專利名稱：一種錫槽保護氣體終端凈化裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及浮法玻璃生產(chǎn)中的凈化錫槽保護氣體氣體中O2的裝置，并使氣體中O2的含量達到1.0PPm以下。
背景技術(shù)：
在浮法玻璃生產(chǎn)中，一般錫槽保護氣體(N2+H2)，在不經(jīng)凈化前都含有微量的O2，一般不小于25PPm。但遇氮、氫站發(fā)生故障時，其氧含量會有幾十到幾百倍的增長，嚴重影響玻璃的質(zhì)量。因此，必須使錫槽保護氣體(N2+H2)在進入錫槽前的氧含量≯1.0PPm。針對上述問題進行廣泛檢索，尚未發(fā)現(xiàn)理想的技術(shù)方案。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的就是提供一種錫槽用保護氣體終端凈化裝置，使錫槽保護氣體(N2+H2)在進入錫槽前的氧含量≯1.0PPm。
本裝置解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種錫槽保護氣體終端凈化裝置，其特性在于它包括一圓形罐體，罐體下端焊接一橢圓形下封頭、上端焊接一聯(lián)接法蘭，它與焊接于橢圓形上封頭上的聯(lián)接法蘭聯(lián)接配合組成一個密閉容器，上下封頭上分別設(shè)置有氣體進氣管和氣體出氣管，在罐體內(nèi)設(shè)置一個帶空眼的盤狀催化床，催化床上設(shè)有一層催化劑，催化劑上面覆蓋聯(lián)接一層金屬網(wǎng)。保護氣體在經(jīng)催化劑層時，催化劑與氣體中的氧發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使之降低氣體中的O2含量，達到1PPm，滿足錫槽對保護氣體含量的要求。在下封頭的氣體出氣管上設(shè)有一氣體測溫裝置，監(jiān)測出口氣體的溫度，通過溫度的變化即可隨時掌握進口保護氣體氧含量的趨勢。
本裝置的有益效果是氣體可連續(xù)通過，裝置內(nèi)催化劑可不需活化、再生、可長期連續(xù)運行。
為了更加詳細地說明本實用新型，
以下結(jié)合附圖對本新型實用裝置進一步說明。


圖1是本實用新型的剖視圖。
具體實施方式
如圖1所示，罐體3下端焊接一個橢圓形下封頭9，其上均布設(shè)置三條支撐腿10，罐體3上端焊接一個聯(lián)接法蘭3a，它與焊接于橢圓形上封頭2上的聯(lián)接法蘭2a聯(lián)接配合組成一個密閉容器。在橢圓形上封頭2上設(shè)置一個帶有聯(lián)接法蘭的氣體進氣管1，罐體中部設(shè)有一組支撐座6，支撐座6上固定一個帶空眼8的托盤7作為盤狀催化床，托盤7上設(shè)有一層催化劑5(氧化鋁鈀)，催化劑5上再覆蓋一層金屬網(wǎng)4并與托盤7連接固定，使催化劑在搬運過程中不至于散亂。在橢圓形下封頭9上設(shè)置一個帶有聯(lián)接法蘭的氣體出氣管11，其出氣管12上設(shè)置一個設(shè)有一氣體測溫裝置13(可以是熱電阻溫度計)，以監(jiān)測出口氣體的溫度，通過溫度的變化即可隨時掌握進口保護氣體氧含量的趨勢。
本裝置是將進入錫槽的保護氣體(N2+H2)中氧含量，經(jīng)催化劑催化反映后，使保護氣體(N2+H2)中氧含量降到1.0PPm，進而達到消除成品玻璃的彩虹，提高產(chǎn)品質(zhì)量的目的。
權(quán)利要求1.一種錫槽保護氣體終端凈化裝置，其特性在于它包括一圓形罐體，罐體下端焊接一橢圓形下封頭、上端焊接一聯(lián)接法蘭，它與焊接于橢圓形上封頭上的聯(lián)接法蘭聯(lián)接配合組成一個密閉容器，上下封頭上分別設(shè)置有氣體進氣管和氣體出氣管，在罐體內(nèi)設(shè)置一個帶空眼的盤狀催化床，催化床上設(shè)有一層催化劑，催化劑上面覆蓋聯(lián)接一層金屬網(wǎng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的終端凈化裝置，其特征在于下封頭的氣體出氣管上設(shè)有一個氣體測溫裝置。
專利摘要一種錫槽保護氣體終端凈化裝置，其特性在于它包括一圓形罐體3及橢圓形上下封頭2、9，它們經(jīng)聯(lián)接法蘭2a、3a組成一個密閉容器，在罐體內(nèi)設(shè)置一個帶空眼的盤狀催化床7，并設(shè)有一層催化劑5，催化劑上面覆蓋一層金屬網(wǎng)4。保護氣體在經(jīng)催化劑層時，與其中的氧發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使氣體中的O
文檔編號C03B18/20GK2719844SQ200420053339
公開日2005年8月24日 申請日期2004年8月23日 優(yōu)先權(quán)日2004年8月23日
發(fā)明者彭壽, 魏豪杰, 茆令文, 李天信, 凌巖, 王德和 申請人:中國凱盛國際工程公司