高爾夫球桿頭的溝槽以及制造高爾夫球桿頭的溝槽的方法
【專利摘要】本文中大體描述了高爾夫球桿頭的溝槽和制造高爾夫球桿頭的溝槽的方法的實施方式。還可能描述和要求了其他實施方式。
【專利說明】高爾夫球桿頭的溝槽以及制造高爾夫球桿頭的溝槽的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開大體涉及高爾夫球設(shè)備，更具體地涉及高爾夫球桿頭的溝槽及制造高爾夫球桿頭的溝槽的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]通常，高爾夫球桿頭可包括具有在趾部端與后跟端延伸的多個平行溝槽的球桿面。具體地，鐵桿型球桿頭中的多個溝槽可清除位于高爾夫球與球桿面之間的水、沙、草、和/或其他碎片。高爾夫球桿面可具有呈各種形狀的溝槽，如方形或盒形溝槽、V形溝槽、或U形溝槽。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0003]圖1示出了根據(jù)一個示例的推桿；
[0004]圖2示出了根據(jù)一個示例的推桿的擊球面的示意圖；
[0005]圖3示出了根據(jù)一個示例的推桿的擊球面的示意圖；
[0006]圖4示出了圖3的擊球面的溝槽的示意性俯視圖；
[0007]圖5示出了圖4的溝槽沿圖3的剖面5-5的水平剖視圖；
[0008]圖6示出了圖3的擊球面的另一溝槽的水平剖視圖；
[0009]圖7示出了圖3的擊球面的另一溝槽的水平剖視圖；
[0010]圖8示出了根據(jù)一個示例的推桿的擊球面的示意圖；
[0011]圖9示出了圖8的擊球面的溝槽的示意性俯視圖；
[0012]圖10示出了圖9的溝槽沿圖8的剖面10-10的水平剖視圖；
[0013]圖11示出了圖8的擊球面的另一溝槽的水平剖視圖；
[0014]圖12示出了圖8的擊球面的另一溝槽的水平剖視圖；
[0015]圖13示出了根據(jù)一個示例的推桿的擊球面的示意圖；
[0016]圖14示出了圖13的擊球面的溝槽的示意性俯視圖；
[0017]圖15示出了圖14的溝槽沿圖13的剖面15_15的水平剖視圖；
[0018]圖16示出了圖13的擊球面的另一溝槽的水平剖視圖；
[0019]圖17示出了圖13的擊球面的另一溝槽的水平剖視圖；
[0020]圖18示出了根據(jù)一個示例的推桿的擊球面的示意圖；
[0021]圖19示出了圖18的擊球面的溝槽的示意性俯視圖；
[0022]圖20示出了圖19的溝槽沿圖18的剖面20-20的水平剖視圖；
[0023]圖21示出了圖18的擊球面的另一溝槽的水平剖視圖；
[0024]圖22示出了圖18的擊球面的另一溝槽的水平剖視圖；
[0025]圖23示出了根據(jù)一個示例的推桿的擊球面的示意圖；
[0026]圖24-圖26示出了圖23的擊球面的溝槽沿圖23的剖面24_24的豎直橫截面的不同示例；[0027]圖27示出了根據(jù)一個示例的推桿的擊球面的示意圖；
[0028]圖28示出了根據(jù)一個示例的推桿的擊球面的示意圖；
[0029]圖29-圖37示出了推桿的溝槽的示例性水平橫截面的示意圖；
[0030]圖38-圖45示出了推桿的擊球面的示例性溝槽的俯視示意圖；
[0031]圖46示出了根據(jù)一個示例的推桿的擊球面的示意圖；
[0032]圖47示出了根據(jù)一個示例的推桿的擊球面的示意圖；
[0033]圖48示出了根據(jù)一個示例的推桿的溝槽的水平剖視圖；
[0034]圖49示出了根據(jù)一個示例的推桿的示意性豎直剖視圖；
[0035]圖50示出了根據(jù)一個示例的推桿的示意性豎直剖視圖；
[0036]圖51示出了根據(jù)另一示例的推桿面；
[0037]圖52示出了根據(jù)另一示例的推桿面；以及
[0038]圖53示出了根據(jù)一個示例的制造高爾夫球桿的方法。
【具體實施方式】
[0039]本文大體上描述了高爾夫球桿頭的溝槽及制造高爾夫球桿頭的溝槽的方法。與本文中描述的方法、裝置、和/或制品相關(guān)的高爾夫設(shè)備可符合或不符合任何具體時候的高爾夫規(guī)則。此外，本文中提供的附圖僅用于說明性的目的，并且一個或多個附圖可能沒有按比例示出。本文中描述的裝置、方法、和制品并不限于此。
[0040]在圖1的示例中，示出了推桿100。雖然本文中描述了用于推桿100的溝槽，但是本文中描述的裝置、方法以及制品可適用于其他類型的高爾夫球桿頭(例如開球桿型球桿頭、球道木桿型球桿頭、混合型球桿頭、鐵桿型球桿頭等)。例如，在于2009年8月5日提交的美國專利申請公開US2010/0035702中詳細(xì)描述了用于鐵桿型球桿頭的溝槽，該美國專利申請公開的全部公開通過引用清楚地并入本文。因此，本文中對推桿做出的任何參考都可包括任何類型的高爾夫球桿。
[0041]推桿100包括具有推桿面110的推桿頭102。推桿面110可以基本是平的。推桿面110包括擊球面112,擊球面112基本與推桿面110處于同一面上或略微地從推桿面110向外突起。擊球面112可與推桿面110具有相同的大小或小于推桿面110 (如圖1所示)。擊球面112可以是位于推桿面110上的通常用于擊打高爾夫球(未示出)的區(qū)域。然而，個人還可利用推桿面110的位于擊球面112之外的部分來擊球。
[0042]擊球面112可以是推桿面110的連續(xù)部分或組成部分，或形成為與推桿面110附接的插入件。這種插入件可與推桿面110由相同或不同的材料構(gòu)成，然后附接至推桿面110。擊球面112可包括一個或多個溝槽(總體被示為溝槽120)，以及一個或多個表面部分170。例如，擊球面112被示出為具有十二個溝槽，大體表示為122、124、126、128、130、132、134、136、138、140、142、以及144。溝槽120可利用一個附圖標(biāo)記如120泛指。然而，當(dāng)具體地描述位于擊球面112上的溝槽之一時，可使用用于具體溝槽的附圖標(biāo)記。
[0043]兩個鄰近的溝槽可由表面部分170分離。位于每個溝槽120與鄰近的溝槽120之間的表面部分170可與位于另一對鄰近的溝槽120之間的表面部分170具有相同或不同的寬度。表面部分170還可限定擊球面112的上表面。通常，溝槽120中的兩個或更多個可彼此平行。例如，溝槽122和溝槽124可彼此平行。然而，溝槽120相對于彼此可以以任何方式定向。例如，任何溝槽120可被斜地、豎直地和/或水平地定向。如圖2的示例所示，溝槽120中的一個或多個可大體是線性的并基本與鄰近的溝槽120平行，并且在推桿面110的趾部端180和后跟端190之間延伸。
[0044]如下文中詳細(xì)描述的，溝槽120的深度、長度、寬度、水平橫截面形狀、和/或豎直橫截面形狀，可線性地、非線性地、以規(guī)則間隔或不規(guī)則的分段式間隔、弓形地和/或根據(jù)一個或多個幾何形狀，從推桿頭102的趾部端至后跟端190變化和/或從推桿頭102的上橫欄182至底部192增大、減小和/或變化。本文中描述的裝置、方法、和制品并不限于此。
[0045]參照圖2，擊球面112示出為具有溝槽122-144。擊球面112可以是推桿面110的組成部分，以與推桿面110共同地制造?？商娲兀瑩羟蛎?12可以是與推桿面110附接的插入件。每個溝槽120可從趾部端180延伸至后跟端190，以限定相應(yīng)的長度193(圖2中僅示出了溝槽144的長度193)。一些或所有溝槽120的長度193可在從上橫欄182至底部192的方向上變化，以使得每個溝槽120都可基本符合擊球面112邊緣的形狀。例如，溝槽的長度可從擊球面112的上橫欄182附近至擊球面112的中心184增大以及從中心184至底部192附近減小。中心184可以是擊球面112的幾何中心?？商娲?，中心184可表示擊球面112的與慣性或重量相關(guān)的中心。然而，中心184通?？捎蓳羟蛎?12的通常擊球的區(qū)域限定。如圖1所示，本溝槽120的長度193可以是相似的。在其他示例(如圖2所示的示例)中，溝槽的長度193可從上橫欄182附近至中心184減小以及從底部192附近至中心184減小。因此，設(shè)置在擊球面112上的任何溝槽長度都落入本公開的范圍內(nèi)
[0046]在圖3所示的另一示例中，擊球面212可包括溝槽220(具體示出為溝槽222-244)。擊球面212可以是推桿面110的組成部分，或與推桿面110附接的分離件。因此，在描述擊球面212時，推桿頭102和推桿100的部分利用與上述附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記表不。
[0047]圖4示出了溝槽232的示意圖，圖5示出了溝槽232的沿圖3的剖面線5_5的水平橫截面。溝槽232示出為分成多個水平橫跨區(qū)域，該多個水平橫跨區(qū)域大體表示為區(qū)域271-區(qū)域275，并且在圖3和圖4中由豎直邊界線可視地限定。水平區(qū)域271-水平區(qū)域275可限定溝槽232的水平橫截面輪廓從趾部端180附近至后跟端190附近和/或從上橫欄182附近至底部192附近的變化。溝槽的水平橫截面輪廓可以指的是溝槽沿溝槽長度293的任何特征，如溝槽某一部分的長度、深度、寬度、橫截面形狀、和/或構(gòu)造材料。在圖3-圖7的示例中，溝槽220包括第一豎直壁250和第二豎直壁252，第一豎直壁250和第二豎直壁252限定溝槽220的長度293。每個溝槽220均具有限定溝槽220的深度的下表面254。根據(jù)溝槽220在區(qū)域271-區(qū)域275中的橫截面輪廓，每個溝槽的深度都可以從第一壁250至第二壁252變化。每個溝槽220還包括第一水平壁256和第二水平壁258，第一水平壁256和第二水平壁258限定溝槽220的豎直邊界。第一水平壁256與第二水平壁258之間的距離限定溝槽220的寬度280。寬度280從第一豎直壁250至第二豎直壁252可以變化，如圖38-圖45的示例所示，其中溝槽可具有長度590、第一寬度594、第二寬度595和/或第三寬度596。然而，在圖3-圖7的示例中，第一水平壁256和第二水平壁258基本平行，以限定基本恒定的寬度280。
[0048]參照圖5，區(qū)域271處的下表面254向下傾斜或彎曲，以在區(qū)域271與區(qū)域272之間的邊界處限定第一深度282。區(qū)域272中的下表面254以從第一深度282向下漸陡的曲線過渡至位于區(qū)域272與區(qū)域273之間邊界處的第二深度284。如果下表面254在區(qū)域273中是平的，則第二深度284基本可限定溝槽232的最大深度。然而，如果下表面254不是平的，則溝槽232的最大深度可限定在區(qū)域273的另一部分中。任何溝槽220可以是關(guān)于縱軸y對稱的。因此，溝槽220的位于y軸的每側(cè)上的形狀可反映溝槽232的位于y軸的另一側(cè)上的形狀。然而，任何溝槽220可以是不對稱的。區(qū)域271和區(qū)域275限定溝槽232的較淺部分，而區(qū)域273限定溝槽232的中心較深部分。任何溝槽220的最深部分可位于溝槽220的中心處。區(qū)域272和區(qū)域274使得下表面254便于從深度282過渡至深度284。
[0049]參照圖3和圖5，每個溝槽220大體的橫截面輪廓從上橫欄182至底部190基本可保持相似。然而，每個溝槽220的橫截面輪廓(包括區(qū)域271-275的深度、寬度、和/或長度)可從上橫欄182至底部192逐漸變化。在圖6和圖7中，分別示出了溝槽238的水平橫截面和溝槽244的水平橫截面。例如，溝槽238的區(qū)域271-275的長度分別小于溝槽232的區(qū)域271-275的長度。相似地，溝槽244的區(qū)域271-275的長度分別小于溝槽238的區(qū)域271-275的長度。在另一示例中，溝槽的238的區(qū)域271-275可分別比溝槽232的區(qū)域271-275具有更小的深度。相似地，溝槽244的區(qū)域271-區(qū)域275可分別比溝槽238的區(qū)域271-區(qū)域275具有更小的深度。
[0050]溝槽222-232的區(qū)域271-275的長度、深度和/或?qū)挾然緩纳蠙M欄182至擊球面212的中心的逐漸增大，和/或溝槽232-244的區(qū)域271-275的尺寸基本從擊球面212的中心至底部192的減小形成中心擊打區(qū)260(如圖3所示)，當(dāng)由位于擊球準(zhǔn)備位置的個人觀察時，該中心擊打區(qū)可與高爾夫球的形狀類似。高爾夫球的近似視覺表示可幫助個人將擊球面212與球?qū)χ薄Ｏ薅喜?20的最深部分的區(qū)域273的長度在擊球面212的中心處可以更大，并且區(qū)域273的長度可朝向上橫欄182和底部192逐漸減小。相似地，過渡區(qū)域272和過渡區(qū)域274在擊球面212的中心處可具有最大長度，并且過渡區(qū)域272的長度和過渡區(qū)域274的長度可朝向上橫欄182和底部192逐漸減小。雖然區(qū)域271-275的長度可根據(jù)溝槽220在擊球面212上的位置而變化，但是每個溝槽220的相似區(qū)域的深度可以相似或不同。例如，溝槽232的最大深度可與溝槽244的最大深度相似?？商娲兀瑴喜?22-244的深度可基于溝槽220相對于擊球面212的位置而變化。仍可替代地，溝槽222-244的深度可以以任何方式從上橫欄182至底部變化。雖然以上示例可能示出了具體數(shù)目的水平區(qū)域，但是本文中描述的裝置、方法、以及制品可包括更多或更少數(shù)目的水平區(qū)域。
[0051]在圖8所示的另一示例中，擊球面312包括溝槽320(具體示出為溝槽322-344)。擊球面312可以是推桿面110的組成部分，或與推桿面110附接的分離件。因此，在描述擊球面312時，推桿頭102和推桿100的部分利用與上述附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記表示。
[0052]圖9示出了溝槽332的示意圖，圖10示出了溝槽332的沿圖8的剖面線10_10的水平橫截面。溝槽332示出為分成多個水平橫跨區(qū)域371-375，并且在圖8和圖9中由豎直邊界線可視地限定。水平區(qū)域371和水平區(qū)域375可限定溝槽332的水平橫截面輪廓從趾部端180附近至后跟端190附近和/或從上橫欄182附近至底部192附近的變化。溝槽的水平橫截面輪廓可以指的是溝槽沿溝槽長度393的任何特征，如溝槽某一部分的長度、深度、寬度、橫截面形狀、和/或構(gòu)造材料。在圖8-圖12的示例中，溝槽320包括第一豎直壁350和第二豎直壁352，該第一豎直壁350和第二豎直壁352限定溝槽320的長度393。每個溝槽320具有限定溝槽320的深度的下表面354。根據(jù)溝槽320在區(qū)域371-區(qū)域375中的橫截面輪廓，每個溝槽的深度都可以從第一壁350至第二壁352變化。每個溝槽320還包括第一水平壁356和第二水平壁358，第一水平壁356和第二水平壁358限定溝槽320的豎直邊界。第一水平壁356與第二水平壁358之間的距離限定溝槽320的寬度380。如圖38-圖45中的示例所示，寬度380可從第一豎直壁350至第二豎直壁352變化。然而，在圖8-圖12的示例中，第一水平壁256和第二水平壁258基本平行，以限定基本恒定的寬度 380。
[0053]參照圖10，區(qū)域371處的下表面354可基本是平的和/或略微傾斜，以限定位于區(qū)域371與區(qū)域372之間的邊界處的第一深度382。區(qū)域372中的下表面354以向下的臺階從第一深度382過渡至位于區(qū)域372與區(qū)域373之間邊界處的第二深度384。區(qū)域372中的下表面354可基本是平的和/或略微傾斜，以使得溝槽320在區(qū)域372中具有基本一致的深度384。區(qū)域372中的下表面354以向下的臺階從第二深度384過渡至第三深度386。區(qū)域373中的下表面354可基本是平的和/或略微傾斜，以使得溝槽320在區(qū)域373中具有基本一致的深度386。任何溝槽320可以關(guān)于縱軸I是對稱的。因此，溝槽320的位于y軸的每側(cè)上的形狀可反映溝槽320的位于y軸的另一側(cè)上的形狀。然而，任何溝槽320可以是不對稱的。深度386代表溝槽320的最大深度。
[0054]參照圖10-圖12，溝槽320大體的橫截面輪廓從上橫欄182至底部190基本可保持相似。然而，每個溝槽320的橫截面輪廓(包括區(qū)域371-375的深度、寬度、和/或長度)可從上橫欄182至底部192逐漸變化。在圖11和圖12中，分別示出了溝槽338的水平橫截面和溝槽344的水平橫截面。例如，溝槽338的區(qū)域371-375的長度分別小于溝槽332的區(qū)域371-375的長度。相似地，溝槽344的區(qū)域371-375的長度分別小于溝槽338的區(qū)域371-375的長度。在另一示例中，溝槽的338的區(qū)域371-區(qū)域375可分別比溝槽332的區(qū)域371-區(qū)域375具有更小的深度。相似地，溝槽344的區(qū)域371-275的深度可分別小于溝槽338的區(qū)域371-375的深度。
[0055]溝槽322-溝槽332的區(qū)域371-375的長度、深度和/或?qū)挾葟纳蠙M欄182至擊球面312的中心的逐漸增大，和/或溝槽332-溝槽344的區(qū)域371-375的尺寸從擊球面312的中心至底部192的減小形成中心擊打區(qū)360 (如圖8所示)，當(dāng)由位于擊球準(zhǔn)備位置的個人觀察時，該中心擊打區(qū)可離散地與高爾夫球的形狀類似。高爾夫球的近似視覺表示可幫助個人將擊球面312與球?qū)χ?。限定溝?60的最深部分的區(qū)域373的長度在擊球面312的中心處可以更大，并且區(qū)域373的長度可朝向上橫欄182和底部192逐漸減小。相似地，過渡區(qū)域372和過渡區(qū)域374在擊球面312的中心處可具有最大長度，并且過渡區(qū)域372的長度和過渡區(qū)域374的長度可朝向上橫欄182和底部192逐漸減小。雖然區(qū)域371-375的長度可根據(jù)溝槽320在擊球面312上的位置而變化，但是每個溝槽320的相似區(qū)域的深度可以相似或不同。例如，溝槽344的最大深度可與溝槽332的最大深度相似?？商娲兀瑴喜?22-344的深度可基于溝槽320在擊球面312上的位置而變化。仍可替代地，溝槽322-344的深度可以以任何方式從上橫欄182至底部變化。雖然以上示例可能示出了具體數(shù)目的水平區(qū)域，但是本文中描述的裝置、方法、以及制品可包括更多或更少數(shù)目的水平區(qū)域。
[0056]在圖13所示的另一示例中，擊球面412包括溝槽420(具體示出為溝槽422-444)。擊球面412可以是推桿面110的組成部分，或與推桿面110附接的分離件。因此，在描述擊球面412時，推桿頭102和推桿100的部分利用與上述附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記表示。[0057]圖14示出了溝槽432的示意圖，圖15示出了溝槽432的沿圖13的剖面線15_15的水平橫截面。溝槽432示出為分成水平橫跨區(qū)域471和水平橫跨區(qū)域472，水平橫跨區(qū)域471和水平橫跨區(qū)域472在圖13和圖14中由溝槽432的邊界線和位于溝槽432中心處的豎直線限定。水平區(qū)域471和水平區(qū)域472可限定溝槽432的水平橫截面輪廓從趾部端180附近至后跟端190附近和/或從上橫欄182附近至底部192附近的變化。溝槽的水平橫截面輪廓指的是溝槽沿溝槽長度493的任何特征，如溝槽某一部分的長度、深度、寬度、橫截面形狀、和/或構(gòu)造材料。在圖13-圖17的示例中，溝槽420包括第一豎直壁450和第二豎直壁452，第一豎直壁450和第二豎直壁452限定溝槽420的長度493。每個溝槽420具有限定溝槽420的深度的下表面454。根據(jù)溝槽420在區(qū)域471和區(qū)域475中的橫截面輪廓，每個溝槽的深度都可以從第一壁450至第二壁452變化。每個溝槽420還包括第一水平壁456和第二水平壁458，第一水平壁456和第二水平壁458限定溝槽420的豎直邊界。第一水平壁456與第二水平壁458之間的距離限定溝槽420的寬度480。如圖38-圖45中的示例所示，寬度480可從第一豎直壁450至第二豎直壁452變化。然而，在圖13-圖17的示例中，第一水平壁456和第二水平壁458基本平行，以限定基本恒定的寬度480。
[0058]參照圖15，區(qū)域471處的下表面454具有線性輪廓并且向下傾斜。溝槽450以關(guān)于中心縱軸Y是對稱的。因此，如區(qū)域471處的下表面454那樣，區(qū)域472處的下表面454具有相似的線性輪廓并且相似地向下傾斜。因此，溝槽420的深度從第一壁452和第二壁454處的深度482逐漸增大至溝槽420中心處的深度484。深度484代表溝槽420的最大深度，該最大深度可位于溝槽420的中心處。
[0059]參照圖15-圖17，溝槽420大體的橫截面輪廓從上橫欄182至底部190基本可保持相似。然而，每個溝槽420的橫截面輪廓(包括區(qū)域471和472的深度、寬度、和/或長度)可從上橫欄182至底部192逐漸變化。例如，溝槽438的區(qū)域471和472的長度分別小于溝槽332的區(qū)域471和472的長度。相似地，溝槽444的區(qū)域471和472的長度分別小于溝槽438的區(qū)域471和472的長度。在另一示例中，溝槽438的區(qū)域471和區(qū)域472可分別比溝槽432的區(qū)域471和區(qū)域472具有更小的深度。相似地，溝槽444的區(qū)域471和472的深度可分別小于溝槽438的區(qū)域471和472的深度。
[0060]溝槽422-432的區(qū)域471和472的寬度、深度、和/或長度從上橫欄182至擊球面412的中心的逐漸增大，和/或溝槽432-444的區(qū)域471和472的尺寸從擊球面412的中心至底部192的減小形成中心擊打區(qū)460 (如圖13所示)。區(qū)域471和區(qū)域472在擊球面412的中心處可具有最大長度，并且區(qū)域471的長度和區(qū)域472的長度可朝向上橫欄182和底部192逐漸減小。雖然區(qū)域471和472的長度可根據(jù)溝槽420在擊球面412上的位置而變化，但是每個溝槽420的相似區(qū)域的深度可以相似或不同。例如，溝槽444的最大深度可與溝槽432的最大深度相似。可替代地，溝槽422-444的深度可基于溝槽420在擊球面412上的位置而變化。仍可替代地，溝槽422-444的深度可以以任何方式從上橫欄182至底部變化。雖然以上示例可能示出了具體數(shù)目的水平區(qū)域，但是本文中描述的裝置、方法、以及制品可包括更多或更少數(shù)目的水平區(qū)域。
[0061]在圖18所示的另一示例中,擊球面512包括溝槽520(具體示出為溝槽522-544)。擊球面512可以是推桿面110的組成部分，或與推桿面110附接的分離件。因此，在描述擊球面512時，推桿頭102和推桿100的部分利用與上述附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記表示。[0062]圖19示出了溝槽532的示意圖，圖20示出了溝槽532的沿圖18的剖面線20-20的水平橫截面。溝槽532示出為分成水平橫跨區(qū)域571和水平橫跨區(qū)域572，水平橫跨區(qū)域571和水平橫跨區(qū)域572在圖18和圖19中由溝槽532的邊界線和位于溝槽532中心處的豎直線限定。水平區(qū)域571和水平區(qū)域572可限定溝槽532的水平橫截面輪廓從趾部端180附近至后跟端190附近和/或從上橫欄182附近至底部192附近的變化。溝槽的水平橫截面輪廓指的是溝槽沿溝槽長度593的任何特征，如溝槽某一部分的長度、深度、寬度、橫截面形狀、和/或構(gòu)造材料。在圖18-圖22的示例中，溝槽520包括第一豎直壁550和第二豎直壁552，第一豎直壁550和第二豎直壁552限定溝槽520的長度593。每個溝槽520具有限定溝槽520的深度的下表面554。根據(jù)溝槽520在區(qū)域571和區(qū)域572中的橫截面輪廓，每個溝槽的深度都可以從第一壁550至第二壁552變化。每個溝槽520還包括第一水平壁556和第二水平壁558，第一水平壁556和第二水平壁558限定溝槽520的豎直邊界。第一水平壁556與第二水平壁558之間的距離限定溝槽520的寬度580。如圖38-圖45中的示例所示，寬度580可從第一豎直壁550至第二豎直壁552變化。然而，在圖18-圖22的示例中，第一水平壁556和第二水平壁558基本平行，以限定基本恒定的寬度580。
[0063]參照圖20，區(qū)域571處的下表面554具有線性輪廓并且向下傾斜。區(qū)域572中的下表面554也具有線性輪廓并且向下傾斜。然而，因為第二壁552比第一壁550長，所以區(qū)域572中的下表面554比區(qū)域571中的下表面554具有更小的斜度。因此，本示例的溝槽550關(guān)于中心豎直軸y是非對稱的。因此，溝槽250具有由第一壁550限定的第一深度582、由第二壁552限定的第二深度584、以及中心深度586，其中中心深度586根據(jù)區(qū)域571和區(qū)域572的向下傾斜的下表面554分別從深度582和深度584逐漸到達(dá)。中心深度586可以是溝槽520的最深部分的深度。
[0064]參照圖20-圖22，溝槽520大體的橫截面輪廓從上橫欄182至底部190基本可保持相似。然而，每個溝槽520的橫截面輪廓(包括區(qū)域571和572的深度、寬度、和/或長度)可從上橫欄182至底部192逐漸變化。在圖21和圖22中，分別示出了溝槽538的水平橫截面和溝槽544的水平橫截面。例如，溝槽538的區(qū)域571和572的長度分別小于溝槽532的區(qū)域571和572的長度。相似地，溝槽544的區(qū)域571和572的長度分別小于溝槽538的區(qū)域571和572的長度。在另一示例中，溝槽538的區(qū)域571和區(qū)域572可分別比溝槽532的區(qū)域571和區(qū)域572具有更小的深度。相似地，溝槽544的區(qū)域571和572的深度可分別小于溝槽538的區(qū)域571和572的深度。
[0065]溝槽522-532的區(qū)域571和572的寬度、深度、和/或長度從上橫欄182至擊球面512的中心的逐漸增大，和/或溝槽532-544的區(qū)域571和572的尺寸從擊球面512的中心至底部192的減小形成中心擊打區(qū)560 (如圖18所示)。區(qū)域571和區(qū)域572在擊球面512的中心處可具有最大長度，并且區(qū)域571的長度和區(qū)域572的長度可朝向上橫欄182和底部192逐漸減小。雖然區(qū)域571和572的長度可根據(jù)溝槽520在擊球面512上的位置而變化，但是每個溝槽520的相似區(qū)域的深度可以相似或不同。例如，溝槽544的最大深度可與溝槽532的最大深度相似。可替代地，溝槽522-544的深度可基于溝槽520在擊球面512上的位置而變化。仍可替代地，溝槽522-544的深度可以以任何方式從上橫欄182至底部變化。雖然以上示例可能示出了具體數(shù)目的水平區(qū)域，但是本文中描述的裝置、方法、以及制品可包括更多或更少數(shù)目的水平區(qū)域。[0066]上述的溝槽220、溝槽320、溝槽420以及溝槽520示出了用于推桿100的溝槽的水平橫截面輪廓的四個示例。在圖29-圖37中示出了水平橫截面輪廓的其他示例，其中每個溝槽可具有長度590、第一深度591、第二深度592和/或第三深度593。溝槽可由任何數(shù)目的水平區(qū)域限定，其中任一個或多個區(qū)域可具有相似或不相似的特征。例如，關(guān)于I軸可以對稱或不對稱的溝槽可具有這樣的下表面，該下表面具有從趾部端180至后跟端190限定相似或各種深度的線性形狀和非線性形狀的混合式組合。這種溝槽可利用大量水平區(qū)域描述，其中每個區(qū)域限定上述混合形狀中的一個或多個。因此，上述水平范圍的數(shù)目、布置、尺寸及其他特征決不限于根據(jù)本公開的溝槽橫截面輪廓。
[0067]在上述示例中，位于每個相應(yīng)擊球面上的溝槽具有相似的形狀。然而，位于擊球面上的溝槽可具有不同的形狀。例如,擊球面可包括溝槽220和溝槽320的組合。在另一示例中，擊球面可包括溝槽420和溝槽520的組合。因此，在擊球面上可使用溝槽橫截面輪廓的任何組合，以將具體的擊球特征提供至推桿。
[0068]溝槽的水平橫截面輪廓可從上橫欄182至擊球面的中心逐漸地和按比例地變化，并且可從擊球面的中心至底部192逐漸變化。上述逐漸變化可限定球擊打區(qū)，其中該球擊打區(qū)在擊球面的中心處比在上橫欄182附近和底部192附近更大。此外，溝槽的水平橫截面輪廓的上述逐漸變化提供位于擊球面的中心處和位于擊球面的中心處周圍的溝槽，其中位于擊球面的中心處和位于擊球面的中心處周圍的溝槽比位于上橫欄182附近和底部192附近的溝槽具有更長的深溝槽部分。然而，溝槽的上述逐漸變化僅是示例性的，而其他逐漸變化方案可用于將具體的擊球特征提供至擊球面的各個部分。
[0069]參照圖23，根據(jù)另一示例的擊球面612示出為具有溝槽620。圖24-圖26示出了溝槽620從圖23的剖面線24-24觀察時的豎直橫截面形狀。在圖24中，溝槽620的豎直橫截面形狀呈盒形、矩形或方形。在圖25中，溝槽620的豎直橫截面形狀呈V形。在圖26中，溝槽620的豎直橫截面形狀呈U形。圖24-圖26的溝槽豎直橫截面形狀適用于根據(jù)本公開的任何溝槽。例如，根據(jù)圖24的溝槽620，溝槽220的豎直橫截面形狀可呈矩形或方形。在另一示例中，根據(jù)圖25的溝槽620，溝槽620的豎直橫截面形狀可呈V形。此外，溝槽的豎直橫截面形狀從趾部端180至后跟端190可以變化。例如，參照圖4和圖5，溝槽220在區(qū)域271和區(qū)域275中可具有方形或矩形的豎直橫截面形狀，在區(qū)域271和區(qū)域274中可具有U形的豎直橫截面形狀，并且在區(qū)域273中可具有V形的豎直橫截面形狀。另外，溝槽的豎直橫截面形狀還可以從上橫欄182至后跟端190變化。例如，位于上橫欄182附近和底部192附近的溝槽可具有方形的豎直橫截面形狀，而位于球桿面的中心處的溝槽可具有U形的豎直橫截面形狀。
[0070]上述示例中的推桿的擊球面示出為具有從上橫欄182至底部192的溝槽。然而，擊球面可具有更多或更少的溝槽，或具有沒有溝槽的部分。例如，擊球面在擊球面的中心部分處可具有多個溝槽，而在位于上橫欄182或底部192附近的部分沒有溝槽。
[0071]溝槽并不限于在擊球面上水平地延伸。擊球面可具有深度按上文描述那樣變化的豎直溝槽、或具有變化的水平橫截面輪廓和/或豎直橫截面輪廓的豎直溝槽和水平溝槽的組合。溝槽的定向可使得矩陣式的擊球面提供在推桿上。
[0072]參照圖27，具有溝槽720的擊球面712可水平地分成三個部分，即趾部部分780、中心部分以及后跟部分790。擊球面712可與上述的擊球面212和擊球面312相似。因此，溝槽720分別類似于上述的溝槽220和溝槽320而具有區(qū)域271-275以及區(qū)域371-375。上述的三個部分將擊球面712水平地分開，并且從上橫欄182豎直地延伸至底部192。趾部部分780位于趾部端180附近，后跟部分790位于后跟端190附近，中心部分785位于趾部部分780與后跟部分790之間。根據(jù)各個示例，溝槽720在趾部部分780和后跟部分790處的深度可不大于溝槽720在中心部分785處的深度。在一個示例中，溝槽720的最小深度可約為0.003英寸，其中溝槽720的最小深度可與趾部端180最接近或與后跟端190最接近。在中心部分785處或附近，溝槽720的深度可如上文所述那樣增大至約0.017英寸的深度?？勺兩疃瓤砂ㄟ@樣的部分，該部分具有至少0.020英寸但小于0.022英寸的深度?？勺儗挾瓤砂ㄟ@樣的部分，該部分具有至少0.035英寸但小于0.037英寸的寬度。
[0073]參照圖28，擊球面712可豎直地分成三個部分，即上橫欄部分782、中間部分786以及底部部分792。這些部分將擊球面712豎直地分開并且從趾部端180水平地延伸至后跟端190。上橫欄部分782位于上橫欄182附近，底部部分792位于底部192附近，中間部分786位于上橫欄部分782與底部部分792之間。溝槽720的最深部分的長度從上橫欄部分782至中間部分786、以及從中間部分786至底部部分792可以變化。例如，參照上述的示例，溝槽的最深部分的長度可指的是約中心地位于上橫欄部分782與底部部分792之間的溝槽720。如圖27和圖28所示，溝槽的長度710在中間部分786處可以最大，并且可以朝向上橫欄部分782和朝向底部部分792逐漸減小。
[0074]圖29-圖37示出了根據(jù)本公開的不同溝槽水平橫截面輪廓的示例。在上述示例中，溝槽220的寬度、溝槽320的寬度、溝槽420的寬度以及溝槽520的寬度示出為具有矩形輪廓。然而，如圖38-圖45的示例所示，根據(jù)本公開的溝槽可具有不同的寬度輪廓。因此，根據(jù)本公開的溝槽可具有任何水平橫截面輪廓、豎直橫截面輪廓、寬度輪廓和/或深度輪廓。
[0075]溝槽的橫截面輪廓可影響球速、球控制和/或球旋轉(zhuǎn)，其中溝槽的橫截面輪廓包括溝槽的橫截面形狀、寬度、深度、和/或長度的變化。所公開的可變深度溝槽可相對于塑料推桿面插入件將在由推桿面擊打之后的球速的一致性提高約50%，并且相對于無溝槽的鋁推桿面插入件可提高約40%。利用具有根據(jù)本公開的溝槽的推桿擊球:(I)可導(dǎo)致較低的球速，這樣可導(dǎo)致減小的球滾動距離；(2)可導(dǎo)致后跟擊球和趾部擊球相比于中心擊球具有減小的球速，并且還可導(dǎo)致較短的球滾動距離；(3)允許相對較低和較高的差點球手以推桿面上的不同位置擊球(較高的差點球手傾向于在擊球面上擊打較低位置，而較低的差點球手傾向于在擊球面上擊打較高位置)。而且，相對較高的差點球手可具有更寬的擊打位置范圍，而相對較低的差點球手可具有更密集的擊打位置范圍；和/或(4)在推桿面的中心處具有溝槽的推桿面對于中心擊球可導(dǎo)致減小的球速/球滾動距離,這樣對于中心擊球/后跟擊球/趾部擊球可導(dǎo)致更一致的球速/球滾動距離。
[0076]參照圖46，示出了具有可變橫截面輪廓的溝槽的推桿面810的另一示例。推桿面810示出為具有十四個溝槽，該十四個溝槽分組為位于趾部端180附近的溝槽822-828、位于推桿面810的中心附近的溝槽830-840、以及位于后跟端190附近的溝槽842-848。在該示例中，更顯著的溝槽位于推桿面810的中心處，而較不顯著的溝槽位于中心的邊緣處。更顯著的溝槽可指的是相比于較不顯著的溝槽具有更大的深度和/或?qū)挾鹊臏喜邸Ｈ鐖D46所示，溝槽832-838可比推桿面810上的其他溝槽更顯著。此外，推桿面810的部分可沒有溝槽。這些部分用附圖標(biāo)記850來表示。
[0077]參照圖47，示出了具有可變橫截面輪廓的溝槽的推桿面910的另一示例。推桿面910示出為具有十個溝槽922-940。每個溝槽的長度從上橫欄182至底部190逐漸增大。溝槽922-940中的每個或溝槽922-940中的組可具有不同的豎直橫截面形狀。例如，溝槽922-930示出為具有盒形豎直橫截面，而溝槽932-940示出為具有V形豎直橫截面。
[0078]參照圖48，示出了根據(jù)另一實施方式的溝槽922的水平橫截面。溝槽922的下表面954示出為從溝槽的邊沿950和邊沿952逐漸降低至溝槽922的最大深度951。根據(jù)本公開的任何溝槽都可具有與溝槽922的水平橫截面形狀相同的水平橫截面形狀。根據(jù)本公開的任何溝槽都可具有相同深度951。然而，當(dāng)溝槽的長度減小時，深度951可按比例地減小。
[0079]在圖49所示的另一示例中，擊球面1012可包括溝槽1220(具體示出為溝槽1222-1256)。擊球面1012可用于推桿100。因此，推桿頭102和推桿100的部分利用與上文中出現(xiàn)的附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記表示。根據(jù)本公開，溝槽可具有任何橫截面形狀、長度以及覽度。
[0080]參照圖49，示出了具有根據(jù)另一示例的溝槽1220的擊球面1012的側(cè)視剖視圖。擊球面1012相對于溝槽1220可分成兩個部分。擊球面1012可包括上橫欄部分1282和底部部分1286。上橫欄部分1282和底部部分1286可將擊球面1012豎直地分開并且從趾部端180水平地延伸至后跟端190。上橫欄部分1282基本可從擊球面1012的中心部分(由中心線1284表示)延伸至上橫欄182附近，并且包括溝槽1222。底部部分1286基本可從底部192附近延伸至中心部分1284并且包括溝槽1224。底部部分1286的溝槽1224可比上橫欄部分1282的溝槽1222在沿每個溝槽1224的一個或多個位置處具有更大的深度。通過在上橫欄部分1282處具有更淺的溝槽1222，高爾夫球在由推桿擊打后向前滾動的速度可增大，以提供更一致且更平滑的球滾動。可替代地，溝槽1220的深度可以以一個或多個溝槽臺階從中心部分1284至上橫欄182逐漸減小(未示出)。在另一示例中，溝槽對的深度可從中心部分1284至上橫欄182逐漸減小(未示出)。因此，對于每個溝槽、對于溝槽對或?qū)τ诟鞣N溝槽分組，可從底部192至上橫欄182減小溝槽深度。
[0081]參照圖50，底部部分1286的溝槽1224可比上橫欄部分1282的溝槽1222在沿每個溝槽1224的一個或多個位置處具有較小深度?？商娲?，溝槽1220的深度可以以一個或多個溝槽臺階從中心部分1284和/或底部192至上橫欄182逐漸增大(未示出)。在另一示例中，溝槽對的深度可從中心部分1284和/或底部192至上橫欄182逐漸增大(未示出)。因此，對于每個溝槽、對于溝槽對或?qū)τ跍喜鄣母鞣N分組，可從中央部分1284和/或底部192至上橫欄182增大溝槽深度。
[0082]圖51和圖52示出了根據(jù)本公開的其他示例。參照圖51，推桿頭1300包括擊球面1312，擊球面1312具有多個水平溝槽1320和多個豎直溝槽1322。溝槽1320和溝槽1322中的每個相比于另一溝槽可具有不同的配置，如從趾部端1380至后跟端1390附近和/或從上橫欄1382至底部1392可變的橫截面輪廓、深度輪廓、寬度輪廓、長度輪廓和/或其他溝槽特性。例如，水平溝槽1320的深度可以以一個或多個溝槽臺階從上橫欄1382至底部1386逐漸增大。本文中描述的裝置、方法、和制品并不限于此。
[0083]參照圖52，推桿頭1400包括擊球面1412，擊球面1412具有多個第一斜溝槽1420和多個第二斜溝槽1422。第一斜溝槽1420可基本彼此平行。相似地，第二斜溝槽1422可基本彼此平行。如圖52所示，第一斜溝槽1420和第二斜溝槽1422可彼此相交。例如，第一斜溝槽1420可與第二斜溝槽1422以30°、45°、60°或90°的角相交。溝槽1420和溝槽1422中的每個相比于另一溝槽可具有不同的配置，如從趾部端1480至后跟端1490附近和/或從上橫欄1482至底部1492可變的橫截面輪廓、深度輪廓、寬度輪廓、長度輪廓和/或其他溝槽特性。例如，第一斜溝槽1420的深度可以以一個或多個溝槽臺階從上橫欄1482至底部I486逐漸增大。本文中描述的裝置、方法、和制品并不限于此。
[0084]參照圖52，示出了根據(jù)一個示例的制造高爾夫球桿頭的過程2000。過程2000包括形成由趾部端、后跟端、上橫欄以及底部限定的高爾夫球桿面(框2002)。高爾夫球桿面可與高爾夫球桿頭一起形成，以使得高爾夫球桿頭和高爾夫球桿面為一件式連續(xù)部分。可替代地，高爾夫球桿頭和高爾夫球桿面可單獨地形成。然后高爾夫球桿面可通過使用粘合齊U、膠帶、焊接、錫焊、緊固件和/或其他合適的方法和設(shè)備附接至高爾夫球桿面。高爾夫球桿頭和/或高爾夫球桿面可利用任何材料制造。例如，高爾夫球桿頭和/或高爾夫球桿面可由鈦、鈦合金、其他基于鈦的材料、鋼、招、招合金、其他金屬、金屬合金、塑料、木材、復(fù)合材料、或其他合適類型的材料制成。高爾夫球桿頭和/或高爾夫球桿面可使用各種過程如沖壓(即，使用壓床或沖壓機(jī)按壓、沖裁、壓花、彎曲、折邊、或壓印、鑄造)、注射模制、鍛造、加工或其組合、用于制造金屬、塑料和/或復(fù)合零件的其他過程、和/或其他合適的過程來形成。在一個示例中，當(dāng)制造推桿頭時，擊球面和/或推桿面的材料可被確定，以將某些擊球特性和球滾動特性提供至推桿面。在另一示例中，當(dāng)擊球面212與推桿面110分離并且插設(shè)且附接至位于推桿面110上的相應(yīng)形狀的下陷中時，擊打面212可由比推桿面110的材料更輕的材料構(gòu)成，以基本減小推桿的總重量。
[0085]根據(jù)過程2000，多個溝槽在球桿面和/或球桿頭上形成在上橫欄與底部之間，以使得每個溝槽在趾部端與后跟端之間延伸，并且多個溝槽的深度于在上橫欄與底部之間延伸的方向上以及于在后跟端與趾部端之間延伸的方向上變化(框2004)。溝槽可使用各種處理如鑄造、鍛造、加工、旋磨、和/或其他合適過程來形成。溝槽的豎直橫截面形狀可取決于制造溝槽的方法。例如，當(dāng)加工溝槽時鉆頭的類型可確定溝槽的豎直橫截面形狀。溝槽的豎直橫截面形狀可以是對稱的，如上述的示例，或者可以是不對稱的(未示出)。在一個示例中，溝槽的寬度可為0.032英寸，這可以是鉆頭的寬度。因此，當(dāng)加工溝槽時，鉆頭的形狀和尺寸可確定溝槽的形狀和尺寸。
[0086]溝槽可通過旋銑擊球面、或?qū)喜蹧_壓或鍛造至擊球面中來制造。溝槽還可直接制造在推桿頭上，以直接在推桿頭上生成如上所述的擊球面。溝槽可通過在推桿頭上壓制溝槽來制造。例如，壓力機(jī)可使推桿頭上的材料變形和/或轉(zhuǎn)移，以生成溝槽。溝槽可通過銑削過程制造，在銑削過程中銑具的旋轉(zhuǎn)軸線垂直于推桿面。銑具的旋轉(zhuǎn)軸線可定向成與推桿面成角而不是垂直于推桿面。溝槽可通過將被完全地穿透以形成通槽的一種材料覆蓋至基座或固體材料上來制造。溝槽可通過激光蝕刻和/或熱蝕刻或腐蝕推桿面材料來制造。溝槽可通過使用光掩?；瘜W(xué)地腐蝕推桿面材料來制造。溝槽可通過使用化學(xué)掩模如蠟或石化物質(zhì)電腐蝕/化學(xué)腐蝕推桿面材料來制造。溝槽可通過將空氣或水作為研磨材料(如沙)的運載媒介來研磨面材料而被制造。上述方法的任一個或組合都可用于在推桿頭上制造一個或多個溝槽。此外，用于在任何材料中生成下陷的其他方法可用于制造溝槽。[0087]因為高爾夫的規(guī)則時常可能變化(例如，由高爾夫標(biāo)準(zhǔn)組織和/或管理機(jī)構(gòu)除去或修改舊規(guī)則或采用新規(guī)則)，與本文中描述的裝置、方法、和/或制品相關(guān)的高爾夫設(shè)備在任何具體時候可符合高爾夫規(guī)則或不符合高爾夫規(guī)則。因此，與本文中描述的裝置、方法、以及制品相關(guān)的高爾夫設(shè)備可作為符合規(guī)則的高爾夫設(shè)備或不符合規(guī)則的高爾夫設(shè)備而登廣告、許諾銷售、和/或銷售。本文中描述的方法、裝置、和/或制品并不限于此。
[0088]雖然上文中描述了動作的具體次序，但是還可以其他時間順序執(zhí)行這些動作。例如，可順序、并行或同時執(zhí)行上文中描述的兩個或更多動作?？商娲?，可以相反次序執(zhí)行兩個或更多動作。此外，也可不執(zhí)行上文中描述的一個或多個動作。本文中描述的裝置、方法、和制品并不限于此。
[0089]雖然已描述了本發(fā)明的各個方面，但應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明還能夠進(jìn)行另外的修改。本申請旨在覆蓋本發(fā)明的任何變化、使用或適應(yīng)，其中本發(fā)明的適應(yīng)遵循本發(fā)明的原理并包括落入本發(fā)明所述【技術(shù)領(lǐng)域】內(nèi)公知實踐和慣常實踐中的本發(fā)明的偏離。
【權(quán)利要求】
1.高爾夫球桿頭，包括: 由趾部端、后跟端、上橫欄以及底部限定的球桿面； 多個溝槽，所述多個溝槽設(shè)置在所述球桿面上，位于所述上橫欄與所述底部之間，每個溝槽均在所述趾部端與所述后跟端之間延伸；以及 其中所述多個溝槽的深度于在所述上橫欄與所述底部之間延伸的方向上和在所述后跟端與所述趾部端之間延伸的方向上變化。
2.如權(quán)利要求1所述的高爾夫球桿頭，其中所述多個溝槽的深度在從所述底部至所述上橫欄的方向上增大。
3.如權(quán)利要求1所述的高爾夫球桿頭，其中所述多個溝槽的深度在從所述上橫欄至所述底部的方向上增大。
4.如權(quán)利要求1所述的高爾夫球桿頭，其中位于所述上橫欄與所述球桿面上的位置之間的多個溝槽的深度在從所述上橫欄至所述球桿面上的所述位置的方向上增大，并且位于所述底部與所述球桿面上的所述位置之間的多個溝槽的深度在從所述底部至所述球桿面上的所述位置的方向上增大。
5.如權(quán)利要求1所述的高爾夫球桿頭，其中至少一個溝槽的最深部分由該溝槽的基本平的下表面部分限定。
6.如權(quán)利要求1所述的高爾夫球桿頭，其中所述多個溝槽的沿從所述上橫欄延伸至所述底部的剖面的橫截面配置、或所述多個溝槽的沿從所述后跟端延伸至所述趾部端的剖面的橫截面配置中至少之一，在所述上橫欄與所述底部之間變化。
7.如權(quán)利要求1所述的高爾夫球桿頭，其中位于所述球桿面的基本中心部分與所述底部之間的溝槽比位于所述中心部分與所述上橫欄之間的溝槽具有更大的深度。
8.如權(quán)利要求1所述的高爾夫球桿頭，其中位于所述球桿面的基本中心部分與所述上橫欄之間的溝槽比位于所述中心部分與所述底部之間的溝槽具有更大的深度。
9.如權(quán)利要求1所述的高爾夫球桿頭，還包括與所述球桿面附接的分離的面部分，其中所述多個溝槽位于所述面部分上。
10.高爾夫球桿頭，包括: 由趾部端、后跟端、上橫欄以及底部限定的球桿面； 多個溝槽，設(shè)置在所述球桿面上，每個溝槽均具有后跟部分、趾部部分、以及中心部分，其中所述后跟部分與所述后跟端鄰近并朝向所述趾部端延伸，所述趾部部分與所述趾部端鄰近并朝向所述后跟端延伸，所述中心部分在所述后跟部分與所述趾部部分之間延伸并包括所述溝槽的最深部分，并且位于所述中心部分與所述后跟部分之間的每個溝槽的深度變化大于該溝槽沿所述中心部分的深度變化，位于所述中心部分與所述趾部部分之間的每個溝槽的深度變化大于該溝槽沿所述中心部分的深度變化；以及 其中所述多個溝槽的所述中心部分的長度或深度中至少之一在所述上橫欄與所述底部之間變化。
11.如權(quán)利要求10所述的高爾夫球桿頭，其中所述中心部分的長度或深度中至少之一在從所述底部至所述上橫欄的方向上增大。
12.如權(quán)利要求10所述的高爾夫球桿頭，其中所述中心部分的長度或深度中至少之一在從所述上橫欄至所述底部的方向上增大。
13.如權(quán)利要求10所述的高爾夫球桿頭，其中位于所述上橫欄與所述球桿面上的位置之間的多個中心部分的長度或深度中至少之一在從所述上橫欄至所述球桿面上的所述位置的方向上增大，并且位于所述底部與所述球桿面上的所述位置之間的多個中心部分的長度或深度中至少之一在從所述底部至所述球桿面上的所述位置的方向上增大。
14.如權(quán)利要求10所述的高爾夫球桿頭，其中所述多個溝槽的沿從所述上橫欄延伸至所述底部的剖面的橫截面形狀、或所述多個溝槽的沿從所述后跟端延伸至所述趾部端的剖面的橫截面形狀中至少之一，在所述上橫欄與所述底部之間變化。
15.如權(quán)利要求10所述的高爾夫球桿頭，其中位于所述球桿面的基本中心部分與所述底部之間的溝槽基本比位于所述中心部分與所述上橫欄之間的所述溝槽更深。
16.如權(quán)利要求10所述的高爾夫球桿頭，其中位于所述球桿面的基本中心部分與所述上橫欄之間的溝槽基本比位于所述中心部分與所述底部之間的所述溝槽更深。
17.如權(quán)利要求10所述的高爾夫球桿頭，還包括與所述球桿面附接的分離的面部分，其中所述多個溝槽位于所述面部分上。
18.制造高爾夫球桿頭的方法，包括: 形成由趾部端、后跟端、上橫欄以及底部限定的球桿面；以及 在所述球桿面上、在 所述上橫欄與所述底部之間形成多個溝槽，以使得每個溝槽均在所述趾部端與所述后跟端之間延伸，并且所述多個溝槽的深度于在所述上橫欄與所述底部之間延伸的方向上和在所述后跟端與所述趾部端之間延伸的方向上變化。
19.如權(quán)利要求18所述的方法，其中在所述球桿面上形成多個溝槽的步驟包括形成所述多個溝槽，以使得所述多個溝槽的深度在從所述底部至所述上橫欄的方向上增大。
20.如權(quán)利要求18所述的方法，其中在所述球桿面上形成多個溝槽的步驟包括形成所述多個溝槽，以使得所述多個溝槽的深度在從所述上橫欄至所述底部的方向上增大。
21.如權(quán)利要求18所述的方法，其中在所述球桿面上形成多個溝槽的步驟包括形成所述多個溝槽，以使得位于所述上橫欄與所述球桿面上的位置之間的多個溝槽的深度在從所述上橫欄至所述球桿面上的所述位置的方向上增大，并且位于所述底部與所述球桿面上的所述位置之間的多個溝槽的深度在從所述底部至所述球桿面上的所述位置的方向上增大。
22.如權(quán)利要求18所述的方法，其中在所述球桿面上形成多個溝槽的步驟包括形成所述多個溝槽，以使得至少一個溝槽的最深部分由該溝槽的基本平的下表面部分限定。
23.如權(quán)利要求18所述的方法，其中在所述球桿面上形成多個溝槽的步驟包括形成所述多個溝槽，以使得所述多個溝槽的沿從所述上橫欄延伸至所述底部的剖面的橫截面配置、或所述多個溝槽的沿從所述后跟端延伸至所述趾部端的剖面的橫截面配置中至少之一，在所述上橫欄與所述底部之間變化。
24.如權(quán)利要求18所述的方法，其中在所述球桿面上形成多個溝槽的步驟包括形成所述多個溝槽，以使得位于所述球桿面的基本中心部分與所述底部之間的溝槽比位于所述球桿面的所述中心部分與所述上橫欄之間的溝槽具有更大的深度。
25.如權(quán)利要求18所述的方法，其中在所述球桿面上形成多個溝槽的步驟包括形成所述多個溝槽，以使得位于所述球桿面的基本中心部分與所述上橫欄之間的溝槽比位于所述球桿面的所述中心部分與所述底部之間的溝槽具有更大的深度。
26.如權(quán)利要求18所述的方法，還包括形成分離的面部分以及將所述面部分附接至所述球桿面，其中在 所述球桿面上形成多個溝槽的步驟包括在所述面部分上形成所述多個溝 槽。
【文檔編號】A63B53/04GK103930177SQ201280056178
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2012年9月27日 優(yōu)先權(quán)日:2011年9月30日
【發(fā)明者】安東尼·D·塞拉諾, 保羅·D·伍德, 布拉德利·D·施韋格特, 加爾文·S·王 申請人:卡斯騰制造公司