專利名稱：：高爾夫球桿頭的表面鍍層結構及其形成方法
技術領域：
：本發(fā)明是有關于一種高爾夫球桿頭的表面鍍層結構及其形成方法，且特別是有關于具有介質(zhì)層的表面鍍層結構及其形成方法。
背景技術：
：現(xiàn)今高爾夫桿頭的設計是趨向形成復合材質(zhì)，特別是桿頭本體及打擊面板通常是由不同金屬材料制成，例如以17-4PH不銹鋼來制造桿頭本體，并以6鋁-4釩的鈦合金來制造打擊面板，借以使高爾夫桿頭同時具備高結構強度的桿頭本體及高彈性變形能力的打擊面板。在實際使用上，為了提升高爾夫桿頭的美觀、防銹性及耐蝕性，業(yè)界通常需利用電鍍或無電解電鍍(ElectrolessPlating)方式在該高爾夫桿頭的表面鍍上一鍍層，以避免高爾夫桿頭發(fā)生生銹或腐蝕的缺陷，并增加高爾夫桿頭的美觀。然而，當使用電鍍方法來形成鍍層于具有復合材質(zhì)的高爾夫桿頭時，以電化學原理而言，鍍層是無法直接電鍍于例如鈦、鋁或非金屬材料上，因而導致電鍍鍍層與此高爾夫桿頭之間的附著性不佳，使得具有特定材質(zhì)(鈦、鋁或非金屬材料)的高爾夫桿頭的表面上無法形成良好的鍍層來提升美觀、防銹性及耐蝕性。有鑒于上述現(xiàn)有的高爾夫桿頭的設計存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設計制造多年豐富的實務經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學理的運用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設一種新型的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構及其形成方法，能夠改進一般現(xiàn)有的高爾夫桿頭的設計，使其更具有實用性。經(jīng)過不斷的研究、設計，并經(jīng)過反復試作樣品及改進后，終于創(chuàng)設出確具實用價值的本發(fā)明。
發(fā)明內(nèi)容因此本發(fā)明的主要目的在于，提供一種高爾夫球桿頭的表面鍍層結構和形成方法，借以直接利用電鍍方式來形成表面鍍層于高爾夫球桿頭上。本發(fā)明的又一目的在于，提供一種高爾夫球桿頭，借以使表面鍍層可電鍍于高爾夫球桿頭的表面上，即使高爾夫球桿頭具有無法電鍍相容于此表面鍍層的材料。本發(fā)明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，至少包括一介質(zhì)層，形成于該高爾夫球桿頭的表面上；以及一表面鍍層，形成于該介質(zhì)層上，其中該高爾夫球桿頭至少具有部分材料，其無法電鍍相容于該表面鍍層的材料，且該表面鍍層的材料是可電鍍相容于該介質(zhì)層的材料。本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其中所述的高爾夫球桿頭至少包括一桿頭本體，其中該桿頭本體的材料是選自由碳鋼、不銹鋼、合金鋼、鐵錳鋁合金、鎳基合金、鑄鐵、鐵錳鋁合金、鋁、鋁鎂合金、鴒合金、銅合金、陶資材料、碳纖維、塑膠及其上述材料的任意組合所組成的一族群；以及一打擊面板，設置于該桿頭本體的正面，其中該打擊面板的材料是選自由碳鋼、不銹鋼、鐵錳鋁合金、鈦合金、鋁合金、銅合金、陶瓷材料、碳纖維、塑膠及其上述材料的任意組合所組成的一族群。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其中所述的介質(zhì)層是形成于該桿頭本體或該打擊面板的表面上。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其中所述的介質(zhì)層是利用一物理氣相沉積技術(PhysicalVaporDeposition;PVD)來形成于該高爾夫J求桿頭的表面上，該物理氣相沉積技術(PhysicalVaporDeposition;PVD)為蒸鍍(EvaporationDeposition)、離子鍵(IonPlating)或賊鏡(SputteringDeposition)。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其中所述的介質(zhì)層的材料是不銹鋼或鋁。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其中所述的介質(zhì)層的厚度是實質(zhì)介于0.3jum至1.2jum之間。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其中所述的表面鍍層的材料是鎳或鉻。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其中所述的表面鍍層的厚度是實質(zhì)介于0.5Mm至30|am之間。本發(fā)明的目的及解決其技術問題還采用以下技術方案來實現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的一種高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，至少包括形成一介質(zhì)層于該高爾夫球桿頭的表面上；以及電鍍一表面鍍層于該介質(zhì)層上，其中該高爾夫球桿頭至少具有部分材料，其無法電鍍相容于該表面鍍層的材料，且該表面鍍層的材料是可電鍍相容于該介質(zhì)層的材料。本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，更至少包括在形成該介質(zhì)層前，對該高爾夫球桿頭的表面進行一表面處理步驟。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，更至少包括在電鍍該表面鍍層前，對該介質(zhì)層的表面進行一表面處理步驟。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，其中所述的電鍍該表面鍍層步驟中該表面鍍層是利用一般電鍍(MetalElectroplating)方式或無電電鍍(ElectrolessPlating)方式來形成。前述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，其中所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，其特征在于所述的形成該介質(zhì)層步驟中該介質(zhì)層是利用一物理氣相沉積技術(PhysicalVaporDeposition;PVD)來形成于該高爾夫球桿頭的表面上，且該物理氣相沉積技術(PhysicalVaporDeposition;PVD)為蒸鍍(EvaporationDeposition)、離子鍍(IonPlating)或賊鏡(SputteringDeposition)。本發(fā)明的目的及解決其技術問題另外還采用以下技術方案來實現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的一種高爾夫球桿頭，至少包括一桿頭本體，其中桿頭本體設有一趾部、一跟部及一管柄，該趾部和該跟部是分別位于該桿頭本體的正面的兩側，該管柄是凸伸于該桿頭本體的一側，且靠近于該跟部；一打擊面板，設置于該桿頭本體的正面；一介質(zhì)層，形成于該高爾夫球桿頭的至少一部分表面上；以及一表面鍍層，至少形成于該介質(zhì)層上，其中該高爾夫球桿頭的該表面是無法電鍍相容于該表面鍍層的材料，且該表面鍍層的材料是可電鍍相容于該介質(zhì)層的材料。本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。前述的高爾夫球桿頭，所述的高爾夫球桿頭的該表面是形成于該桿頭本體上。前述的高爾夫球桿頭，所述的高爾夫球桿頭的該表面是形成于該打擊面板上。前述的高爾夫球桿頭，所述的桿頭本體的材料是選自由碳鋼、不銹鋼、合金鋼、鐵錳鋁合金、鎳基合金、鑄鐵、鐵錳鋁合金、鋁、鋁鎂合金、鎢合金、銅合金、陶瓷材料、碳纖維、塑膠及其上述材料的任意組合所組成的一族群。前述的高爾夫^求桿頭，所述的桿頭本體的材料為不銹鋼。前述的高爾夫球桿頭，其中所述的打擊面板的材料是選自由碳鋼、不銹鋼、鐵錳鋁合金、鈦合金、鋁合金、銅合金、陶瓷材料、碳纖維、塑膠及其上述材料的任意組合所組成的一族群。前述的高爾夫球桿頭，所述的打擊面板的材料為鈦合金。前述的高爾夫球桿頭，更至少包括一蓋板，設置于該桿頭本體的后方，其中該介質(zhì)層更形成于該蓋板的表面上。前述的高爾夫球桿頭，更至少包括一配重塊，設置于該桿頭本體上，其中該介質(zhì)層更形成于該配重塊的表面上。前述的高爾夫球桿頭，所述的介質(zhì)層是利用一物理氣相沉積技術(PhysicalVaporDeposition;PVD)來形成于該高爾夫球桿頭的表面上，該物理氣相沉積技術(PhysicalVaporDeposition;PVD)為蒸鍍(EvaporationDeposition)、離子鍍(IonPlating)或賊鍍(SputteringDeposition)。前述的高爾夫球桿頭，所述的高爾夫球桿頭是一木桿型桿頭、鐵桿型桿頭、一全鈦型桿頭或一空心桿頭。本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。由以上可知，為了達到上述目的，根據(jù)本發(fā)明的實施例，本發(fā)明的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構至少包括有介質(zhì)層和表面鍍層。介質(zhì)層是形成于高爾夫球桿頭的表面上，表面鍍層是形成于介質(zhì)層上，其中高爾夫球桿頭至少具有部分材料，其無法電鍍相容于表面鍍層的材料，且表面鍍層的材料是可電鍍相容于介質(zhì)層的材料。又，根據(jù)本發(fā)明的實施例，本發(fā)明的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法至少包括形成介質(zhì)層于高爾夫球桿頭的表面上；以及電鍍一表面鍍層于介質(zhì)層上，其中高爾夫球桿頭至少具有部分材料，其無法電鍍相容于表面鍍層的材料，且表面鍍層的材料是可電鍍相容于介質(zhì)層的材料。又，根據(jù)本發(fā)明的實施例，本發(fā)明的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的介質(zhì)層是以物理氣相沉積技術(PhysicalVaporDeposition;PVD)來形成于高爾夫球桿頭的表面上。因此，本發(fā)明的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構可借由介質(zhì)層來直接電鍍表面鍍層于高爾夫球桿頭上，以提升高爾夫球桿頭的美觀、防銹性及耐蝕性。上述說明僅是本發(fā)明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。圖1是繪示依照本發(fā)明的第一實施例的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法流程圖。圖2是繪示依照本發(fā)明的第一實施例的高爾夫球桿頭的桿頭本體的正面示意圖。圖3是繪示依照本發(fā)明的第一實施例的高爾夫球桿頭的剖面示意圖。圖4是繪示依照本發(fā)明的第二實施例的高爾夫球桿頭的剖面示意圖。圖5是繪示依照本發(fā)明的第三實施例的高爾夫球桿頭的剖面示意圖。100、100a:高爾夫J求桿頭110、110a:桿頭本體111:趾部112:i艮部113:管柄120、120a:打擊面板130:容室140:蓋板150:配重塊200、200a、200b:介質(zhì)層300:表面鍍層101:對高爾夫球桿頭的表面進行表面處理102:形成介質(zhì)層于高爾夫球桿頭的表面上103:對介質(zhì)層的表面進行表面處理104:電鍍表面鍍層于介質(zhì)層上具體實施例方式為更進一步闡述本發(fā)明為達成預定發(fā)明目的所采取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構及其形成方法其具體實施方式、結構、特征及其功效，詳細說明如后。請參照圖1至圖3，圖1是繪示依照本發(fā)明的第一實施例的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法流程圖，圖2是繪示依照本發(fā)明的第一實施例的高爾夫球桿頭的桿頭本體的正面示意圖，圖3是繪示依照本發(fā)明的第一實施例的高爾夫球桿頭的剖面示意圖。本實施例的高爾夫球桿頭100的表面鍍層結構的形成方法包括有對高爾夫球桿頭100的表面進行表面處理(步驟101);形成介質(zhì)層200于高爾夫球桿頭100的表面上(步驟102);對介質(zhì)層200的表面進行表面處理(步驟103);以及電鍍表面鍍層300于介質(zhì)層200上(步驟104)，其中表面鍍層300的材料是可電鍍相容于介質(zhì)層200的材料。因此，表面鍍層300可借由介質(zhì)層200來穩(wěn)固地形成于高爾夫球桿頭100上，以提升高爾夫球桿頭IOO的美觀、防銹性及耐蝕性。如圖2和圖3所示，本實施例的高爾夫球桿頭100可以是木桿型桿頭或鐵桿型桿頭，其包括有桿頭本體110和打擊面板120。打擊面板120是設于桿頭本體110的正面，用以直接接觸和打擊高爾夫球(未繪示)。其中高爾夫球桿頭100是至少具有部分材料，其無法電鍍相容于表面鍍層300的材料。如圖2所示，本實施例的桿頭本體110的材質(zhì)可例如是碳鋼(例如S20C或8620碳鋼)、不銹鋼(例如303、316或17-4PH不銹鋼)、合金鋼、鐵錳鋁合金、鎳基合金、鑄鐵、鈦(例如CPTi或Ti6A14V鈦合金)、鋁、鋁鎂合金、鴒合金、銅合金、陶瓷材料、碳纖維、塑膠或上述材料的任意組合，尤其是無法與表面鍍層300形成良好電鍍相容性的材料，(例如鐵錳鋁合金、.陶瓷材料、鉛、鋁鎂合金、碳纖維、塑膠)。桿頭本體IIO可依需求而利用例如精密鑄造、鑄造、機械加工、壓鑄或鍛造等一體成型方式來制造，或者，利用分段接合方式來組裝成一體。桿頭本體IIO設有趾部111、跟部112及管柄113。趾部111和跟部112是分別位于桿頭本體110的正面的兩側。管柄113是凸伸于桿頭本體IIO的一側，且靠近于跟部112,用以結合高爾夫球桿的桿體(未繪示)。如圖2所示，本實施例的打擊面板120可利用例如嵌設、壓合、硬焊、焊接或螺固等方式來結合于桿頭本體110的正面，用以打擊高爾夫球。打擊面板120的材料例如為碳鋼、不銹鋼(例如17-4PH不銹鋼)、鐵錳鋁合金、鈦合金(例如CPTi或Ti6A14V鈦合金)、鋁合金、銅合金、陶覺材料、碳纖維、塑膠或上述材料的任意組合，較佳是以具有高反彈是數(shù)(CoefficientofRestitution;COR)的材料或高硬度的材料來制成，尤其是無法與表面鍍層300形成良好電鍍相容性的材料，(例如鐵錳鋁合金、陶覺材料、鋁、鋁鎂合金、碳纖維、塑膠)。其中打擊面板120的硬度(例如為鈦合金)較佳是高于桿頭本體lio的硬度(例如為不銹鋼)，借以提升高爾夫球桿頭100的擊球效果和擊球距離。如圖1和圖3所示，當形成本實施例的表面鍍層結構時，首先，對高爾夫球桿頭100的表面進行表面處理(步驟101)，以清潔高爾夫球桿頭100的表面。當進行表面處理時，首先，清洗高爾夫球桿頭100的表面，較佳為利用超音波清洗，以利用超音波的高頻振蕩來去除高爾夫球桿頭100的污物及雜質(zhì)。當進行超音波清洗時，其首先是將高爾夫球桿頭100置入超音波機臺(未繪示)內(nèi)，超音波機臺是利用一液體來清洗高爾夫球桿頭100全部表面，此液體可為軟水、醇類或有機溶劑，如甲醇、乙醇、丙酮或溴丙烷。超音波機臺使用的頻率較佳是介于16kHz至60kHz,借以初步去除高爾夫球桿頭100的表面附著的較大污物。在進行超音波清洗后，接著，可利用數(shù)次熱脫脂步驟來清潔高爾夫球桿頭100的表面，再次將高爾夫球桿頭100置入一清潔液中，以浸漬高爾夫球桿頭100的全部表面，此外，此清潔液亦可選擇利用超音波機臺加以震蕩。清潔液的溫度可為常溫的溫度，較佳是加熱介于40。C至85。C之間。超音波機臺使用的頻率較佳亦介于16kHz至60kHz,其中此清潔液例如為堿液，其濃度較佳是約30%至85%的氫氧化鈉、碳酸鈉、硅酸納、磷酸納、硅酸納、碳酸氪鈉、硫酸鈉，亞磷酸鈉或由上述群組之組合，其可添加適量的界面活性劑，例如，陰離子性、非離子性界面活性劑。在電化學原理上，高濃度的堿液是可去除高爾夫球桿頭100上的氧化層和油脂，并活化表面。另一方面，超音波的振動能量則可同時加速上述活化反應的速率。借此，可確保高爾夫球桿頭100的表面的活性，并避免發(fā)生鈍化，因此有利于后續(xù)電鍍步驟提升鍍層附著性及電鍍品質(zhì)。再者，超音波堿液脫脂步驟的處理時間較佳是控制在3min至20min,如此可以避免該高濃度的^f威液在超音波的促進下過度侵蝕高爾夫球桿頭100，而產(chǎn)生表面孔蝕(Pitting)。此外，此清潔液亦可例為酸液，借以去除高爾夫球桿頭IOO經(jīng)過高溫加工、回火的金屬材料生成的厚銹，或者介質(zhì)層200的氧化物、氫氧化物或鹽類。濃度較佳是約5%至30%的鹽酸、硫酸、硝酸、磷酸、氫氟酸或上述群組的組合，電流密度為3~10A/dm2。酸洗的處理時間較佳是控制在30sec至5min，如此可以避免過度侵蝕造成的粗糙、孔獨、變色等問題。接著，利用電解方式再次活化高爾夫球桿頭100，以徹底去除表面殘余的氧化層及油脂。首先利用清水洗凈該桿頭。接著，將高爾夫球桿頭100置入電解槽中，并選擇使用陽極或陰極電解。電解槽是使用堿液，此堿液較佳是約20%至80%的氫氧化鈉、碳酸鈉、硅酸納、磷酸納、硅酸納、碳酸氫鈉、硫酸鈉，亞磷酸鈉或由上述群組的組合，其可添加適量的界面活性劑，例如，陰離子性、非離子性界面活性劑。堿液的溫度可為常溫的溫度，較佳是加熱介于40。C至85。C之間。借此，在進行通電后，連接于陰極的高爾夫球桿頭100表面將產(chǎn)生激烈的反應氣體，而使表面的油脂、氧化層或雜質(zhì)徹底脫落去除。再者，電解步驟的處理時間較佳是控制在lmin至3min左右，以避免;咸液過度^f曼蝕。再者，在上述堿液電解后，為避免殘余堿液過度侵蝕高爾夫球桿頭100表面，可浸漬一酸液以中和前述的堿液。在完成上述電解步驟后，利用清水洗凈高爾夫^求桿頭100，再浸漬于一酸液中，時間約為l~3min以下。酸液的濃度較佳為10%以下的鹽酸、硫酸、硝酸、磷酸、氫氟酸或上述任意的組合。酸液較佳是加熱介于20。C至50。C之間。接著，進行底層處理。底層處理例如是浸漬高爾夫球桿頭100于鹽化鎳和鹽酸溶液中13min。因此，完成對高爾夫球桿頭100的表面處理。接著，形成介質(zhì)層200于高爾夫球桿頭100的表面上(步驟102)。介質(zhì)層200是以物理方式來形成于高爾夫球桿頭100的表面上，較佳是以物理氣相沉積技術(PhysicalVaporDeposition;PVD)，例如蒸鍍(EvaporationDeposition),離子鍍(IonPlating)或賊鍍(SputteringDeposition)。介質(zhì)層200的材料例如是不《秀鋼(例如303、316或17-4PH不銹鋼)、金或鋁，其可電鍍相容于表面鍍層300的材料，亦即表面鍍層300可直接電鍍于介質(zhì)層200上。其中介質(zhì)層200的厚度是實質(zhì)介于0.3iam至1.2pm之間。由于介質(zhì)層200是借由物理方式(例如物理氣相沉積技術)來形成，因而可形成于非金屬材質(zhì)的高爾夫球桿頭100上，例如陶瓷材料、碳纖維或塑膠，以增加本實施例的表面鍍層結構的形成方法對于材料的適用性。值得注意的是，本實施例的介質(zhì)層200是至少形成于高爾夫球桿頭100的部分表面或全部表面上，且介質(zhì)層200所覆蓋的表面是至少具有無法與表面鍍層300形成良好電鍍相容性的材料。因此，介質(zhì)層200可以形成于高爾夫球桿頭100的部分表面或全部表面上。舉例而言，當桿頭本體110的材料例如為不銹鋼，且打擊面板120的材料例如為鈦合金時，介質(zhì)層200是至少完全覆蓋于打擊面板120的表面上，以避免表面鍍層300無法電鍍于高爾夫球桿頭100上。如圖1和圖3所示，接著，對形成有介質(zhì)層200的高爾夫球桿頭100進行表面處理(步驟103)。此時，對介質(zhì)層200的表面處理步驟可相同于上述對高爾夫球桿頭100的表面處理步驟，以清潔介質(zhì)層200的表面，方便后續(xù)電鍍表面鍍層300的形成。請參照表一，其是表面鍍層的材料與其對應的厚度范圍的一覽表。在表面處理后，接著，對形成有介質(zhì)層200的高爾夫球桿頭IOO進行至少一次電鍍，以形成表面鍍層300于介質(zhì)層200上(步驟104)。如表一所示，表面鍍層300的材料例如為金、銅、鋅、鎳或鉻，其厚度是實質(zhì)介于0.5(^111至30fim之間。表一<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>本實施例的表面鍍層300較佳是依產(chǎn)品需求來選擇使用適當?shù)碾婂兎椒?，例如?殳電鍍(MetalElectroplating)或無電電鍍(ElectrolessPlating)。此時，由于介質(zhì)層200可與表面鍍層300形成良好電鍍相容性，因此表面鍍層300可穩(wěn)固地形成于介質(zhì)層200上，以提升高爾夫球桿頭IOO的美觀、防銹性及耐蝕性。舉例而言，當利用一般電鍍或無電電鍍來形成表面鍍層300，且表面鍍層300為鉻鍍層時，首先，以一般電鍍或無電電鍍方式于介質(zhì)層200上形成鎳鍍層，借以形成較佳的初步附著。接著，在鎳鍍層的表面進行習用鉻化制程，以利于后續(xù)使用一般電鍍或無電電鍍方式來鍍上鉻鍍層于介質(zhì)層200上，以確實地提高鉻鍍層的附著性。此時，由于介質(zhì)層200與表面鍍層300(例如鎳或鉻)之間可形成良好的電鍍相容性，且介質(zhì)層200是形成于高爾夫球桿頭100的表面(特別是無法電鍍相容于表面鍍層300的表面)，故表面鍍層300可借由介質(zhì)層200來電鍍于高爾夫球桿頭100，以提升高爾夫球桿頭IOO的表面特性(例如美觀、防銹性及耐蝕性)，即使高爾夫球桿頭100具有無法與表面鍍層300電鍍相容的材料(例如鈦或鋁)。表二<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>請參照表二，其是以鎳和鉻來形成表面鍍層的高爾夫球桿頭的測試結果。在表二中，高爾夫球桿頭100在形成介質(zhì)層200和表面鍍層300(鎳和鉻)后進行噴石少測試和炮擊測試，以測試高爾夫球桿頭100的功能性和耐久性。由表二可知，表面鍍層300確實可借由介質(zhì)層200來穩(wěn)固地形成于高爾夫球桿頭100上，以提升高爾夫球桿頭IOO的表面特性。值得注意的是，表面鍍層300是至少形成于介質(zhì)層200上，部分表面鍍層300亦可直接形成高爾夫球存頭100的表面上，例如當桿頭本體110的材料例如為不銹鋼，且打擊面板120的材料例如為鈦合金時，介質(zhì)層200是至少完全覆蓋于打擊面板120的表面上，此時，由于桿頭本體110的材料(不銹鋼)可與表面鍍層300的材料形成良好的電鍍相容，因而表面鍍層300可直接形成桿頭本體110的表面上。因此，本實施例的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構100可借由在高爾夫球桿頭IOO與表面鍍層300形成介質(zhì)層200，以增加表面鍍層300在高爾夫球桿頭100上的附著性，因而可直接利用電鍍方式來形成表面鍍層300于高爾夫球桿頭100上，以提升高爾夫球桿頭100的表面特性。請參照圖4，其繪示依照本發(fā)明的第二實施例的高爾夫球桿頭的剖面示意圖。以下僅就本實施例與第一實施例的相異處進行說明，關于相似處在此不再贅述。相較于第一實施例，第二實施例的高爾夫球桿頭100a可例如為鈦桿頭，亦即桿頭本體11Oa和打擊面板120a是以鈦或鈥合金材質(zhì)所制成。此時，介質(zhì)層200a可形成于高爾夫球桿頭100a的全部表面，借以電鍍表面鍍層300于高爾夫球桿頭100a上，提升高爾夫球桿頭100a的表面特性。再者，此時，桿頭本體110a可形成容室130(Cavity)，而形成空心桿頭，且容室130可延伸至桿頭本體IIO的底部，以形成一底切結構(UnderCut)，借以進一步分配高爾夫球桿頭100a的重心位置，達到配重效果。請參照圖5，其繪示依照本發(fā)明的第三實施例的高爾夫球桿頭的剖面示意圖。以下僅就本實施例與第一實施例的相異處進行說明，關于相似處在此不再贅述。相較于第一實施例，第三實施例的高爾夫球桿頭100更設有容室130、蓋板140及配重塊150，且可形成一空心桿頭。容室130可凹設于桿頭本體110的后方，且較佳是對應于打擊面板120的主擊球區(qū)(亦稱為甜蜜區(qū)SweetSpot)或余震集中區(qū)域的背面。蓋板140可利用例如嵌設、壓合、硬焊、焊接、黏著或螺固等方式來結合于桿頭本體110的背面。配重塊150例如是設置于桿頭本體110的底側，以進一步改變桿頭本體110的重心位置。此時，蓋板140或配重塊150可具有無法與表面鍍層300形成良好電鍍相容性的材料，而介質(zhì)層200b可形成于蓋板140或配重塊150的表面上，用以形成后續(xù)的表面鍍層300。由上述本發(fā)明的實施例可知，本發(fā)明的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構可直接利用電鍍方式來形成于高爾夫球桿頭上，以提升高爾夫球桿頭的表面特性(例如美觀、防銹性及耐蝕性)。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術人員，在不脫離本發(fā)明技術方案范圍內(nèi)，當可利用上述揭示的技術內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術方案的范圍內(nèi)。權利要求1.一種高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其特征在于至少包括:一介質(zhì)層，形成于該高爾夫球桿頭的表面上；以及一表面鍍層，形成于該介質(zhì)層上，其中該高爾夫球桿頭至少具有部分材料，其無法電鍍相容于該表面鍍層的材料，且該表面鍍層的材料是可電鍍相容于該介質(zhì)層的材料。2、根據(jù)權利要求1所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其特征在于，其中該高爾夫球桿頭至少包括一桿頭本體，其中該桿頭本體的材料是選自由碳鋼、不銹鋼、合金鋼、鐵錳鋁合金、鎳基合金、鑄鐵、鐵錳鋁合金、鋁、鋁鎂合金、鎢合金、銅合金、陶瓷材料、碳纖維、塑膠及其上述材料的任意組合所組成的一族群；以及一打擊面板，設置于該桿頭本體的正面，其中該打擊面板的材料是選自由碳鋼、不銹鋼、鐵錳鋁合金、鈦合金、鋁合金、銅合金、陶瓷材料、碳纖維、塑膠及其上述材料的任意組合所組成的一族群。3、根據(jù)權利要求2所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其特征在于所述的介質(zhì)層是形成于該桿頭本體或該打擊面板的表面上。4、根據(jù)權利要求1所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其特征在于所述的介質(zhì)層是利用一物理氣相沉積技術來形成于該高爾夫球桿頭的表面上，該物理氣相沉積技術為蒸鍍、離子鍍或賊鍍。5、根據(jù)權利要求1所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其特征在于所述的介質(zhì)層的材料是不銹鋼或鋁。6、根據(jù)權利要求1所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其特征在于所述的介質(zhì)層的厚度是介于0.3nm至1.2pm之間。7、根據(jù)權利要求1所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其特征在于所述的表面鍍層的材料是鎳或鉻。8、根據(jù)權利要求1所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，其特征在于所述的表面鍍層的厚度是介于0.5Him至30jim之間。9、一種高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，其特征在于至少包括形成一介質(zhì)層于該高爾'夫球桿頭的表面上；以及電鍍一表面鍍層于該介質(zhì)層上，其中該高爾夫球桿頭至少具有部分材料，其無法電鍍相容于該表面鍍層的材料，且該表面鍍層的材料是可電鍍相容于該介質(zhì)層的材料。10、根據(jù)權利要求9所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，其特征在于更至少包括在形成該介質(zhì)層前，對該高爾夫球桿頭的表面進行一表面處理步驟。11、根據(jù)權利要求9所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，其特征在于更至少包括在電鍍該表面鍍層前，對該介質(zhì)層的表面進行一表面處理步驟。12、根據(jù)權利要求9所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，其特征在于所述的電鍍該表面鍍層步驟中該表面鍍層是利用一般電鍍方式或無電電鍍方式來形成。13、根據(jù)權利要求9所述的高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法，其特征在于所述的形成該介質(zhì)層步驟中該介質(zhì)層是利用一物理氣相沉積技術來形成于該高爾夫球桿頭的表面上，且該物理氣相沉積技術為蒸鍍、離子鍍或濺鍍。14、一種高爾夫球桿頭，其特征在于至少包括一桿頭本體，其中桿頭本體設有一趾部、一跟部及一管柄，該趾部和該跟部是分別位于該桿頭本體的正面的兩側，該管柄是凸伸于該桿頭本體的一側，且靠近于該跟部；一打擊面板，設置于該桿頭本體的正面；一介質(zhì)層，形成于該高爾夫球桿頭的至少一部分表面上；以及一表面鍍層，至少形成于該介質(zhì)層上，其中該高爾夫球桿頭的該表面是無法電鍍相容于該表面鍍層的材料，且該表面鍍層的材料是可電鍍相容于該介質(zhì)層的材料。15、根據(jù)權利要求14所述的高爾夫球桿頭，其特征在于所述的高爾夫球桿頭的該表面是形成于該桿頭本體上。16、根據(jù)權利要求14所述的高爾夫球桿頭，其特征在于所述的高爾夫球桿頭的該表面是形成于該打擊面板上。17、根據(jù)權利要求14所述的高爾夫球桿頭，其特征在于所述的桿頭本體的材料是選自由碳鋼、不銹鋼、合金鋼、鐵錳鋁合金、鎳基合金、鑄鐵、鐵錳鋁合金、鋁、鋁鎂合金、鴒合金、銅合金、陶瓷材料、碳纖維、塑膠及其上述材料的任意組合所組成的一族群。18、根據(jù)權利要求17所述的高爾夫球桿頭，其特征在于所述的桿頭本體的材料為不銹鋼。19、根據(jù)權利要求14所述的高爾夫球桿頭，其特征在于所述的打擊面板的材料是選自由碳鋼、不銹鋼、鐵錳鋁合金、鈦合金、鋁合金、銅合金、陶瓷材料、碳纖維、塑膠及其上述材料的任意組合所組成的一族群。20、根據(jù)權利要求19所述的高爾夫球桿頭，其特征在于所述的打擊面板的材料為鈦合金。.21、根據(jù)權利要求14所述的高爾夫球桿頭，其特征在于更至少包括一蓋板，設置于該桿頭本體的后方，其中該介質(zhì)層更形成于該蓋板的表面上。22、根據(jù)權利要求14所述的高爾夫球桿頭，其特征在于更至少包括一配重塊，設置于該桿頭本體上，其中該介質(zhì)層更形成于該配重塊的表面上。23、根據(jù)權利要求14所述的高爾夫球桿頭，其特征在于所述的介質(zhì)層是利用一物理氣相沉積技術來形成于該高爾夫球桿頭的表面上，該物理氣相沉積技術為蒸鍍、離子鍍或濺鍍。24、根據(jù)權利要求14所述的高爾夫球桿頭，其特征在于所述的高爾夫球桿頭是一木桿型桿頭、鐵桿型桿頭、一全鈦型桿頭或一空心桿頭。全文摘要本發(fā)明是關于一種高爾夫球桿頭的表面鍍層結構及其形成方法。高爾夫球桿頭的表面鍍層結構，至少包括一介質(zhì)層，形成于該高爾夫球桿頭的表面上；以及一表面鍍層，形成于該介質(zhì)層上，其中該高爾夫球桿頭至少具有部分材料，其無法電鍍相容于該表面鍍層的材料，且該表面鍍層的材料是可電鍍相容于該介質(zhì)層的材料。高爾夫球桿頭的表面鍍層結構的形成方法至少包括形成介質(zhì)層于高爾夫球桿頭的表面上；以及電鍍一表面鍍層于介質(zhì)層上，其中表面鍍層的材料是可電鍍相容于介質(zhì)層的材料。文檔編號A63B53/04GK101372162SQ20071013579公開日2009年2月25日申請日期2007年8月21日優(yōu)先權日2007年8月21日發(fā)明者曾永富申請人:楠盛股份有限公司;復盛股份有限公司