)#400目過濾器過濾該產(chǎn)物，然后采用真空泵脫氣以制備光敏性糊狀組合物。本發(fā)明的各方面提供等離子體顯示面板(PDP)的障壁，其采用該光敏性糊狀組合物制備。一種采用光敏性糊狀組合物制備PDP的障壁方法如下。采用絲網(wǎng)印刷或臺式涂布機(jī)，將該光敏性糊狀組合物涂布到其上已形成地址電極和介電層的PDP的下基板上。然后80到120℃下在干燥爐或IR爐內(nèi)干燥該涂布的基板5到60分鐘，以從光敏性糊狀組合物中去除大部分溶劑。然后，采用其中設(shè)有光掩模的紫外曝光設(shè)備將預(yù)定波長的光輻射到干燥的膜上。其上紫外線輻射的干燥膜的部分通過交聯(lián)變得不溶于顯影溶液。然后，在顯影過程中，在約30℃的顯影溫度下使用已在純水中稀釋的適當(dāng)?shù)膲A性顯影劑如Na2CO3溶液、KOH溶液、TMAH溶液、單乙醇胺溶液等以去除光敏性糊狀物的未曝光部分。結(jié)果，獲得圖案。在500到600℃下在電爐內(nèi)燒結(jié)所得物5到60分鐘以去除殘留有機(jī)混合物和燒結(jié)具有低熔點的玻璃粉。因此，可獲得圖案化的障壁。本發(fā)明的各方面還提供包括該障壁的PDP。圖1示出包括障壁的PDP的結(jié)構(gòu)，該障壁采用根據(jù)本發(fā)明實施方案的光敏性糊狀組合物形成。該P(yáng)DP包括前面板110和后面板120。該前面板110包括前基板111；在前基板111的背面111a上形成的支持(sustain)電極對(114，對于每個)，每個支持電極對114包括Y電極112和X電極113；覆蓋支持電極對的前介電層115；和覆蓋前介電層115的保護(hù)層116。Y電極112和X電極113分別包括由透明導(dǎo)電材料例如ITO等制成的透明電極112b和113b，和各自由用于對比增強(qiáng)的黑色電極(未示出)和用于賦予導(dǎo)電性的白色電極(未示出)組成的總線電極(buselectrode)112a和113a。將總線電極112a和113a連接到在PDP的左右兩側(cè)設(shè)置的接線電纜(未示出)。該后面板120包括后基板121；在后基板121上的前表面121a上形成的以與支持電極對交叉的地址電極122；覆蓋尋址電極的后介電層123；在后介電層123上形成以分開放電單元126的障壁124；和設(shè)置在放電單元內(nèi)的磷光層125。將地址電極122連接到設(shè)置在PDP的上下兩側(cè)的接線電纜。下面，參見以下實施例將更詳細(xì)地描述本發(fā)明的各方面。下面的實施例用于說明性的目的且不用于限制本發(fā)明的范圍。實施例制備金屬氧化物前體實施例1.采用乙醇鉭(V)制備氧化鉭前體將100ml的n-BuOH和100ml的二甘醇添加到配置有溫度計和攪拌器的反應(yīng)容器中，并攪拌。攪拌期間，向混合物中緩慢添加10ml1.0N的HCl。在攪拌約30分鐘之后，在攪拌的同時向混合物中緩慢添加10.0g的乙醇鉭。然后，在室溫下攪拌所得混合物12小時以完成水解和縮合反應(yīng)，然后向所得混合物中添加0.1g雙(聚氧乙烯多環(huán)苯基醚)甲基丙烯酸酯硫酸酯鹽作為表面改性劑，且在室溫下攪拌所得物6小時。采用真空蒸餾去除n-BuOH和純水以采用二甘醇作為分散介質(zhì)制備氧化鉭前體。實施例2.采用氯化鈦(VI)制備氧化鈦前體100ml的n-BuOH和100ml的三丙二醇添加到配置有溫度計和攪拌器的反應(yīng)容器中，并攪拌。攪拌期間，將10ml的28％氨水緩慢添加到混合物中。在攪拌約30分鐘之后，在攪拌的同時將10.0g氯化鈦(VI)緩慢添加到混合物中。然后，在室溫下攪拌所得混合物6小時以完成水解和縮合反應(yīng)。采用真空蒸餾去除n-BuOH和純水以采用三丙二醇作為分散介質(zhì)制備氧化鈦前體。實施例3.采用正丙醇鋯(VI)制備氧化鋯前體100ml正丙醇和100ml的二丙二醇添加到配置有溫度計和攪拌器的反應(yīng)容器中，并攪拌。攪拌期間，將5ml1.0N的HCl緩慢添加到混合物中。在攪拌約30分鐘之后，在攪拌的同時將10.0g正丙醇鋯(VI)緩慢添加到混合物中。然后，將所得混合物在室溫下攪拌24小時以完成水解和縮合反應(yīng)。采用真空蒸餾去除正丙醇和純水以采用二丙二醇作為分散介質(zhì)制備氧化鋯前體。實施例4.采用四乙氧基硅烷制備氧化硅前體將100ml的乙醇和100ml的二丙二醇添加到配置有溫度計和攪拌器的反應(yīng)容器中，并攪拌。攪拌期間，將5ml1.0N的HCl緩慢添加到混合物中。在攪拌約30分鐘之后，在攪拌的同時將10.0g的四乙氧基硅烷緩慢添加到混合物中。然后，將所得混合物在室溫下攪拌6小時以完成水解和縮合反應(yīng)。采用真空蒸餾去除乙醇和純水以采用二丙二醇作為分散介質(zhì)制備氧化硅前體。實施例5.采用異丙醇鋁(III)制備氧化鋁前體100ml的異丙醇和100ml的三丙二醇添加到配置有溫度計和攪拌器的反應(yīng)容器中，并攪拌。攪拌期間，將5ml1.0N的HCl緩慢添加到混合物中。在攪拌約30分鐘之后，在攪拌的同時10.0g異丙醇鋁(III)緩慢添加到混合物中。然后，所得混合物在室溫下攪拌6小時以完成水解和縮合反應(yīng)。采用真空蒸餾去除異丙醇和純水以采用二丙二醇作為分散介質(zhì)制備氧化鋁前體。實施例6.采用乙醇鉭(V)和氯化鈦(VI)制備鉭-鈦氧化物前體100ml的乙醇和100ml的二甘醇添加到配置有溫度計和攪拌器的反應(yīng)容器中，并攪拌。攪拌期間，將5ml1.0N的HCl緩慢添加到混合物中。在攪拌約30分鐘之后，在攪拌的同時5.0g乙醇鉭(V)和5.0g氯化鈦(VI)緩慢添加到混合物中。然后，所得混合物在室溫下攪拌12小時以完成水解和縮合反應(yīng)。采用真空蒸餾去除乙醇和純水以采用二甘醇作為分散介質(zhì)制備鉭-鈦氧化物前體。實施例7.采用四乙氧基硅烷和氯化鈦(VI)制備硅-鈦氧化物前體100ml的乙醇和100ml的二甘醇加到配置有溫度計和攪拌器的反應(yīng)容器中，并攪拌。攪拌期間，將10ml的28％氨水緩慢添加到混合物中。在攪拌約30分鐘之后，在攪拌的同時將5.0g四乙氧基硅烷和5.0g氯化鈦(VI)緩慢添加到混合物中。然后，所得混合物在室溫下攪拌6小時以完成水解和縮合反應(yīng)，然后將0.1g雙(甲基丙烯酰氧乙基)磷酸酯添加到所得混合物中作為表面改性劑，且所得物在室溫下攪拌6小時。采用真空蒸餾去除乙醇和純水以采用二甘醇作為分散介質(zhì)制備硅-鈦氧化物前體。金屬氧化物前體的物理性能的測量下面表1示出實施例1到7中制備的金屬氧化物前體的金屬氧化物的光折射率、比重和平均粒徑的測量結(jié)果。在20℃下測量光折射率和比重的值，和采用光子關(guān)聯(lián)能譜法(PCS)測量平均粒徑。表1制備有機(jī)混合物如下述制備用于通過在有機(jī)混合物中分散如上述制備的金屬氧化物前體而制備金屬氧化物溶膠的有機(jī)混合物。實施例8.制備有機(jī)混合物1通過如下制備有機(jī)混合物1混合47.2重量％的作為粘合劑的重均分子量5,000g/mol且酸值為120mgKOH/g的聚(甲基丙烯酸甲酯-共-甲基丙烯酸正丁酯-共-甲基丙烯酸)共聚物、3.5重量％的作為光引發(fā)劑的2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮、46.8重量％的作為交聯(lián)劑的乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、和2.5重量％的作為儲存穩(wěn)定劑的苯并三唑。實施例9.制備有機(jī)混合物2通過如下制備有機(jī)混合物2混合44.1重量％的作為粘合劑的重均分子量12,000g/mol且酸值為210mgKOH/g的聚(苯乙烯-共-甲基丙烯酸)共聚物、5.5重量％的作為光引發(fā)劑的2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮、27.0重量％的作為交聯(lián)劑的雙酚A改性的環(huán)氧二丙烯酸酯、4.4重量％的作為儲存穩(wěn)定劑的苯并三唑和19.0重量％的作為溶劑的三丙二醇。有機(jī)混合物的物理性能的測量下面表2示出實施例8和9中制備的有機(jī)混合物的光折射率和比重的測量結(jié)果。表2制備金屬氧化物溶膠將實施例1到7的金屬氧化物前體分散在實施例8和9的有機(jī)混合物中以制備金屬氧化物溶膠。采用以下工序制備各個金屬氧化物溶膠首先，將有機(jī)混合物添加到攪拌容器并攪拌，和在攪拌期間將計算量的金屬氧化物前體向其緩慢添加，然后將該混合物攪拌幾小時以制備透明金屬氧化物溶膠。實施例10.制備金屬氧化物溶膠1以體積比20∶80混合實施例1的氧化鉭前體和實施例8的有機(jī)混合物1，其中氧化鉭前體的體積僅基于在氧化鉭前體中氧化鉭的體積。在混合之后測量折射率為1.66。實施例11.制備金屬氧化物溶膠2以體積比15∶85混合實施例2的氧化鈦前體和實施例8的有機(jī)混合物1，其中氧化鈦前體的體積僅基于在氧化鈦前體中氧化鈦的體積。在混合之后測量折射率為1.65。實施例12.制備金屬氧化物溶膠3以體積比20∶80混合實施例3的氧化鋯前體和實施例9的有機(jī)混合物2，其中氧化鋯前體的體積的計算僅基于在氧化鋯前體中氧化鋯的體積，和沒有溶劑存在時測量有機(jī)混合物2的體積。在混合之后測量折射率為1.66。實施例13.制備金屬氧化物溶膠4以體積比10∶90混合實施例4的氧化硅前體和實施例9的有機(jī)混合物2，其中氧化硅前體的體積僅基于在氧化硅前體中氧化硅的體積，和沒有溶劑存在時測量有機(jī)混合物2的體積。在混合之后測量折射率為1.54。實施例14.制備金屬氧化物溶膠5以體積比20∶80混合實施例5的氧化鋁前體和實施例9的有機(jī)混合物2，其中氧化鋁前體的體積僅基于在氧化鋁前體中氧化鋁的體積，和沒有溶劑存在時測量有機(jī)混合物2的體積。在混合之后測量折射率為1.60。實施例15.制備金屬氧化物溶膠6以體積比15∶85混合實施例6的鉭-鈦氧化物前體和實施例8的有機(jī)混合物1，其中鉭-鈦氧化物前體的體積僅基于在鉭-鈦氧化物前體中鉭-鈦氧化物的體積。在混合之后測量折射率為1.64。實施例16.制備金屬氧化物溶膠7以體積比20∶80混合實施例7的硅-鈦氧化物前體和實施例9的有機(jī)混合物2，其中硅-鈦氧化物前體的體積僅基于在硅-鈦氧化物前體中硅-鈦氧化物的體積，和沒有溶劑地測量有機(jī)混合物2的體積。在混合之后測量折射率為1.64。制備光敏性糊狀組合物如下面所述通過將實施例10到16的金屬氧化物溶膠與包含低熔點玻璃粉和高熔點玻璃粉的無機(jī)材料混合制備光敏性糊狀組合物。實施例17.制備光敏性糊狀組合物1通過如下制備光敏性糊狀組合物1混合40體積％的實施例10的金屬氧化物溶膠，55體積％的具有低熔點的玻璃粉(ZnO-BaO-B2O3基，無定形，D50＝3.2μm，折射率＝1.68，比重＝3.86)，和5體積％的具有高熔點玻璃粉(SiO2-B2O3-Al2O3基，無定形，D50＝2.5μm，折射率＝1.67，比重＝3.67)。實施例18到23.制備光敏性糊狀組合物2到7除了分別采用實施例11到16的金屬氧化物溶膠代替實施例10的金屬氧化物溶膠之外，分別以與光敏性糊狀組合物1相同的方式制備光敏性糊狀組合物2到7。對比例1.根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)制備光敏性糊狀組合物作為對照，制備光敏性糊狀組合物，其包含40體積％的實施例9的有機(jī)混合物，55體積％的具有低熔點的玻璃粉(Li2O-SiO2-B2O3基，無定形，D50＝3.2μm，折射率＝1.56，比重＝2.56)，和5體積％的具有高熔點的玻璃粉(SiO2-B2O3-Al2O3基，無定形，D50＝3.0μm，折射率＝1.55，比重＝2.52)。光敏性糊狀組合物的評估和結(jié)果采用涂布機(jī)將實施例17到23和對比例1的光敏性糊狀組合物分別涂布到玻璃基板上，然后在100℃下在干燥爐內(nèi)干燥30分鐘。隨后，采用配置有具有光柵圖案的光掩模(寬度線寬＝40μm(間距＝160μm)，長度線寬＝40μm(間距＝560μm)的高壓汞燈紫外曝光設(shè)備輻射300-1500mJ/cm2的光。通過在1.2kgf/cm2的噴嘴壓力下在30℃下噴射0.4重量％的Na2CO3水溶液到其上180秒使光輻射的玻璃基板顯影，然后通過在室溫下在1.2kgf/cm2的噴嘴壓力下噴射純水30秒來清洗。隨后，將顯影的玻璃基板采用氣刀干燥，然后放入到電爐中，并在560℃下燒結(jié)20分鐘以形成障壁。然后，采用光學(xué)顯微鏡和掃描電子顯微術(shù)(SEM)評估該形成的障壁。下面表3中示出評估結(jié)果。在表3中，術(shù)語“最佳曝光量”指的是提供最佳圖案結(jié)果的值。術(shù)語“表面粗糙度”和“表面緊密度”指的是通過采用SEM觀察獲得的品質(zhì)。通過計算障壁的橫截面的單位面積內(nèi)的空區(qū)的面積，和從單位面積減去空閑區(qū)的計算面積來獲得表面緊密度的值。即，當(dāng)表面緊密度為100％時，在障壁的橫截面內(nèi)根本不存在空區(qū)，表示形成緊密的障壁。表3從表3的結(jié)果來看，不含金屬氧化物的對比例1的光敏性糊狀組合物展示最好的曝光敏感性(最佳曝光量)。這是因為如果光敏性糊狀組合物包括金屬氧化物，那么在光反應(yīng)內(nèi)涉及的有機(jī)混合物的量相對低，和金屬氧化物吸收輻射的紫外線。特別地，氧化鈦展示小得多的曝光敏感性。實施例20的光敏性糊狀組合物展示最小的曝光敏感性，且也具有通過一次曝光形成的障壁的最低高度，即，45μm。這假定是由于金屬氧化物溶膠的光折射率和無機(jī)材料的折射率之間的差異相對大。此外，如表3所示，曝光敏感性越低，障壁的上部寬度越大和下部寬度越窄。這是因為金屬氧化物溶膠和無機(jī)材料的折射率之間的差異越大，在曝光過程中輻射的光的透射率越低，而反射和散射增加。由于對比例1的光敏性糊狀組合物不含有金屬氧化物，所以曝光敏感性相對優(yōu)異，而表面粗糙度和緊密度低。這暗示在燒結(jié)過程中金屬氧化物分解有機(jī)混合物，然后在燒結(jié)過程用具有低熔點的玻璃粉填充空區(qū)。PDP的制備及其特性的評估分別使用實施例17到19以及對比例1的光敏性糊狀組合物制備6″面板。在中試線(pilotline)中制造6″面板以具有用于42″HD型面板的規(guī)格。下面表4示出制造的面板的亮度的評估結(jié)果。表4從表4的亮度結(jié)果可看出與對比例1的光敏性糊狀組合物相比，本發(fā)明的光敏性糊狀組合物展示了亮度增加效應(yīng)。不束縛于任何具體的理論，據(jù)信因為當(dāng)使用金屬氧化物溶膠時，障壁中形成的金屬氧化物提高可見光線的反射率，從而提高亮度，障壁自身的粗糙度降低，且其緊密度變得優(yōu)異，因此出現(xiàn)該結(jié)果。根據(jù)本發(fā)明的各方面，由于通過包括僅一次曝光的方法可制造具有高分辨率和高精度的PDP的障壁圖案，且還可提供具有比傳統(tǒng)的障壁高的反射率的障壁，因此包括該障壁的PDP可具有高亮度。盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的幾個實施方案，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)該理解在不脫離本發(fā)明的原理和精神的范圍內(nèi)在該實施方式中可進(jìn)行改變，其范圍由權(quán)利要求和其等價物限定。權(quán)利要求1.光敏性糊狀組合物，包含包括分散在有機(jī)混合物中的金屬氧化物的金屬氧化物溶膠材料；和無機(jī)材料，其中該金屬氧化物溶膠的平均光學(xué)折射率(N1)和該無機(jī)材料的平均光學(xué)折射率(N2)滿足下面方程式1方程式1-0.2≤N1-N2≤0.2。2.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中該金屬氧化物的金屬組分為選自Si、Ti、Al、Zr、Ta、Ge、Y和Zn的至少一種。3.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中該金屬氧化物溶膠通過如下制備采用水解和縮合由醇鹽或鹵化物化合物制備金屬氧化物前體，和在該有機(jī)混合物中分散該制備的金屬氧化物前體。4.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中該金屬氧化物具有1-60nm的平均粒徑。5.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中該金屬氧化物溶膠具有1.4-2.0的平均光折射率。6.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中該金屬氧化物具有1.3-3.0的平均光折射率。7.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中該金屬氧化物溶膠的平均光折射率(N1)和該無機(jī)材料的平均光折射率(N2)滿足下面方程式2方程式2-0.1≤N1-N2≤0.1。8.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中相對于100體積份的該無機(jī)材料，該金屬氧化物溶膠的金屬氧化物的量為3-30體積份。9.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中相對于100體積份的該有機(jī)混合物，該金屬氧化物溶膠的金屬氧化物的量為5-50體積份。10.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中該無機(jī)材料具有1.5-1.8的平均光折射率N2。11.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中該無機(jī)材料含有具有低熔點的玻璃粉和具有高熔點的玻璃粉，其中該具有低熔點的玻璃粉的軟化溫度Ts滿足下面方程式5，和該具有高熔點的玻璃粉的軟化溫度Ts滿足下面方程式6方程式5燒結(jié)溫度-80℃＜Ts＜燒結(jié)溫度，方程式6Ts＞燒結(jié)溫度+20℃。12.權(quán)利要求11的光敏性糊狀組合物，其中該具有低熔點的玻璃粉的平均粒徑具有2-5μm的平均值D50，0.1μm的最小值Dmin和20μm的最大值Dmax。13.權(quán)利要求11的光敏性糊狀組合物，其中相對于100體積份的該無機(jī)材料，該具有低熔點玻璃粉的量為70-100體積份。14.權(quán)利要求11的光敏性糊狀組合物，其中該具有低熔點的玻璃粉包括選自以下的化合物PbO-B2O3基玻璃、PbO-SiO2-B2O3基玻璃、Bi2O3-B2O3基玻璃、Bi2O3-SiO2-B2O3基玻璃、SiO2-B2O3-Al2O3基玻璃、SiO2-B2O3-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO基玻璃、ZnO-B2O3-Al2O3基玻璃、ZnO-SiO2-B2O3基玻璃、P2O5基玻璃、SnO-P2O5基玻璃、V2O5-P2O5基玻璃、V2O5-Mo2O3基玻璃和V2O5-P2O5-TeO2基玻璃。15.權(quán)利要求11的光敏性糊狀組合物，其中該具有高熔點的玻璃粉的平均粒徑具有1-4μm的平均值，0.1μm的最小值和20μm的最大值。16.權(quán)利要求11的光敏性糊狀組合物，其中相對于100體積份的該無機(jī)材料，該具有高熔點玻璃粉的量為0-30體積份。17.權(quán)利要求11的光敏性糊狀組合物，其中該具有高熔點的玻璃粉包括選自以下的化合物SiO2-B2O3-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO基玻璃、SiO2-B2O3-MgO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO-MgO基玻璃、SiO2-Al2O3-BaO基玻璃、SiO2-Al2O3-CaO基玻璃、SiO2-Al2O3-MgO基玻璃、SiO2-Al2O3-BaO-CaO基玻璃、SiO2-Al2O3-CaO-MgO基玻璃等。18.權(quán)利要求11的光敏性糊狀組合物，其中該具有低熔點的玻璃粉的折射率N3和該具有高熔點的玻璃粉的折射率N4之間的差滿足下面方程式7方程式7-0.2≤N3-N4≤0.2。19.權(quán)利要求11的光敏性糊狀組合物，其中該具有低熔點的玻璃粉折射率N3和該具有高熔點玻璃粉的折射率N4之間的差滿足下面方程式8方程式8-0.1≤N3-N4≤0.1。20.權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物，其中該有機(jī)混合物含有粘合劑、光引發(fā)劑和交聯(lián)劑。21.權(quán)利要求20的光敏性糊狀組合物，其中相對于100重量份的該有機(jī)混合物，該粘合劑的量為30-80重量份；相對于100重量份的該有機(jī)混合物，該光引發(fā)劑的量為1-20重量份；和相對于100重量份的該有機(jī)混合物，該交聯(lián)劑的量為15-60重量份。22.權(quán)利要求20的光敏性糊狀組合物，其中該有機(jī)混合物還含有添加劑和溶劑，其中該添加劑為選自聚合抑制劑、抗氧化劑、紫外吸收劑、消泡劑、分散劑、流平劑、增塑劑和觸變劑的至少一種添加劑。23.權(quán)利要求20的光敏性糊狀組合物，其中該粘合劑為通過具有羧基的單體和至少一種具有乙烯不飽和基團(tuán)的單體共聚形成的具有羧基的基于丙烯?；臉渲?；該粘合劑具有500-100,000g/mol的重均分子量，和50-300mgKOH/g的酸值；該具有羧基的單體為選自以下的至少一種丙烯酸、甲基丙烯酸、富馬酸、馬來酸、乙烯基乙酸、和其酐；和該具有乙烯不飽和基團(tuán)的單體為選自以下的至少一種(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基三甘醇酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸二環(huán)戊基酯、(甲基)丙烯酸二環(huán)戊烯基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸1-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸氨基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、α-2-二甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯。24.權(quán)利要求23的光敏性糊狀組合物，其中該粘合劑還含有選自以下的至少一種纖維素、甲基纖維素、乙基纖維素、正丙基纖維素、羥乙基纖維素、2-羥基乙基纖維素、甲基-2-羥基乙基纖維素、羥基丙基纖維素、羥基丙基甲基纖維素、羥基丁基甲基纖維素、羥基丙基甲基纖維素鄰苯二甲酸酯、硝酸纖維素、醋酸纖維素、三乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、乙酸氫鄰苯二甲酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、丙酸纖維素、乙酸丙酸(丙烯酰氨基甲基)纖維素、乙酸丁酸(丙烯酰氨基甲基)纖維素、氰乙基化物纖維素、果膠酸、脫乙酰殼多糖、殼多糖、羧甲基纖維素、羧甲基纖維素鈉鹽、羧乙基纖維素和羧乙基甲基纖維素。25.權(quán)利要求20的光敏性糊狀組合物，其中該光引發(fā)劑為選自以下的至少一種(i)基于咪唑的化合物，(ii)基于三嗪的化合物、(iii)基于氨基苯乙酮化合物、(iv)基于二苯甲酮和苯乙酮的化合物、(v)基于苯偶姻的化合物、(vi)基于二茂鈦的化合物、(vii)基于二唑的化合物、(viii)基于噻噸酮基化合物、(ix)基于(雙)?；趸⒌幕衔锖?x)有機(jī)硼鹽化合物。26.權(quán)利要求20的光敏性糊狀組合物，其中該交聯(lián)劑為選自以下的至少一種至少一種單(甲基)丙烯酸酯，選自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基三甘醇酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸二環(huán)戊基酯、(甲基)丙烯酸二環(huán)戊烯基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸1-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯和(甲基)丙烯酸氨基乙酯；至少一種二(甲基)丙烯酸酯，選自1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、(乙氧基化)1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-丁基-2-乙基-1，3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、(乙氧基化)n(n＝2到8)雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、和雙酚A環(huán)氧二(甲基)丙烯酸酯；至少一種三(甲基)丙烯酸酯，選自三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、(乙氧基化)三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、(丙氧基化)甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯和(丙氧基化)三羥甲基丙烷-3-三(甲基)丙烯酸酯；至少一種四(甲基)丙烯酸酯，選自二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯和季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；至少一種五(甲基)丙烯酸酯；和至少一種六(甲基)丙烯酸酯。27.權(quán)利要求22的光敏性糊狀組合物，其中該添加劑為選自聚合抑制劑、抗氧化劑、紫外吸收劑、消泡劑、分散劑、流平劑、增塑劑和觸變劑的至少一種添加劑。28.權(quán)利要求22的光敏性糊狀組合物，其中該溶劑為選自以下的至少一種乙基卡必醇、丁基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇一異丁酯、萜品油、二甘醇、二丙二醇、三丙二醇、二丙二醇甲醚、二丙二醇乙醚、二丙二醇單甲醚乙酸酯、γ-丁內(nèi)酯、乙酸溶纖劑和丁基溶纖劑乙酸酯。29.采用權(quán)利要求1的光敏性糊狀組合物制備的PDP的障壁。30.含有權(quán)利要求29的障壁的PDP。全文摘要光敏性糊狀組合物包括金屬氧化物溶膠和無機(jī)材料，其中金屬氧化物溶膠的平均光折射率(N文檔編號C03C8/20GK101093354SQ20071011186公開日2007年12月26日申請日期2007年6月20日優(yōu)先權(quán)日2006年6月20日發(fā)明者李范旭,崔鐘書,崔龜錫,林明德,李勛培,張范鎮(zhèn)申請人:三星Sdi株式會社