一種清潔砧板的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種清潔砧板，包括主砧板，所述主砧板下方設(shè)置有支撐腿，主砧板中間鏤空設(shè)置泄露孔，泄露孔正下方設(shè)置有漏斗，漏斗上端的邊緣固定連接在主砧板的下表面，漏斗的下方設(shè)置有收納盒；主砧板的側(cè)邊緣鉸接設(shè)置有副砧板，該副砧板與所述主砧板形狀相同。本實用新型不僅能夠通過副砧板正常切割食物，而且能夠通過主砧板切割容易產(chǎn)生碎屑的食物，同時主砧板被架空，避免主砧板下方藏污納垢并且水洗后容易干燥，增加廚房的清潔度。
【專利說明】一種清潔砧板

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種廚具，尤其涉及一種清潔砧板。

【背景技術(shù)】
[0002]砧板是廚房必備廚具，長期使用后，砧板下方容易藏污納垢，而且當(dāng)切割膜片、吐司面包等容易產(chǎn)生碎屑的食物時，通常的清理方法是將食物碎屑掃到砧板邊緣用手或其他容器承接，該過程中經(jīng)常有食物碎屑落到桌子或者地上，而且砧板上的碎屑也不易得到徹底清理；另外用水清洗砧板之后，平放砧板不易干燥，抵墻放置不夠牢固，而且殘余水會流到桌子上。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種清潔砧板，不僅能夠通過副砧板正常切割食物，而且能夠通過主砧板切割容易產(chǎn)生碎屑的食物，同時主砧板被架空，避免主砧板下方藏污納垢并且水洗后容易干燥，增加廚房的清潔度。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型所采取的技術(shù)方案是:一種清潔砧板，包括主砧板，所述主砧板下方設(shè)置有支撐腿，主砧板中間鏤空設(shè)置泄露孔，泄露孔正下方設(shè)置有漏斗，漏斗上端的邊緣固定連接在主砧板的下表面，漏斗的下方設(shè)置有收納盒；主砧板的側(cè)邊緣鉸接設(shè)置有副砧板，該副砧板與所述主砧板形狀相同。
[0005]作為本實用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述泄露孔形成圓形泄露區(qū)，該泄露區(qū)的投影落入所述漏斗上端邊緣的內(nèi)部，所述收納盒的口徑大于所述漏斗下端的口徑。
[0006]作為本實用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述漏斗的高度與所述收納盒的高度之和小于所述支撐腿的高度。
[0007]采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于:本實用新型不僅能夠通過副砧板正常切割食物，而且能夠通過主砧板切割容易產(chǎn)生碎屑的食物，同時主砧板被架空，避免主砧板下方藏污納垢并且水洗后容易干燥，增加廚房的清潔度。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0009]圖1是本實用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖中:1、支撐腿2、主砧板3、泄露孔4、漏斗5、收納盒6、副砧板。

【具體實施方式】
[0011]參看附圖，本實用新型一個【具體實施方式】的結(jié)構(gòu)中包括主砧板2，所述主砧板2下方設(shè)置有支撐腿1，主砧板2中間鏤空設(shè)置泄露孔3，泄露孔3正下方設(shè)置有漏斗4，漏斗4上端的邊緣固定連接在主砧板2的下表面，漏斗4的下方設(shè)置有收納盒5 ;主砧板2的側(cè)邊緣鉸接設(shè)置有副砧板6，該副砧板6與所述主砧板2形狀相同。
[0012]所述泄露孔3形成圓形泄露區(qū)，該泄露區(qū)的投影落入所述漏斗4上端邊緣的內(nèi)部，所述收納盒5的口徑大于所述漏斗4下端的口徑。
[0013]所述漏斗4的高度與所述收納盒5的高度之和小于所述支撐腿I的高度。
[0014]本實用新型的工作原理是:本實用新型具有兩種使用狀態(tài):其一是利用副砧板6切割不易產(chǎn)生碎屑的食材；其二是將副砧板6掀起，利用主砧板2切割容易產(chǎn)生碎屑的食材，如吐司面包或者膜片等，產(chǎn)生的碎屑通過泄露孔3和漏斗4最終進(jìn)入收納盒5，避免食物碎屑污染廚房。另外，本實用新型通過支撐腿I將副砧板6和主砧板2架空，通氣性好，不僅避免藏污納垢，而且水洗之后直接將本實用新型放置于水池中即可快速晾干。
[0015]上述描述僅作為本實用新型可實施的技術(shù)方案提出，不作為對其技術(shù)方案本身的單一限制條件。
【權(quán)利要求】
1.一種清潔砧板，包括主砧板，其特征在于:所述主砧板下方設(shè)置有支撐腿，主砧板中間鏤空設(shè)置泄露孔，泄露孔正下方設(shè)置有漏斗，漏斗上端的邊緣固定連接在主砧板的下表面，漏斗的下方設(shè)置有收納盒；主砧板的側(cè)邊緣鉸接設(shè)置有副砧板，該副砧板與所述主砧板形狀相同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔砧板，其特征在于:所述泄露孔形成圓形泄露區(qū)，該泄露區(qū)的投影落入所述漏斗上端邊緣的內(nèi)部，所述收納盒的口徑大于所述漏斗下端的口徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的清潔砧板，其特征在于:所述漏斗的高度與所述收納盒的高度之和小于所述支撐腿的高度。
【文檔編號】A47J47/00GK204246000SQ201420762059
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2014年12月8日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月8日
【發(fā)明者】高威威, 程京都, 陳超湛, 王亞龍, 華川, 周小明, 李金龍, 姚成, 葉燦 申請人:高威威, 程京都, 陳超湛, 王亞龍, 華川, 周小明, 李金龍, 姚成, 葉燦