下降料道結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種下降料道結(jié)構(gòu)，該下降料道結(jié)構(gòu)特別是用于膠合顆粒的裝置，所述顆粒至少部分地由適于生產(chǎn)材料板的纖維和/或碎屑構(gòu)成，其中，該下降料道結(jié)構(gòu)具有下降料道，下降料道具有用于饋送顆粒的入口和用于輸出顆粒的出口，并具有用于清潔下降料道的至少一個(gè)內(nèi)壁的至少一個(gè)第一清潔裝置，下降料道結(jié)構(gòu)還具有用于清潔至少一個(gè)第一清潔裝置的至少一個(gè)第二清潔裝置。該下降料道結(jié)構(gòu)可有效地避免在下降料道內(nèi)形成牢固的附著物。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種下降料道結(jié)構(gòu)，該下降料道結(jié)構(gòu)特別是用于膠合顆粒的裝 置，這些顆粒至少部分地由適于生產(chǎn)材料板的纖維和/或碎屑構(gòu)成。 下降料道結(jié)構(gòu)
【背景技術(shù)】
[0002] 由例如碎屑或中密度纖維或其它可流動(dòng)的材料生產(chǎn)材料板至今是自動(dòng)化過程，并 且多年來在許多國家已得到應(yīng)用。如已知地，對經(jīng)預(yù)加工的碎屑或纖維的壓制要么以循環(huán) 方式進(jìn)行，要么連續(xù)地進(jìn)行。在此，除了位于壓力機(jī)之前和之后的許多設(shè)備部件外，借助散 布機(jī)來生產(chǎn)散布料墊起到了突出的作用，然而，除了原材料的質(zhì)量外，生產(chǎn)出的散布料墊的 質(zhì)量也是重要因素。對用天然原材料和人造粘結(jié)劑來制造價(jià)格便宜的材料板的迫切希望迫 使生產(chǎn)者去開發(fā)更加高效的制造方法。在此，特別的重點(diǎn)是特別少的停工時(shí)間和較少的磨 損。
[0003] 本實(shí)用新型涉及借助粘結(jié)劑來膠合顆粒的領(lǐng)域?；旧蠈⒄辰Y(jié)劑理解為所謂的膠 粘漂浮液，其主要成分由膠粘材料組成。另外根據(jù)需要還添加了乳化劑、硬化劑、甲醛吸附 齊U、染料、除蟲劑、防霉劑以及其它添加劑等。通常也可使用沒有添加劑的膠粘材料。
[0004] 作為粘結(jié)劑，不求完全，以下材料當(dāng)屬考慮之列：異氰酸酯、MDI、三聚氰胺尿素甲 醛（MUF)、尿素甲醛（UF)、MUPF或PF。
[0005] 膠合通常以如下方式進(jìn)行，即，散布料或顆粒借助定量裝置送入下降料道，并且借 助設(shè)置在下降料道內(nèi)或設(shè)置在下降料道之前的噴嘴來加載有粘結(jié)劑。膠合好的散布料多半 在位于下降料道之后的滾筒內(nèi)借助旋轉(zhuǎn)的運(yùn)送工具（機(jī)械混合器）進(jìn)行處理和/或進(jìn)一步 膠合，隨后散布成散布料，并且隨后在時(shí)間上在膠合劑硬化之前進(jìn)行壓制。或者，該散布料 在不通過機(jī)械混合器的情況下直接送入散布裝置內(nèi)，以對散布料墊進(jìn)行散布，并且隨后進(jìn) 行壓制。
[0006] 例如由DE102010064339A1已知這樣一種裝置。在此，產(chǎn)生如下問題：粘結(jié)劑以及 用粘結(jié)劑膠合的顆?？沙练e在下降料道的內(nèi)壁上，因而，下降料道易于變臟。這使得有必要 定期清潔下降料道。為此，設(shè)備必須停轉(zhuǎn)，這會(huì)隨之造成相應(yīng)的生產(chǎn)停工。
[0007] 此外，隨著時(shí)間流逝，在下降料道的內(nèi)壁處可能會(huì)形成具有不可忽略尺寸的牢固 的沉積物。使這種沉積物分解并且下落到混合器中不能確保這種牢固的沉積物團(tuán)塊在混合 器內(nèi)被碾碎并分散開。因此，在由離開混合器的膠合顆粒構(gòu)成的膏狀物內(nèi)還有其它牢固的 團(tuán)塊，這些團(tuán)塊在生產(chǎn)材料板的后續(xù)過程中會(huì)影響產(chǎn)品質(zhì)量和/或損壞壓力機(jī)。為了防止 或減少弄臟下降料道的內(nèi)壁以及在內(nèi)壁上形成牢固的沉積物，在文獻(xiàn)W02011/134844A1中 建議借助刮鏟或抹刀來擦過下降料道的內(nèi)壁。用支撐構(gòu)造穩(wěn)固地固定抹刀，該支撐構(gòu)造由 上環(huán)和下環(huán)構(gòu)成。上環(huán)與帶有內(nèi)嚙合齒的齒圈相連接，該齒圈經(jīng)由小齒輪和馬達(dá)來驅(qū)動(dòng)。通 過以此方式驅(qū)動(dòng)，刮鏟在繞垂直軸線轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)擦過旋轉(zhuǎn)對稱的下降料道的內(nèi)壁。盡管以此方 式避免了在下降料道的內(nèi)壁上形成較大的沉積物，但卻是以伴隨著刮鏟將新的元件和表面 引入下降料道為代價(jià)的，這些新的元件和表面又會(huì)被弄臟并且在它們上面會(huì)形成牢固的沉 積物。因此，特別在大型的設(shè)備中，附著物會(huì)形成于刮鏟上，這些附著物可以重達(dá)50公斤并 且以團(tuán)塊形式下落，這會(huì)造成損壞混合器和/或后續(xù)的機(jī)器。
[0008] 因此，在文獻(xiàn)W02011/134844A1中建議將刮鏟冷卻到低于空氣濕度的冷凝點(diǎn)的溫 度，以使在表面上形成冷凝物膜，該冷凝物膜可降低噴入的化學(xué)成分、特別是熱粘結(jié)的膠粘 材料的粘性。
[0009] 根據(jù)特定應(yīng)用的要求、特別是根據(jù)使用哪些粘結(jié)劑和/或哪些添加劑，不期望在 下降料道內(nèi)冷凝成濕氣。在此情況下，并不能有效使用由文獻(xiàn)W02011/134844A1所建議的 刮鏟冷卻。
[0010] 在其它情況下，根據(jù)所使用的粘結(jié)劑和/或所使用的添加劑，冷凝物膜不起作用 或者作用甚小，因而，僅僅稍微減少附著，或者當(dāng)一定的粘結(jié)劑或添加劑在濕氣和/或在降 低溫度的情況下更易于附著和/或結(jié)團(tuán)塊時(shí)甚至還會(huì)增加附著。在這些情況下可能也不 能使用由文獻(xiàn)W02011/134844A1所建議的刮鏟冷卻。
[0011] 此外，為了實(shí)現(xiàn)由文獻(xiàn)W02011/134844A1所建議的刮鏟冷卻，有必要設(shè)有用于冷 卻流體的相應(yīng)輸入管路和輸出管路，這些管路具有足夠的運(yùn)送能力。為了向轉(zhuǎn)動(dòng)的下降料 道的壁和/或轉(zhuǎn)動(dòng)的刮鏟供給冷卻流體，此外有必要設(shè)有對應(yīng)的引導(dǎo)流體的聯(lián)接裝置，這 些聯(lián)接裝置使冷卻流體能從設(shè)備的靜止部分傳遞到轉(zhuǎn)動(dòng)的下降料道壁和/或轉(zhuǎn)動(dòng)的刮鏟。 為此必需的機(jī)械構(gòu)造可產(chǎn)生較高的花費(fèi)，并且可能難以實(shí)現(xiàn)持續(xù)的高效密封。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0012] 因此，本實(shí)用新型的任務(wù)是提出一種下降料道結(jié)構(gòu)，該下降料道結(jié)構(gòu)可有效地避 免在下降料道內(nèi)形成牢固的附著物。
[0013] 因此，本實(shí)用新型的任務(wù)是提出下降料道結(jié)構(gòu)，該下降料道結(jié)構(gòu)可用于不同形式 的下降料道。
[0014] 此外，本實(shí)用新型的任務(wù)是提出一種下降料道結(jié)構(gòu)，該下降料道結(jié)構(gòu)可以容易地 集成到已建立的設(shè)備中。
[0015] 本實(shí)用新型的這些和其它任務(wù)通過如下所述的下降料道結(jié)構(gòu)來解決。其它較佳的 實(shí)施方式在從屬權(quán)利要求中示出。
[0016] 作為解決方案提出一種下降料道結(jié)構(gòu)，該下降料道結(jié)構(gòu)特別是用于膠合顆粒的裝 置，這些顆粒至少部分地由適于生產(chǎn)材料板的纖維和/或碎屑構(gòu)成，其中下降料道結(jié)構(gòu)具 有下降料道，該下降料道具有用于饋送顆粒的入口和用于輸出顆粒的出口，并具有用于清 潔下降料道的至少一個(gè)內(nèi)壁的至少一個(gè)第一清潔裝置和用于清潔該至少一個(gè)第一清潔裝 置的至少一個(gè)第二清潔裝置。
[0017] 第一清潔裝置允許保持下降料道的內(nèi)壁干凈，而第二清潔裝置允許保持第一清潔 裝置干凈。由此，可以有效確保在下降料道內(nèi)不會(huì)形成牢固的沉積物。
[0018] 在較佳的設(shè)計(jì)中，第一清潔裝置可構(gòu)造成至少一個(gè)可移動(dòng)的支承元件，該支承元 件相對于、尤其是平行于下降料道的所屬的第一內(nèi)壁可移動(dòng)地設(shè)置，其中至少一個(gè)第一擦 拭元件設(shè)置或構(gòu)造在可移動(dòng)的支承元件上，以使得在可移動(dòng)的支承元件移動(dòng)時(shí)擦拭對應(yīng)的 內(nèi)壁。
[0019] 以此方式，可以通過相對較少的構(gòu)造花費(fèi)來實(shí)現(xiàn)有效和可靠的第一清潔裝置。
[0020] 可移動(dòng)的支承元件可設(shè)置成穿過構(gòu)造在兩個(gè)相鄰的內(nèi)壁之間或內(nèi)壁的兩個(gè)端部 之間的間隙。
[0021] 在此還可規(guī)定，支承元件同時(shí)是下降料道的部分壁或者下降料道的內(nèi)壁。
[0022] 可移動(dòng)的支承元件可構(gòu)造成壁，該壁的高度等于對應(yīng)的內(nèi)壁的待擦拭高度。
[0023] 較佳地，可移動(dòng)的支承元件可構(gòu)造成是彈性的。
[0024] 第二清潔裝置可特別具有第二擦拭元件。
[0025] 特別是，第二擦拭元件可設(shè)置在壁或支承元件處。
[0026] 以此方式，可以通過相對較少的構(gòu)造花費(fèi)來實(shí)現(xiàn)有效和可靠的第二清潔裝置。
[0027] 特別是可以將可移動(dòng)的支承元件構(gòu)造成下降料道的構(gòu)成下降料道的內(nèi)壁的壁元 件。
[0028] 下降料道可具有多個(gè)壁元件，這些壁元件構(gòu)造成拱形，其中，各個(gè)壁元件與另一壁 元件在其外側(cè)部分地交疊。
[0029] 在另一較佳的設(shè)計(jì)中，第一清潔裝置可具有至少一個(gè)第一刮刀，該刮刀分配給至 少一個(gè)內(nèi)壁，且第二清潔裝置可具有至少一個(gè)第二刮刀以及用于使該第二刮刀從靜止位置 沿與刮刀大致平行的軸線運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置，以擦拭第一刮刀。
[0030] 在又一較佳的設(shè)計(jì)中，第一清潔裝置可具有至少一個(gè)第一刮刀以及用于使該第一 刮刀從靜止位置沿與至少一個(gè)內(nèi)壁大致平行的軸線運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置，以擦拭該第一內(nèi)壁， 而第二清潔裝置可具有至少一個(gè)第二刮刀以及用于使該第二刮刀從靜止位置運(yùn)動(dòng)經(jīng)過定 位在該靜止位置中的第一刮刀的驅(qū)動(dòng)裝置，以擦拭第一刮刀。
[0031] 在再一較佳設(shè)計(jì)中，第一清潔裝置可具有至少一個(gè)柔性的擦拭元件、特別是環(huán)形 的擦拭元件，用以清潔至少一個(gè)內(nèi)壁。
[0032] 應(yīng)用柔性的擦拭元件的有益效果是擦拭元件容易適應(yīng)下降料道的不同形式。
[0033] 此外，下降料道還可特別是具有第一引導(dǎo)裝置和第二引導(dǎo)裝置，其中第一引導(dǎo)裝 置和第二引導(dǎo)裝置被設(shè)置成保持和引導(dǎo)至少一個(gè)擦拭元件，以使得允許在擦拭元件和下降 料道的至少一個(gè)內(nèi)壁之間沿切向方向相對于該至少一個(gè)內(nèi)壁作相對運(yùn)動(dòng)，其中還設(shè)有驅(qū)動(dòng) 裝置，該驅(qū)動(dòng)裝置被設(shè)置成作用于下降料道、第一引導(dǎo)裝置、第二引導(dǎo)裝置和/或至少一個(gè) 擦拭元件，以產(chǎn)生相對運(yùn)動(dòng)。
[0034] 第一和/或第二引導(dǎo)裝置較佳地具有：多個(gè)引導(dǎo)機(jī)構(gòu)、特別是引導(dǎo)滾輪或者引導(dǎo) 齒輪，以及環(huán)形引導(dǎo)元件、特別是環(huán)形引導(dǎo)繩索、環(huán)形引導(dǎo)帶，環(huán)形引導(dǎo)線材或者環(huán)形引導(dǎo) 鏈條，該引導(dǎo)元件圍繞引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，其中至少一個(gè)柔性的擦拭元件直接地或通過保持裝置和/ 或轉(zhuǎn)向裝置固定到環(huán)形引導(dǎo)元件處。
[0035] 特別是，應(yīng)用繩索或線材的優(yōu)點(diǎn)在于，未經(jīng)處理地具有特別適于清潔的粗糙表面。
[0036] 此外，繩索和線材具有相對較小的表面，這有效地抵抗形成較大的附著物。由于繩 索的高度柔性，因而繩索此外還具有相對較高的自清潔特性，并且容易清潔。
[0037] 環(huán)形擦拭元件可借助轉(zhuǎn)向裝置設(shè)置成包圍下降料道的具有至少一個(gè)內(nèi)壁的壁元 件。
[0038] 環(huán)形擦拭元件還可設(shè)置成在下降料道內(nèi)的內(nèi)壁區(qū)域內(nèi)延伸。
[0039] 當(dāng)環(huán)形擦拭元件設(shè)置成在下降料道內(nèi)延伸時(shí)，環(huán)形擦拭元件的兩段與內(nèi)壁相鄰地 設(shè)置，以使得通過環(huán)形擦拭元件產(chǎn)生雙倍的擦拭效果。
[0040] 較佳地可設(shè)有驅(qū)動(dòng)裝置，該驅(qū)動(dòng)裝置被設(shè)置成使至少一個(gè)柔性的擦拭元件沿擦拭 元件的縱向延伸方向進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
[0041] 通過擦拭元件的往復(fù)運(yùn)動(dòng)、特別是振蕩運(yùn)動(dòng)，可以改善將擦拭元件作用于內(nèi)壁或 者附著到內(nèi)壁上的沉積物的擦拭效果。
[0042] 較佳地，此外設(shè)有兩個(gè)卷繞裝置，其中，柔性的擦拭元件與卷繞裝置相連，以能夠 由卷繞裝置卷起和退繞。
[0043] 還可設(shè)有另一驅(qū)動(dòng)裝置，該另一驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置成使環(huán)形擦拭元件作循環(huán)運(yùn)動(dòng)。
[0044] 通過擦拭元件的特別是連續(xù)、間歇和/或可與往復(fù)運(yùn)動(dòng)組合的循環(huán)運(yùn)動(dòng)，改善了 將擦拭元件作用于內(nèi)壁或者附著到內(nèi)壁上的沉積物的擦拭效果。
[0045] 至少一個(gè)環(huán)形擦拭元件可沿大致水平方向與下降料道的至少一個(gè)內(nèi)壁相鄰地延 伸。
[0046] 至少一個(gè)環(huán)形擦拭元件還可沿大致垂直方向與下降料道的至少一個(gè)內(nèi)壁相鄰地 延伸和/或以下降料道的形式沿垂直方向相應(yīng)地延伸。
[0047] 還可設(shè)有另外的張緊裝置，這些張緊裝置設(shè)置成作用于第一引導(dǎo)裝置和/或第二 引導(dǎo)裝置和/或至少一個(gè)擦拭元件，從而保持至少一個(gè)擦拭元件處于應(yīng)力下。
[0048] 擦拭元件可被引導(dǎo)經(jīng)過第二清潔裝置，或者穿過第二清潔裝置。
[0049] 第二清潔裝置也可實(shí)施成流體浴、毛刷、擦拭條或者擦拭缸。
[0050] 較佳地，第二清潔裝置也可構(gòu)造成設(shè)置在或者可引入至少一個(gè)擦拭元件的移動(dòng)路 徑內(nèi)的障礙物。
[0051] 可引入的障礙物可以特別是設(shè)置在下降料道的具有至少一個(gè)內(nèi)壁的壁內(nèi)，其中， 可引入的障礙物可在第一位置和第二位置之間調(diào)節(jié)，在第一位置中，障礙物沿下降料道內(nèi) 部的方向從內(nèi)壁突出，在第二位置中，該障礙物沿下降料道內(nèi)部的方向不突出超過內(nèi)壁。
[0052] 第一擦拭元件和/或第二擦拭元件和/或刮刀可構(gòu)造成刮鏟、抹刀或者棒、特別是 圓棒。
[0053] 第一擦拭元件和/或第二擦拭元件和/或柔性的擦拭元件也可構(gòu)造成繩索、特別 是鋼絲繩、線材、帶材或鏈條。
[0054] 由于棒、特別是圓棒、繩索、線材或帶材具有相對較小的表面，所以在其上形成較 大的牢固的附著物的可能性減小。
[0055] 較佳地，下降料道的橫截面被構(gòu)造成沿顆粒的下落方向從上到下逐漸縮小。
[0056] 下降料道可構(gòu)造成圓柱形、圓錐形、立方體形、規(guī)則或不規(guī)則多邊形或者楔形。
[0057] 下降料道在入口和出口的區(qū)域內(nèi)具有不同形狀的橫截面。
[0058] 不同形狀的橫截面可從如下形狀中選擇：圓形、橢圓形、方形、矩形、規(guī)則或不規(guī)則 多邊形的形狀以及由組合的弧段構(gòu)成的形狀。
[0059] 下降料道可構(gòu)造成多部分，具有多個(gè)壁，這些壁分別形成下降料道的內(nèi)壁。
[0060] 下降料道可具有大致凹形。
[0061] 下降料道的至少一個(gè)內(nèi)壁、較佳為下降料道的所有內(nèi)壁可在兩分鐘內(nèi)被擦拭至少 一次、特別是一分鐘內(nèi)被擦拭一次。
[0062] 較佳地，此外可設(shè)有調(diào)溫裝置，用以將至少一個(gè)內(nèi)壁調(diào)節(jié)到低于使粘結(jié)劑硬化的 閾值、較佳為低于7〇°C的溫度。
[0063] 在較佳的其它設(shè)計(jì)中，第一清潔裝置具有至少一個(gè)刮刀，該刮刀設(shè)計(jì)成相對于至 少一個(gè)內(nèi)壁運(yùn)動(dòng)，而第二清潔裝置具有柔性的擦拭元件，該擦拭元件在刮刀的移動(dòng)路徑中 經(jīng)至少一個(gè)內(nèi)壁張緊。
[0064] 作為另一解決方案的是一種用于膠合顆粒的裝置，這些顆粒至少部分地由適于生 產(chǎn)材料板的纖維和/或碎屑構(gòu)成，其中，該裝置具有下降料道結(jié)構(gòu)。
[0065] 此外，該裝置還可具有用于饋送顆粒的饋送裝置和用于輸出粘結(jié)劑的多個(gè)噴嘴， 其中，這些噴嘴設(shè)置在下降料道內(nèi)的區(qū)域中和/或下降料道的入口上方。
[0066] 此外，該裝置具有位于下降料道結(jié)構(gòu)之后的混合裝置。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0067] 接下來，將根據(jù)附圖來示出本實(shí)用新型的實(shí)施例：
[0068] 圖1示意地示出用于膠合顆粒的裝置；
[0069] 圖2A以示意俯視圖示出根據(jù)本實(shí)用新型的第一實(shí)施方式的下降料道結(jié)構(gòu)；
[0070] 圖2B是圖2A的下降料道結(jié)構(gòu)的示意側(cè)向剖視圖；
[0071] 圖2C是圖2A的下降料道結(jié)構(gòu)的變型的示意側(cè)向剖視圖；
[0072] 圖2D是圖2A的下降料道結(jié)構(gòu)的又一變型的示意俯視圖；
[0073] 圖3A示出根據(jù)本實(shí)用新型的第二實(shí)施方式的下降料道結(jié)構(gòu)的示意俯視圖；
[0074] 圖3B示出處于壁已被調(diào)節(jié)的狀態(tài)下的圖3A的下降料道結(jié)構(gòu)；
[0075] 圖4以示意側(cè)向剖視圖示出根據(jù)實(shí)用新型的第三實(shí)施方式的下降料道結(jié)構(gòu)；
[0076] 圖5以示意側(cè)向剖視圖示出根據(jù)本實(shí)用新型的第四實(shí)施方式的下降料道結(jié)構(gòu)；
[0077] 圖6A以示意側(cè)向剖視圖示出根據(jù)本實(shí)用新型的第五實(shí)施方式的下降料道結(jié)構(gòu)；
[0078] 圖6B是圖6A的下降料道結(jié)構(gòu)的示意俯視圖；
[0079] 圖6C和6D示意地示出圖6A和6B的下降料道結(jié)構(gòu)的第一變型；
[0080] 圖6E示意地示出圖6A和6B的下降料道結(jié)構(gòu)的另一變型；
[0081] 圖6F示出第二清潔單元的示例性設(shè)計(jì)；
[0082] 圖6G和6H示意地示出圖6A和6B的下降料道結(jié)構(gòu)的又一變型；以及
[0083] 圖61和6J示意地示出圖6A和6B的下降料道結(jié)構(gòu)的再一變型。
【具體實(shí)施方式】
[0084] 由于大量的實(shí)施例，接下來引入附圖標(biāo)記21 X，23 X，24X，31 X，32 X，33 X，34X 作為多部件的參照，用a到d來代替表示X。
[0085] 在圖1中以示意圖示出開頭有定量裝置2并且結(jié)尾有混合裝置7的、用于膠合顆 粒的裝置的總體圖。在定量裝置和混合裝置之間設(shè)置有下降料道3以及接下來將進(jìn)一步描 述的下降料道結(jié)構(gòu)10。在此，通常借助出料裝置將作為顆粒流1的顆粒從顆粒料倉加入到 定量裝置2內(nèi)，在那里稱重，并經(jīng)由用于定量的常見的帶調(diào)節(jié)裝置（未示出）進(jìn)入下降料道 4。在下降料道內(nèi)，顆粒流或顆粒1分散和/或分布到分散裝置3上，并在此分散和/或分 布成顆粒簾5。分散裝置3可具有特別是耙和/或擋板、輻條輥（該輻條輥由至少兩個(gè)盤構(gòu) 成，這些盤與（帶有或不帶有貫穿的軸的）轉(zhuǎn)動(dòng)軸線徑向間隔開地具有與轉(zhuǎn)動(dòng)軸線平行設(shè) 置的桿、管或類似物）和/或較佳地構(gòu)造成釘狀輥的分散輥。
[0086] 隨后，經(jīng)分散的顆粒簾5借助合適的噴嘴6用粘合劑噴涂并膠合。
[0087] 在此后的過程中，顆粒簾5下落通過下降料道結(jié)構(gòu)10,隨后到達(dá)位于下降料道結(jié) 構(gòu)10之后的混合裝置7,在該混合裝置內(nèi)，混合工具8借助旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的軸9使已膠合的顆粒 再次機(jī)械混勻，并最終作為經(jīng)混勻的顆粒流（出料箭頭）輸出。
[0088] 隨后，已膠合的顆粒流臨時(shí)儲(chǔ)存在定量料倉內(nèi)或者直接引入用于形成散布料墊的 散布裝置內(nèi)，該散布料墊在后續(xù)過程中在壓力機(jī)中可壓制成材料板和/或可硬化。
[0089] 原則上，下降料道結(jié)構(gòu)10具有足夠的下落高度，由此，膠合劑可足夠牢固地與顆 粒連結(jié)，并且應(yīng)當(dāng)較佳地構(gòu)造成沿下落方向?yàn)橄陆盗系?的至少一半長。
[0090] 如圖所示，下降料道4和下降料道結(jié)構(gòu)10可作為分開的裝置來設(shè)置?；蛘?，下降 料道4也可以與下降料道結(jié)構(gòu)10的下降料道構(gòu)造成一個(gè)單元。
[0091] 參照圖2A到6J，現(xiàn)描述作為下降料道結(jié)構(gòu)10應(yīng)用于圖1的裝置中的下降料道結(jié) 構(gòu)的不同實(shí)施方式。
[0092] 在圖2a到2c中示出下降料道結(jié)構(gòu)20的第一實(shí)施方式。
[0093] 圖2A到2C是具有下降料道21的下降料道結(jié)構(gòu)20。下降料道21具有矩形橫截面， 其中，四個(gè)壁或壁元件分別定義下降料道21的內(nèi)壁21a，…，21d。在每兩個(gè)內(nèi)壁21a，…，21d 或者具有相關(guān)的內(nèi)壁的壁或壁元件之間分別構(gòu)造有間隙，穿過這些間隙設(shè)置有至少一個(gè)支 承元件23a,…，23d。
[0094] 支承元件23a，…，23d分別屬于內(nèi)壁21a，…，21d，并且沿與它們的表面大致平行 的方向可移動(dòng)地設(shè)置。在各個(gè)支承元件23a，…，23d的端部區(qū)域處設(shè)置有擦拭元件22a，… ，22d。
[0095] 支承元件23a，…，23d和擦拭元件22a，…，22d是用于清潔下降料道的對應(yīng)的內(nèi) 壁21a…21d的清潔裝置，其中，通過如下方式來清潔內(nèi)壁21a，…，21d :使對應(yīng)的支承元 件沿與相關(guān)的內(nèi)壁21a，…，21d平行的方向移位，以使得擦拭元件22a，…，22d擦過內(nèi)壁 21a，…，21d并且以此方式來清潔內(nèi)壁，以及清潔已沉積于這些內(nèi)壁上的可能粘結(jié)劑或顆 粒。
[0096] 擦拭元件22a,…，22d可構(gòu)造成刮鏟、抹刀、棒、特別是圓棒、繩索、線材、帶材、鏈 條、毛刷或者其它合適的形式。
[0097] 支承元件23a,…，23d可例如構(gòu)造成縱長板，如圖2b中所示，其中，例如兩塊板23a 彼此疊置地平行延伸，并且擦拭元件22a設(shè)置在兩塊板23a處。
[0098] 如圖2C中所示，支承元件23a，…，23d同樣可以分別構(gòu)造成高度上基本延伸通過 各個(gè)對應(yīng)的內(nèi)壁21a，…，21d的待擦拭區(qū)域的壁。
[0099] 支承元件23a，…，23d的其它構(gòu)造方式同樣也是可以的。盡管圖2A到2C示出了 沿顆粒的下落方向以直線延伸的具有矩形橫截面的下降料道21，但這并不是限制性的。因 此，例如呈倒棱錐形式的下降料道21可被構(gòu)造成沿顆粒1的下落方向從上到下逐漸縮小。 [0100] 其它的橫截面，例如呈規(guī)則或不規(guī)則多邊形的橫截面也是可以的。內(nèi)壁21a，… ，21d可沿水平方向以直線延伸，或者可構(gòu)造成具有朝向下降料道內(nèi)部的凸起的凹形或者是 具有朝向下降料道外部的凹陷的凸形；在這些情況下，支承元件同樣可構(gòu)造有對應(yīng)的曲率， 因而，它們在移動(dòng)時(shí)遵循對應(yīng)所屬的內(nèi)壁的凸起，并且以此方式確保擦拭元件21a，…，21d 可通過擦過對應(yīng)的內(nèi)壁來清潔它們。
[0101] 支承元件23a，…，23d在移動(dòng)時(shí)經(jīng)過對應(yīng)所屬的第二清潔裝置24a，…，24d，這些 第二清潔裝置清潔支承元件23a,…，23d。
[0102] 第二清潔裝置24a，…，24d能以例如與圖2a中所示不同的方式設(shè)置。第二清潔裝 置也清理第一清潔裝置的至少一部分。
[0103] 第二清潔裝置可構(gòu)造成內(nèi)壁的一側(cè)或一邊，或者也可以構(gòu)造成擦拭元件24a，… ，24d、特別是構(gòu)造成刮鏟、抹刀、棒、特別是圓棒、繩索、線材、帶材、鏈條、毛刷或者其它合適 的形式。
[0104] 因此，第二清潔裝置（擦拭元件24b)可構(gòu)造成或者作用為內(nèi)壁21a的一側(cè)或一 邊，支承元件23或第一清潔裝置的其它部分在移位時(shí)經(jīng)過該第二清潔裝置，從而以此方式 被擦拭和清潔（圖2A，右上）。
[0105] 以類似的方式，作為第二清潔裝置，在內(nèi)壁21d的一側(cè)設(shè)置有擦拭元件24a。如果 支承元件23移位，則該支承元件連同其朝向下降料道21內(nèi)部的表面經(jīng)過擦拭元件24a，并 且以此方式被擦拭和清潔（圖2A，左上）。
[0106] 作為第二清潔裝置，同樣可以在支承元件23b的端部構(gòu)造有擦拭元件24c。當(dāng)支承 元件23b完全沿進(jìn)入下降料道21內(nèi)部的方向運(yùn)動(dòng)時(shí)，擦拭元件24c與支承元件23c的朝向 下降料道21內(nèi)部的那側(cè)接觸。如果支承元件23c移位，則該支承元件擦過擦拭元件24c，并 且以此方式被擦拭和清潔（圖2A，右下）。
[0107] 最后，擦拭元件24d也可設(shè)置在下降料道21外部，因而，當(dāng)支承元件23d移位時(shí)， 它連同其朝向下降料道21內(nèi)部的表面擦過擦拭元件24d，并且以此方式被擦拭和清潔（圖 2A，左下）。
[0108] 根據(jù)圖2D在此較佳的是，支承元件23a，…，23d構(gòu)造成是彈性的，以使設(shè)置在支承 元件23a的端部處的擦拭元件22a通過彈性力的作用被壓抵內(nèi)壁21a。因此，如果支承元件 23a移位，則在彎曲的內(nèi)壁的情況下，擦拭元件22a可靠地沿著彎曲的內(nèi)壁21a并在彎曲的 內(nèi)壁21a上擦拭，以擦拭和清潔內(nèi)壁。
[0109] 如圖2D中的實(shí)施例所示，因此，將下降料道21構(gòu)造成具有大致圓形或橢圓形橫截 面并帶有具有內(nèi)壁21a的各個(gè)壁就夠了。通過壁的兩端之間的間隙，將支承元件23a引入 下降料道21內(nèi)部。壁可呈螺旋形彎曲，以使壁的兩端交疊，因此，壁界限出大于360°的角 度。在各端部之間構(gòu)造有間隙，引導(dǎo)支承元件23a穿過該間隙。
[0110] 支承元件23a可構(gòu)造成彈性的壁，該壁的高度基本上等于下降料道21的內(nèi)壁21a 的待擦拭區(qū)域的高度。
[0111] 如果應(yīng)用至少兩個(gè)較佳為狹窄的支承元件23a，其中在該支承元件的端部處設(shè)有 較佳為剛性的擦拭元件22a、例如圓棒，則下降料道21a也可以構(gòu)造成沿顆粒的下落方向從 上向下逐漸縮小，特別是呈倒棱錐的形式。在此，較佳的是對于每個(gè)支承元件23a設(shè)有獨(dú)立 的驅(qū)動(dòng)裝置（未示出），其中，將驅(qū)動(dòng)裝置操縱成使支承元件23a移位以使擦拭元件22a以 大致保持垂直的定向沿下降料道21的內(nèi)壁21a運(yùn)動(dòng)。類似于圖2A，第二清潔裝置例如分開 地在下降料道21外作為擦拭元件24d設(shè)置。
[0112] 參照圖3A和3B，現(xiàn)在描述根據(jù)第二實(shí)施方式的下降料道結(jié)構(gòu)30。
[0113] 下降料道結(jié)構(gòu)30具有下降料道31，該下降料道由多個(gè)壁元件構(gòu)成，這些壁元件分 別具有壁31a，…，31d，這些壁根據(jù)大致拱形、特別是圓弧形或橢圓弧形彎曲。
[0114] 由拱形壁元件總地包圍的角度之和至少等于360°與由最長的壁元件所包圍的角 度之和的角度。
[0115] 如圖3A中可知，壁元件部分地彼此交疊，以使具有內(nèi)壁31a的壁元件向外與具有 內(nèi)壁31b的相鄰壁元件交疊，并且向外與具有內(nèi)壁31d的另一相鄰壁元件交疊。
[0116] 在各個(gè)壁元件處設(shè)置有擦拭元件32a，…，32d，以使它們分別擦拭對應(yīng)的相鄰壁元 件的在外部的內(nèi)壁31a，…，31d。
[0117] 如由箭頭所示，每個(gè)壁元件可被調(diào)節(jié)或運(yùn)動(dòng)到使該壁元件特別是繞屬于該弧的中 點(diǎn)轉(zhuǎn)動(dòng)。這例如在圖3B中示出。以此方式，例如內(nèi)壁31a和31b相對彼此移位，以使擦拭 元件32b在內(nèi)壁31a上擦拭并且清潔該內(nèi)壁。
[0118] 對于內(nèi)壁31a，因此，壁元件31b和擦拭元件32b是清潔該內(nèi)壁31a的第一清潔裝 置。壁元件31c和擦拭元件32c又是清潔內(nèi)壁32b并且由此清潔第一清潔裝置的第二清潔 裝直。
[0119] 在圖4中所示的第三實(shí)施方式中，下降料道結(jié)構(gòu)40具有下降料道41，在該下降料 道中，至少一個(gè)刮鏟或刮刀42以已知的方式設(shè)置成擦拭內(nèi)壁41a的第一清潔裝置。在此， 下降料道41可相對于刮刀42和/或刮刀42相對于下降料道41運(yùn)動(dòng)、特別是繞轉(zhuǎn)動(dòng)軸線 轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0120] 下降料道結(jié)構(gòu)40此外具有呈刮鏟或刮刀44形式的第二清潔裝置，該刮鏟或刮刀 可借助電動(dòng)、液壓或者氣動(dòng)操作的進(jìn)給軸（Zustellachse)作為驅(qū)動(dòng)裝置43從靜止位置沿 大致與刮刀42平行的軸線來調(diào)節(jié)，以使得擦拭并以此方式清潔刮刀42。在此可規(guī)定，在可 動(dòng)的刮刀42的情況下，刮刀42首先運(yùn)動(dòng)到清潔位置，并且在刮刀44運(yùn)動(dòng)離開靜止位置之 前停在該清潔位置。
[0121] 如圖4中所示，此外可設(shè)有裝料漏斗45,該裝料漏斗不必是下降料道結(jié)構(gòu)10的一 部分。裝料漏斗45與下降料道41的內(nèi)壁41a-起構(gòu)成間隙，刮刀42經(jīng)過該間隙可引入到 下降料道41的內(nèi)部。此外，裝料漏斗45可保護(hù)免受由膠合劑和/或已膠合的顆粒1產(chǎn)生 的污染的影響。為了使下降料道41保持清潔，可將由空氣或者不再粘性的、但已膠合的顆 粒構(gòu)成的罩套引入該間隙內(nèi)。
[0122] 在圖5中所示的第四實(shí)施方式中，下降料道結(jié)構(gòu)50具有下降料道51。
[0123] 此外，下降料道結(jié)構(gòu)50具有呈至少一個(gè)刮鏟或刮刀52形式的第一清潔裝置，該第 一清潔裝置借助電動(dòng)、液壓或者氣動(dòng)操作的進(jìn)給軸作為驅(qū)動(dòng)裝置53從由虛線示出的靜止 位置沿大致與內(nèi)壁51a平行的軸線進(jìn)行調(diào)節(jié)，以使得擦拭并以此方式清潔內(nèi)壁51a。
[0124] 此外，下降料道結(jié)構(gòu)50具有較佳呈至少一個(gè)刮鏟或刮刀54形式的第二清潔裝置， 該第二清潔裝置借助電動(dòng)、液壓或者氣動(dòng)操作的進(jìn)給軸55作為驅(qū)動(dòng)裝置從靜止位置運(yùn)動(dòng) 經(jīng)過定位在靜止位置的刮刀52,以使得擦拭并以此方式清潔刮刀52。
[0125] 代替刮鏟或刮刀54,也可使用其它合適的擦拭裝置來作為清潔裝置。如果此外將 刮刀54或其它合適的擦拭裝置設(shè)置成使刮鏟或刮刀52在從下降料道51駛出時(shí)經(jīng)過該刮 刀54,則可以取消驅(qū)動(dòng)裝置55。
[0126] 在第五實(shí)施方式中，下降料道結(jié)構(gòu)60具有柔性擦拭元件62作為清潔裝置，如圖6A 至6J中所示。
[0127] 如圖6A和6B中所示，在該實(shí)施方式中，下降料道61可以構(gòu)造成旋轉(zhuǎn)對稱的、特別 是圓錐形，并具有限定內(nèi)壁61a的壁。下降料道的壁可以為拱形彎曲，因而，下降料道61沿 顆粒的下落方向從上向下逐漸縮小。
[0128] 在此實(shí)施方式中，第一清潔裝置具有柔性擦拭元件62、特別是環(huán)形繩索、較佳實(shí)施 成鋼絲繩。
[0129] 環(huán)形繩索經(jīng)由轉(zhuǎn)向裝置63(在此為轉(zhuǎn)向輪）來引導(dǎo)和保持，以使該環(huán)形繩索包圍 下降料道61的壁，因而，繩索既在下降料道61中與內(nèi)壁61a相鄰地延伸，又在下降料道61 外延伸。
[0130] 轉(zhuǎn)向輪可分配有驅(qū)動(dòng)裝置（未示出），以經(jīng)由轉(zhuǎn)向輪使繩索沿環(huán)形繩索的延伸方 向運(yùn)動(dòng)。該運(yùn)動(dòng)可以是繩索的間歇或連續(xù)進(jìn)行的運(yùn)動(dòng)或者繩索的振蕩式往復(fù)運(yùn)動(dòng)，或者其 組合。
[0131] 為了產(chǎn)生擦拭元件62與下降料道61或其內(nèi)壁61a之間的相對運(yùn)動(dòng)，由此使繩索 與內(nèi)壁61a相切地運(yùn)動(dòng)以擦拭內(nèi)壁，下降料道61可借助合適的驅(qū)動(dòng)裝置（未示出）運(yùn)動(dòng)、 特別是繞轉(zhuǎn)動(dòng)軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，和/或可設(shè)有引導(dǎo)裝置，這些引導(dǎo)裝置分配有轉(zhuǎn)向裝置63,如參照 圖6C和6D更詳細(xì)地描述地。
[0132] 為了避免在該繩索上形成可能會(huì)結(jié)成團(tuán)塊的膠合劑或膠合的顆粒1的附著物，可 設(shè)有具有用于清潔繩索的擦拭元件66的第二清潔裝置，并且第二清潔裝置設(shè)置成使繩索 經(jīng)過該第二清潔裝置或者穿過該第二清潔裝置。該第二清潔裝置可例如構(gòu)造成繩索會(huì)經(jīng)過 的毛刷、擦拭鏟或擦拭條，或者繩索所穿過的擦拭間隙或擦拭缸。該第二清潔裝置也可構(gòu)造 成流體浴，該流體浴例如填充有水和/或清潔劑，而擦拭元件62被引導(dǎo)通過該流體浴，以洗 掉并溶解膠合劑和/或顆粒1。
[0133] 由于下降料道61的指向下降料道61內(nèi)部的彎曲或凹入的形狀，其中壁特別是可 構(gòu)造成隆起的，因而得到如下有利的效果：繩索特別良好地抵靠于下降料道61的內(nèi)壁61a， 并且由于其柔性而適應(yīng)于內(nèi)壁61a的形狀。由此可實(shí)現(xiàn)對下降料道61的內(nèi)壁61a的特別 可靠的清潔。
[0134] 為了進(jìn)一步加強(qiáng)該效果，可設(shè)有附加的張緊裝置64、65,這些張緊裝置在圖6A中 示例性地示出為彈簧和壓緊輪，以張緊繩索。
[0135] 作為擦拭元件62的繩索的柔性還允許繩索適應(yīng)于下降料道61的不同橫截面，如 在入口區(qū)域內(nèi)具有較大開口寬度的矩形橫截面以及在出口區(qū)域內(nèi)小得多的圓形橫截面，如 例如圖6C和6D中所示。如圖6C和6D中所示，下降料道61構(gòu)造成多部分，例如具有四個(gè) 壁，這些壁限定四個(gè)內(nèi)壁61a到61d。在入口區(qū)域內(nèi)，下降料道61具有矩形橫截面，而下降 料道61在出口區(qū)域內(nèi)構(gòu)造成具有圓形橫截面。下降料道的壁為拱形彎曲，因而，下降料道 61沿顆粒1的下落方向從上向下逐漸縮小。
[0136] 如圖6A和6B的實(shí)施例中所示，在圖6C和6D的實(shí)施例中，擦拭元件62作為繩索 經(jīng)由轉(zhuǎn)向裝置63引導(dǎo)和保持，該繩索包圍下降料道，因而，繩索既在下降料道61內(nèi)與內(nèi)壁 61d相鄰地延伸，又在下降料道61外延伸。與圖6A中的實(shí)施例不同的是，在圖6C的實(shí)施例 中，在下降料道61的下端部區(qū)域內(nèi)，壁被構(gòu)造成分別具有凸緣或弧段作為用于繩索的轉(zhuǎn)向 裝置67,該轉(zhuǎn)向裝置用于使繩索轉(zhuǎn)向并保持繩索。因此，該凸緣可視為引導(dǎo)裝置和轉(zhuǎn)向裝 置。
[0137] 該轉(zhuǎn)向裝置63屬于引導(dǎo)裝置，該引導(dǎo)裝置具有例如鏈條的環(huán)形引導(dǎo)元件69以及 例如齒輪的引導(dǎo)機(jī)構(gòu)68。如圖6D中特別示出，引導(dǎo)機(jī)構(gòu)68設(shè)置成將環(huán)形鏈條張緊成使該 環(huán)形鏈條繞下降料道61回轉(zhuǎn)。
[0138] 所述實(shí)施例不是限制性的，并且作為引導(dǎo)元件69可采用繩索、特別是鋼絲繩、帶 材、線材或類似物。作為引導(dǎo)機(jī)構(gòu)68可應(yīng)用滾輪、滑軌或其它元件，它們適于保持和相應(yīng)地 引導(dǎo)對應(yīng)的引導(dǎo)裝置以及并根據(jù)需求使它們轉(zhuǎn)向。
[0139] 馬達(dá)（未示出）可與引導(dǎo)機(jī)構(gòu)68相連，以驅(qū)動(dòng)作為引導(dǎo)元件69的鏈條并使其運(yùn) 動(dòng)。由于轉(zhuǎn)向輪與引導(dǎo)裝置的鏈條62相連，所以柔性的環(huán)形擦拭元件或繩索以此方式沿與 內(nèi)壁61d的表面相切的方向運(yùn)動(dòng)。以此方式，繩索可擦拭內(nèi)壁61d、或下降料道61的所有內(nèi) 壁61a，…，61d并且清潔它們，其中附著在內(nèi)壁61a，…，61d上的可能的膠合劑或膠合的顆 粒1被擦去。
[0140] 作為擦拭元件66的第二清潔裝置可安裝在預(yù)定的固定位置處，以在借助引導(dǎo)裝 置和所屬的驅(qū)動(dòng)裝置使繩索運(yùn)動(dòng)到相應(yīng)的清潔位置時(shí)清潔該繩索。清潔裝置也可屬于引導(dǎo) 裝置，并且與其一起運(yùn)動(dòng)，以跟隨繩索經(jīng)過下降料道61的內(nèi)壁61a到61d的運(yùn)動(dòng)。
[0141] 盡管在圖6A到6D中環(huán)形繩索包圍壁，但在圖6E中所示的變型中，環(huán)形繩索也可 以如下方式經(jīng)過轉(zhuǎn)向裝置72, S卩，環(huán)形繩索作為擦拭元件62在下降料道62內(nèi)延伸，以使得 繩索的來回兩段均抵靠于下降料道61的內(nèi)壁61d。
[0142] 繩索的這種引導(dǎo)具有較小的空間需求的有利效果，這是因?yàn)闊o需用于在下降料道 61外延伸的繩索段的自由空間。此外，內(nèi)壁61d通過雙倍延伸的繩索相應(yīng)地被雙倍擦拭，這 導(dǎo)致更好的清潔能力。
[0143] 第二清潔裝置在圖6E的實(shí)施例中實(shí)施成擦拭條71，繩索被引導(dǎo)經(jīng)過該擦拭條，以 擦拭該繩索。
[0144] 在圖6E和6F中所示的變型中，第二清潔裝置構(gòu)造成可引入作為擦拭元件62的繩 索的移動(dòng)路徑74中的障礙物75,該障礙物較佳地設(shè)置在下降料道61的具有至少一個(gè)內(nèi)壁 61a…61d的壁內(nèi)，其中可引入的障礙物75可在第一位置和第二位置之間調(diào)節(jié)，在第一位 置中，障礙物沿下降料道61的內(nèi)部方向從內(nèi)壁61a…61d突出，在第二位置中，該障礙物不 突出超過內(nèi)壁61a…61d?？梢氲恼系K物75可例如氣動(dòng)、液壓或電動(dòng)調(diào)節(jié)，并可例如構(gòu)造 成芯軸或圓錐體。在此方面，為了更好地理解，在圖6E中示出移動(dòng)路徑74。
[0145] 當(dāng)引入可引入的障礙物75時(shí)，該障礙物對抗繩索的運(yùn)動(dòng)。該繩索由此張緊，直至 它"翻過"障礙物75或者直至繩索通過調(diào)節(jié)該障礙物75而松弛。這種處于應(yīng)力下的繩索 在突然的運(yùn)動(dòng)中放松，該運(yùn)動(dòng)可使繩索振動(dòng)并"抖動(dòng)"和/或碰到內(nèi)壁61a，…，61d，由此，可 抖掉沉積在繩索上的膠合劑和/或顆粒1。在此較佳的是，可使繩索的運(yùn)動(dòng)方向反向，以使 繩索從兩個(gè)方向?qū)χ烧{(diào)節(jié)的障礙物75運(yùn)動(dòng)。
[0146] 圖6G和6H示出另一變型，其中，繩索固定在兩個(gè)卷繞裝置73上，這些卷繞裝置能 使繩索卷繞和退繞。
[0147] 通過對卷繞裝置73的驅(qū)動(dòng)裝置（未示出）的對應(yīng)操縱，可使繩索沿繩索的縱向進(jìn) 行往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
[0148] 圖6G和6H示出其它的引導(dǎo)裝置，這些引導(dǎo)裝置可例如構(gòu)造成進(jìn)給軸或滑道76,卷 繞裝置73例如借助在滑道76內(nèi)行進(jìn)的滑塊或者滑動(dòng)元件（未示出）固定到這些進(jìn)給軸或 滑道處。在圖6H中示例性地示出滑道76,這些滑道引導(dǎo)并保持卷繞裝置73,并且經(jīng)由卷繞 裝置73來卷繞環(huán)形繩索。因此，繩索可借助滑道76在內(nèi)壁61d的表面上運(yùn)動(dòng)。
[0149] 對于下降料道61的其它內(nèi)壁，同樣可分別設(shè)有滑道76,卷繞裝置設(shè)置在這些滑道 處，將相應(yīng)的繩索分配給滑道；為了說明方便起見，在圖6G和6H中沒有示出它們?；蛘?，滑 道76對應(yīng)于下降料道61構(gòu)造成拱形和環(huán)形。
[0150] 參照圖6A到6H給出實(shí)施例，其中，柔性的擦拭元件62(如繩索）沿大致垂直方 向在內(nèi)壁61a，…，61d的區(qū)域內(nèi)延伸。然而，這不是限制性的，并且如圖61和6J中所示的 實(shí)施例中示出，下降料道結(jié)構(gòu)60也可構(gòu)造成使柔性的擦拭元件62與下降料道61的內(nèi)壁 61a，…，61d相鄰地沿大致水平方向延伸，柔性的擦拭元件例如構(gòu)造為經(jīng)由轉(zhuǎn)向裝置63引 導(dǎo)的環(huán)形繩索。
[0151] 較佳地，對于下降料道61的每個(gè)內(nèi)壁61a,…，61d分別設(shè)有柔性的擦拭兀件62， 該擦拭元件例如可實(shí)施成環(huán)形繩索，該環(huán)形繩索設(shè)置成包圍相關(guān)的內(nèi)壁61a，一,61(1,如圖 61中的實(shí)施例中的內(nèi)壁61d所示。
[0152] 下降料道61的內(nèi)壁61a，…，61d可沿水平方向大致直線延伸，或者可以是凹形的， 特別是構(gòu)造成隆起的，因而，它們沿指向下降料道61內(nèi)部的方向彎曲，如圖61的內(nèi)壁61b 的實(shí)施例中所示。
[0153] 轉(zhuǎn)向裝置63分配給對應(yīng)的引導(dǎo)裝置（未示出），這些引導(dǎo)裝置可設(shè)置成使轉(zhuǎn)向裝 置63沿大致垂直的方向運(yùn)動(dòng)，如由圖6J的箭頭所示，以使得擦拭元件62跟隨下降料道的 內(nèi)壁61d沿大致垂直的方向與內(nèi)壁61d的表面相切地運(yùn)動(dòng)，并且沿大致垂直方向擦拭該內(nèi) 壁的表面。
[0154] 運(yùn)動(dòng)軸線在此能以合適的方式大致垂直、大致跟隨內(nèi)壁61d的側(cè)向邊緣的曲線或 者以其它合適的方式定向。
[0155] 作為引導(dǎo)裝置，可設(shè)有帶或繩索傳動(dòng)裝置，類似于參照圖6A到6H所述那樣。引導(dǎo) 裝置同樣可以構(gòu)造成進(jìn)給軸或引導(dǎo)構(gòu)件、特別是直線引導(dǎo)構(gòu)件，其中，轉(zhuǎn)向裝置63分別固 定到在引導(dǎo)構(gòu)件內(nèi)延伸的滑塊（未示出）處，可以電動(dòng)、氣動(dòng)或液壓方式操縱該滑塊。
[0156] 盡管本實(shí)用新型借助較佳的實(shí)施方式的實(shí)施例來描述，但它們不是限制性的。因 此，各種實(shí)施方式的各種方面可組合或彼此交換。特別是，在下降料道結(jié)構(gòu)中，不同形式的 第一和/或第二清潔裝置可組合。同樣，各種類型的擦拭元件62或引導(dǎo)裝置可組合。
[0157] 引導(dǎo)裝置不限于所述的實(shí)施例。
[0158] 因此，代替所述引導(dǎo)裝置例如還可設(shè)有構(gòu)造成引導(dǎo)構(gòu)件、特別是直線引導(dǎo)構(gòu)件的 引導(dǎo)裝置，這些引導(dǎo)裝置具有在引導(dǎo)構(gòu)件內(nèi)延伸的滑塊（未示出），可電動(dòng)、氣動(dòng)或液壓方 式操縱該滑塊。
[0159] 同樣可應(yīng)用實(shí)施成滑軌的形式的引導(dǎo)裝置，在這些引導(dǎo)裝置處，擦拭元件滑動(dòng)地 例如通過設(shè)置在滑軌內(nèi)的滑動(dòng)元件或滾輪來保持。
[0160] 盡管給出擦拭元件62借助第一和第二引導(dǎo)裝置相對于下降料道61的內(nèi)壁61a，… ，61d運(yùn)動(dòng)的實(shí)施例，但這不是限制性的，并且下降料道也可以通過合適的驅(qū)動(dòng)裝置來運(yùn)動(dòng)。 因此，例如下降料道61可構(gòu)造成旋轉(zhuǎn)對稱的，并且通過相應(yīng)的驅(qū)動(dòng)裝置作轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)，以使 得下降料道61的內(nèi)壁相對于擦拭元件62運(yùn)動(dòng)。
[0161] 擦拭元件62在此可由對應(yīng)的第一和第二引導(dǎo)裝置保持固定，而內(nèi)壁運(yùn)動(dòng)經(jīng)過擦 拭元件62?？蛇\(yùn)動(dòng)的擦拭元件62也可以與可運(yùn)動(dòng)的下降料道61結(jié)合。
[0162] 引導(dǎo)裝置可設(shè)置在通過下降料道61所圍成的空間外和內(nèi)。如果引導(dǎo)裝置設(shè)置在 下降料道61內(nèi)，較佳地可設(shè)有罩蓋，以保護(hù)引導(dǎo)裝置免于弄臟，和/或可設(shè)有附加的擦拭構(gòu) 件，附加的擦拭構(gòu)件例如可設(shè)置在柔性的擦拭元件上，以擦拭和清潔設(shè)置在下降料道內(nèi)的 引導(dǎo)裝置。
[0163] 此外，下降料道結(jié)構(gòu)可具有調(diào)溫裝置，用以將一個(gè)或多個(gè)內(nèi)壁調(diào)節(jié)到低于使膠合 劑硬化的閾值、較佳為低于70°C的溫度。
[0164] 附圖標(biāo)記列表1443:1.顆粒
[0165] 2 定量裝置
[0166] 3. 分散裝置
[0167] 4. 下降料道
[0168] 5. 顆粒簾
[0169] 6. 噴嘴
[0170] 7. 混合裝置
[0171] 8. 混合工具
[0172] 9. 軸
[0173] 10. 下降料道結(jié)構(gòu)
[0174] 20 下降料道結(jié)構(gòu)
[0175] 21. 下降料道
[0176] 21x, a, b, c, d 內(nèi)壁
[0177] 22. 擦拭元件
[0178] 23. 支承元件
[0179] 24. 引導(dǎo)元件
[0180] 30. 下降料道結(jié)構(gòu)
[0181] 31 下降料道
[0182] 31x, a, b, c, d 內(nèi)壁
[0183] 32. 擦拭元件
[0184] 40. 下降料道結(jié)構(gòu)
[0185] 41 下降料道
[0186] 41x, a, b, c, d 內(nèi)壁
[0187] 42. 刮刀
[0188] 43. 驅(qū)動(dòng)裝置
[0189] 44. 刮刀
[0190] 45. 裝料漏斗
[0191] 50. 下降料道結(jié)構(gòu)
[0192] 51 下降料道
[0193] 51x, a, b, c, d 內(nèi)壁
[0194] 52. 刮刀
[0195] 53. 驅(qū)動(dòng)裝置
[0196] 54. 刮刀
[0197] 55. 驅(qū)動(dòng)裝置
[0198] 60. 下降料道結(jié)構(gòu)
[0199] 61 下降料道
[0200] 61x, a, b, c, d 內(nèi)壁
[0201] 62. 擦拭元件
[0202] 63. 轉(zhuǎn)向裝置
[0203] 64. 張緊裝置
[0204] 65. 張緊裝置
[0205] 66. 擦拭元件
[0206] 67. 轉(zhuǎn)向裝置
[0207] 68. 引導(dǎo)裝置
[0208] 69. 弓丨導(dǎo)元件
[0209] 71. 擦拭條
[0210] 72. 轉(zhuǎn)向裝置
[0211] 73. 卷繞裝置
[0212] 74. 移動(dòng)路徑
[0213] 75. 障礙物
[0214] 76. 滑道
【權(quán)利要求】
1. 一種下降料道結(jié)構(gòu)（10 ;20 ;30 ;40 ;50 ;60)，所述下降料道結(jié)構(gòu)用于膠合顆粒（1)的 裝置，所述顆粒至少部分地由適于生產(chǎn)材料板的纖維和/或碎屑構(gòu)成，其中，所述下降料道 結(jié)構(gòu)（10 ;20 ;30 ;40 ;50 ;60)具有下降料道（21 ;31 ;41 ;51 ;61)，所述下降料道具有用于饋 送顆粒（1)的入口和用于輸出顆粒（1)的出口，并具有用于清潔所述下降料道（21 ;31 ;41 ; 51 ;61)的至少一個(gè)內(nèi)壁（21a…21d)的至少一個(gè)第一清潔裝置，其特征在于，所述下降料道 結(jié)構(gòu)（10 ;20 ;30 ;40 ;50 ;60)還具有用于清潔所述至少一個(gè)第一清潔裝置的至少一個(gè)第二 清潔裝置。
2. 如權(quán)利要求1所述的下降料道結(jié)構(gòu)（20 ;30)，其特征在于，所述第一清潔裝置構(gòu)造成 至少一個(gè)可移動(dòng)的支承元件（23x ;31x)，所述支承元件設(shè)置成能相對于所述下降料道（21 ; 31)的所屬的第一內(nèi)壁（21x;31x)移動(dòng)，其中至少一個(gè)第一擦拭元件（22x;32x)設(shè)置或構(gòu) 造在所述可移動(dòng)的支承元件（23x ;31x)處，以使得在所述可移動(dòng)的支承元件（23x ;31x)移 動(dòng)時(shí)擦拭所屬的內(nèi)壁（21x ;31x)。
3. 如權(quán)利要求2所述的下降料道結(jié)構(gòu)（20 ;30)，其特征在于，所述可移動(dòng)的支承元件 (23x ;31x)設(shè)置成穿過構(gòu)造在兩個(gè)相鄰的內(nèi)壁（21x)之間或內(nèi)壁（21x)的兩個(gè)端部之間的 間隙。
4. 如權(quán)利要求2到3中任一項(xiàng)所述的下降料道結(jié)構(gòu)（20 ;30)，其特征在于，所述可移 動(dòng)的支承元件（23x;31x)構(gòu)造成壁，所述壁的高度等于所屬的內(nèi)壁（21x;31x)的待擦拭高 度。
5. 如權(quán)利要求2到3中任一項(xiàng)所述的下降料道結(jié)構(gòu)（20)，其特征在于，所述可移動(dòng)的 支承元件（23x ;31x)構(gòu)造成是彈性的。
6. 如權(quán)利要求2所述的下降料道結(jié)構(gòu)（20)，其特征在于，所述第二清潔裝置具有至少 一個(gè)第二擦拭元件（24x)。
7. 如權(quán)利要求6所述的下降料道結(jié)構(gòu)（20)，其特征在于，所述第二擦拭元件（24x)設(shè) 置在壁或支承元件（23x)處。
8. 如權(quán)利要求2到3中任一項(xiàng)所述的下降料道結(jié)構(gòu)（30)，其特征在于，所述可移動(dòng)的 支承元件構(gòu)造成所述下降料道（31)的形成所述下降料道（31)的內(nèi)壁（31x)的壁元件。
9. 如權(quán)利要求8所述的下降料道結(jié)構(gòu)（30)，其特征在于，所述下降料道（31)具有多個(gè) 壁元件，所述壁元件分別構(gòu)造成拱形，其中每個(gè)壁元件與另一壁元件在其外側(cè)部分交疊。
10. 如權(quán)利要求1所述的下降料道結(jié)構(gòu)（40)，其特征在于，所述第一清潔裝置具有至少 一個(gè)第一刮刀（42)，所述第一刮刀分配給至少一個(gè)內(nèi)壁（41a)，而所述第二清潔裝置具有 至少一個(gè)第二刮刀（44)以及用以使所述第二刮刀（44)從靜止位置沿與所述第一刮刀（42) 平行的軸線運(yùn)動(dòng)以擦拭所述第一刮刀（42)的驅(qū)動(dòng)裝置（43)。
11. 如權(quán)利要求6所述的下降料道結(jié)構(gòu)（50)，其特征在于，所述第一清潔裝置具有至少 一個(gè)第一刮刀（52)以及用以使所述第一刮刀（52)從靜止位置沿與至少一個(gè)內(nèi)壁（51a)平 行的軸線運(yùn)動(dòng)以擦拭所述內(nèi)壁（51a)的驅(qū)動(dòng)裝置（53);并且所述第二清潔裝置具有至少一 個(gè)第二刮刀（54)以及用以使所述第二刮刀（44)從靜止位置運(yùn)動(dòng)經(jīng)過定位在所述靜止位置 的第一刮刀（52)以擦拭所述第一刮刀（52)的驅(qū)動(dòng)裝置（55)。
12. 如權(quán)利要求6所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述第一清潔裝置具有至少 一個(gè)柔性的擦拭元件￠2)，用以清潔至少一個(gè)內(nèi)壁^lx)。
13. 如權(quán)利要求12所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述擦拭元件為環(huán)形擦拭 元件（62)。
14. 如權(quán)利要求12所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述下降料道結(jié)構(gòu)（60)還 具有第一引導(dǎo)裝置和第二引導(dǎo)裝置， 其中所述第一引導(dǎo)裝置和所述第二引導(dǎo)裝置設(shè)置成保持和引導(dǎo)至少一個(gè)擦拭元件 (62)，以使得允許在所述擦拭元件（62)和所述下降料道（61)的所述至少一個(gè)內(nèi)壁（61x) 之間沿切向相對于所述至少一個(gè)內(nèi)壁（61x)作相對運(yùn)動(dòng)， 其中還設(shè)有設(shè)置成作用于所述下降料道（61)、所述第一引導(dǎo)裝置、所述第二引導(dǎo)裝置 和/或所述至少一個(gè)擦拭元件（62)，以產(chǎn)生相對運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。
15. 如權(quán)利要求14所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述第一引導(dǎo)裝置和/或 所述第二引導(dǎo)裝置具有：多個(gè)引導(dǎo)機(jī)構(gòu)￠8)，以及環(huán)形引導(dǎo)元件￠9)，所述環(huán)形引導(dǎo)元件 圍繞所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)（68)，其中至少一個(gè)柔性的擦拭元件（62)直接地或通過保持裝置和/或 轉(zhuǎn)向裝置（63, 72)固定到環(huán)形引導(dǎo)元件（69)處。
16. 如權(quán)利要求13到15中任一項(xiàng)所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，環(huán)形擦拭元 件（62)借助轉(zhuǎn)向裝置（63, 67)設(shè)置成包圍所述下降料道（61)的具有至少一個(gè)內(nèi)壁（61x) 的壁元件。
17. 如權(quán)利要求16所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述環(huán)形擦拭元件（62)設(shè) 置成在所述下降料道（61)內(nèi)的所述內(nèi)壁（61x)的區(qū)域內(nèi)延伸。
18. 如權(quán)利要求12到15中任一項(xiàng)所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，還設(shè)有設(shè)置 成使至少一個(gè)柔性的擦拭元件￠2)沿擦拭元件￠2)的縱向延伸方向進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng) 裝直。
19. 如權(quán)利要求12到15中任一項(xiàng)所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，設(shè)有兩個(gè)卷 繞裝置（73)，其中所述柔性的擦拭元件（62)與所述卷繞裝置（73)相連，以能夠由所述卷繞 裝置（73)卷起和退繞。
20. 如權(quán)利要求13到15中任一項(xiàng)所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，還設(shè)有設(shè)置 成使所述環(huán)形擦拭元件（62)進(jìn)行循環(huán)運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。
21. 如權(quán)利要求13到15中任一項(xiàng)所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述至少一 個(gè)環(huán)形擦拭元件（62)沿水平方向與所述下降料道（61)的所述至少一個(gè)內(nèi)壁（61χ)相鄰地 延伸。
22. 如權(quán)利要求13到15中任一項(xiàng)所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述至少一 個(gè)環(huán)形擦拭元件（62)沿垂直方向與所述下降料道（61)的所述至少一個(gè)內(nèi)壁（61χ)相鄰地 延伸和/或以所述下降料道（21 ;31 ;41 ;51 ;61)的形狀沿垂直方向相應(yīng)地延伸。
23. 如權(quán)利要求14所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，設(shè)有另外的張緊裝置 (64, 65)，所述張緊裝置設(shè)置成作用于所述第一引導(dǎo)裝置和/或所述第二引導(dǎo)裝置和/或至 少一個(gè)擦拭元件（62)，因而保持所述至少一個(gè)擦拭元件（62)處于應(yīng)力下。
24. 如權(quán)利要求12到15中任一項(xiàng)所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，引導(dǎo)所述擦 拭元件（62)延伸經(jīng)過所述第二清潔裝置或者穿過所述清潔裝置。
25. 如權(quán)利要求24所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述第二清潔裝置實(shí)施成 流體浴、毛刷、擦拭條或者擦拭缸。
26. 如權(quán)利要求24所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述第二清潔裝置構(gòu)造成 設(shè)置在或者能引入到所述至少一個(gè)擦拭元件￠2)的移動(dòng)路徑（74)內(nèi)的障礙物（75)。
27. 如權(quán)利要求26所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，可引入的障礙物設(shè)置在所 述下降料道（61)的具有至少一個(gè)內(nèi)壁（61x)的壁內(nèi)，其中所述可引入的障礙物（75)能在 第一位置和第二位置之間調(diào)節(jié)，在所述第一位置，所述障礙物沿所述下降料道（61)內(nèi)部的 方向從所述內(nèi)壁^lx)突出，在所述第二位置，所述障礙物沿所述下降料道￠1)內(nèi)部的方 向不突出超過所述內(nèi)壁（61x)。
28. 如權(quán)利要求11所述的下降料道結(jié)構(gòu)（10 ;20 ;30 ;40 ;50 ;60)，其特征在于，所述第 一擦拭元件（22x ;32x)和/或所述第二擦拭元件（24x ;32x)和/或所述刮刀（42, 44)構(gòu)造 成刮伊、抹刀或者棒。
29. 如權(quán)利要求12所述的下降料道結(jié)構(gòu)（10 ;20 ;30 ;40 ;50 ;60)，其特征在于，所述第 一擦拭元件（22x ;32x)和/或所述第二擦拭元件（24x ;32x)和/或所述柔性的擦拭元件 (62)構(gòu)造成繩索、構(gòu)造成線材、帶材或鏈條。
30. 如權(quán)利要求1所述的下降料道結(jié)構(gòu)（10 ;20 ;30 ;40 ;50 ;60)，其特征在于，所述下降 料道（21 ;31 ;41 ;51 ;61)在入口和出口的區(qū)域內(nèi)具有不同形狀的橫截面。
31. 如權(quán)利要求1所述的下降料道結(jié)構(gòu)（10 ;20 ;30 ;40 ;50 ;60)，其特征在于，所述第一 清潔裝置具有至少一個(gè)刮刀，所述刮刀設(shè)計(jì)成相對于至少一個(gè)內(nèi)壁運(yùn)動(dòng)，而所述第二清潔 裝置具有柔性的擦拭元件，所述柔性的擦拭元件在所述刮刀的移動(dòng)路徑中經(jīng)由所述至少一 個(gè)內(nèi)壁張緊。
32. 如權(quán)利要求2所述的下降料道結(jié)構(gòu)（20 ;30)，其特征在于，所述支承元件設(shè)置成能 相對于所述下降料道（21 ;31)的所屬的第一內(nèi)壁（21x;31x)平行地移動(dòng)。
33. 如權(quán)利要求15所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述多個(gè)引導(dǎo)機(jī)構(gòu)（68)是 引導(dǎo)滾輪或者引導(dǎo)齒輪。
34. 如權(quán)利要求15所述的下降料道結(jié)構(gòu)（60)，其特征在于，所述環(huán)形引導(dǎo)元件（69)是 環(huán)形引導(dǎo)繩索、環(huán)形引導(dǎo)帶、環(huán)形引導(dǎo)線材或者環(huán)形引導(dǎo)鏈條。
35. 如權(quán)利要求11所述的下降料道結(jié)構(gòu)（10 ;20 ;30 ;40 ;50 ;60)，其特征在于，所述第 一擦拭元件（22x ;32x)和/或所述第二擦拭元件（24x ;32x)和/或所述刮刀（42, 44)構(gòu)造 成圓棒。
36. 如權(quán)利要求12所述的下降料道結(jié)構(gòu)（10 ;20 ;30 ;40 ;50 ;60)，其特征在于，所述第 一擦拭元件（22x ;32x)和/或所述第二擦拭元件（24x ;32x)和/或所述柔性的擦拭元件 (62)構(gòu)造成鋼絲繩。
【文檔編號(hào)】B27N1/02GK203901478SQ201320744523
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2013年11月21日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月22日
【發(fā)明者】D·克羅爾, 哈斯 G·馮, R·施威, J·斯克利巴, M·格哈特 申請人:迪芬巴赫機(jī)械工程有限公司