一種設(shè)置煎盤的燒烤爐的制作方法
【專利摘要】一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,包括底殼和燃?xì)馊紵?,還包括一上開(kāi)口的煎盤和一塞堵,所述煎盤包括盤體和盤底板;所述煎盤的盤體的上開(kāi)口的兩端有設(shè)置有把手;煎盤的盤底板的四個(gè)角部設(shè)置有支撐柱,支撐柱的下端有銷頭;以煎盤的前板和后板之間有一鈍角夾角;煎盤長(zhǎng)度方向的一端設(shè)置有出液接口,出液接口與前板和后板的相交處相對(duì)應(yīng)并煎盤內(nèi)腔連通;所述塞堵與出液接口可拆卸配合;所述銷頭插入燃燒器室內(nèi)與燃燒器室的角部配合,支撐柱的下端與燃燒器室的頂板支撐配合。在現(xiàn)有技術(shù)中能燒烤食物的基礎(chǔ)上,增加的煎盤具有煎制食物、煮食物和蒸食物的功能,一爐多用,使用方便;而且煎盤排除余油和其它液體方便。
【專利說(shuō)明】一種設(shè)置煎盤的燒烤爐
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種設(shè)置煎盤的燒烤爐。
【背景技術(shù)】
[0002]目前現(xiàn)有技術(shù),一種燒烤爐,包括底殼、燃?xì)馊紵鳌炯芎涂颈P,所述底殼包括上開(kāi)口的燃燒器室和燃?xì)饪刂剖遥細(xì)饪刂剖业纳祥_(kāi)口上的樞接有蓋體;燃?xì)馊紵髟O(shè)置在燃燒器室內(nèi);燒烤架和烤盤與燃燒器室的上開(kāi)口可拆卸配合;燃?xì)饪刂剖覂?nèi)設(shè)置有控制閥和燃?xì)夤?。存在?wèn)題是:功能單一,不能進(jìn)行煎制食物。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型的目的是:提供一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,不僅能燒烤食物,而且還能煎制食物。
[0004]本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,包括底殼和燃?xì)馊紵?,所述底殼包括上開(kāi)口的燃燒器室和燃?xì)饪刂剖?,燃?xì)饪刂剖业纳祥_(kāi)口上的樞接有蓋體;燃?xì)馊紵髟O(shè)置在燃燒器室內(nèi);其特殊之處在于:還包括一上開(kāi)口的煎盤;所述煎盤包括盤體和盤底板;
[0005]所述煎盤的盤體的上開(kāi)口的兩端有設(shè)置有把手;煎盤的盤底板的四個(gè)角部設(shè)置有支撐柱,支撐柱的下端有銷頭;
[0006]以煎盤的盤底板的寬度方向的中心線為基準(zhǔn)線,基準(zhǔn)線兩側(cè)的盤底板稱為前板和后板,前板和后板之間有一鈍角夾角;煎盤長(zhǎng)度方向的一端設(shè)置有出液接口,出液接口與前板和后板的相交處相對(duì)應(yīng)并煎盤內(nèi)腔連通;
[0007]還包括一塞堵,所述塞堵與出液接口可拆卸配合;所述銷頭插入燃燒器室內(nèi)與燃燒器室的角部配合,支撐柱的下端與燃燒器室的頂板支撐配合。
[0008]所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特殊之處在于::所述塞堵包括頭部、頸部和絲桿部,頸部和絲桿部交界處有密封圈槽;所述出液接口上有一沉孔,出液接口上有內(nèi)螺紋;
[0009]還包括一耐高溫的密封圈,密封圈設(shè)置在密封圈槽內(nèi),絲桿部與內(nèi)螺紋螺合,頭部與出液接口端部配合止位,頸部嵌入沉孔內(nèi)。
[0010]所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特殊之處在于:所述出液接口的中心線與前板和后板相交處在一條直線上,所述出液接口與盤體和盤底板相交。
[0011]所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特殊之處在于:所述前板和后板位于盤體內(nèi)的相交處倒圓角。
[0012]所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特殊之處在于:所述煎盤上設(shè)置出液接口一端的相對(duì)端設(shè)置有二個(gè)樞接座,樞接座位于寬度方向后兩端,樞接座上有軸孔;二個(gè)樞接座之間的盤體上有定位座,定位座下端有卡槽;
[0013]所述燃燒器室和燃?xì)饪刂剖抑g的底殼的頂板上有擋塊;
[0014]還包括開(kāi)口框形的支架,支架由橫桿和二個(gè)豎桿構(gòu)成,豎桿一端與橫桿的端部連接,另一端設(shè)置有半軸;支架朝上,保持煎盤平衡煎烹食物,支架放下與爐體定位接觸,自然托高煎盤一端,讓煎盤內(nèi)煎烹產(chǎn)生的油液快速?gòu)呐乓嚎谂懦觥?br>
[0015]所述半軸與樞接座上的軸孔轉(zhuǎn)動(dòng)配合,橫桿與定位座的卡槽配合,橫桿與擋塊配口 ο
[0016]所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特殊之處在于:所述橫桿的中部設(shè)置有二個(gè)凹槽,二個(gè)凹槽之間的橫桿與定位座上的卡槽配合。
[0017]所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特殊之處在于:還包括盤蓋,所述煎盤的盤體的上開(kāi)口的內(nèi)壁上有一跌級(jí),所述盤蓋設(shè)置在跌級(jí)上;盤蓋設(shè)置有抓手。
[0018]所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特殊之處在于:所述盤蓋的縱向和橫向中心有一窗口,窗口上設(shè)置有透明板,抓手設(shè)置在透明板上。
[0019]本實(shí)用新型一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,由于采用這樣的結(jié)構(gòu),在現(xiàn)有技術(shù)中能燒烤食物的基礎(chǔ)上,增加的煎盤具有煎制食物、煮食物和蒸食物的功能,一爐多用,使用方便;而且煎盤排除余油和其它液體方便。
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0020]圖1是本實(shí)用新型的立體分解圖。
[0021]圖2是本實(shí)用新型的立體圖。
[0022]圖3是本實(shí)用新型煎盤的立體分解圖。
[0023]圖4是本實(shí)用新型的剖視圖。
[0024]圖5是圖4的A— A視圖。
[0025]圖6是本實(shí)用新型盤蓋的立體剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。
[0027]如圖1所示,一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,包括底殼1、燃?xì)馊紵?、燒烤架(圖中未示出)和燒烤盤,所述底殼I包括上開(kāi)口的燃燒器室3和燃?xì)饪刂剖?,燃?xì)饪刂剖?的上開(kāi)口上的樞接有蓋體41 ;燃?xì)馊紵?設(shè)置在燃燒器室3內(nèi);燒烤架和燒烤盤與燃燒器室3的上開(kāi)口可拆卸配合。
[0028]還包括一上開(kāi)口的煎盤5和設(shè)置在煎盤5上開(kāi)口上的盤蓋6 ;所述煎盤5包括盤體51和盤底板52 ;
[0029]所述煎盤5的盤體52的上開(kāi)口的兩端有設(shè)置有把手7 ;煎盤5的盤底板51的四個(gè)角部設(shè)置有支撐柱53,支撐柱53的下端有銷頭54 ;
[0030]以煎盤5的盤底板51的寬度方向的中心線為基準(zhǔn)線,基準(zhǔn)線兩側(cè)的盤底板51稱為前板511和后板512,前板511和后板512之間有一鈍角夾角α ;即前板511和后板512上表面之間的夾角為鈍角夾角。煎盤5長(zhǎng)度方向的一端設(shè)置有出液接口 8,出液接口 8與前板511和后板512的相交處相對(duì)應(yīng)并煎盤5內(nèi)腔連通;
[0031]還包括一塞堵81,所述塞堵81與出液接口 8可拆卸配合并液密封;所述銷頭54插入燃燒器室3內(nèi)與燃燒器室3的角部配合,支撐柱53的下端與燃燒器室3的頂板支撐配合。或者說(shuō)支撐柱53的下端與燃燒器室3的上端面支撐配合。煎盤5的盤底板52與燃燒器室3上開(kāi)口的端面之間的間隙為二次空氣間隙。
[0032]所述出液接口 8的中心線與前板511和后板512相交處在一條直線上,所述出液接口 8與盤體52和盤底板51相交。采用這樣的結(jié)構(gòu),出液接口 8上半部與前板511和后板512相交處的上方相對(duì),下半部位于盤底板52的下方,可以方便使余油進(jìn)入出液接口 8。
[0033]所述塞堵81包括頭部811、頸部812和絲桿部813,頸部812和絲桿部813交界處有密封圈槽;所述出液接口 8上有一沉孔,出液接口 8上有內(nèi)螺紋;
[0034]還包括一耐高溫的密封圈814,密封圈814設(shè)置在密封圈槽內(nèi),絲桿部813與內(nèi)螺紋螺合,頭部811與出液接口 8端部配合止位,頸部812嵌入沉孔內(nèi)。
[0035]所述前板511和后板512位于盤體52內(nèi)的相交處倒圓角。
[0036]所述煎盤5上設(shè)置出液接口 8 一端的相對(duì)端設(shè)置有二個(gè)樞接座9,樞接座9位于寬度方向后兩端,樞接座9上有軸孔;二個(gè)樞接座9之間的盤體52上有定位座55,定位座下端有卡槽;
[0037]所述燃燒器室3和燃?xì)饪刂剖?之間的底殼I的頂板上有擋塊10 ;擋塊10長(zhǎng)度方向沿底殼I的寬度方向。
[0038]還包括開(kāi)口框形的支架11,支架11由橫桿111和二個(gè)豎桿112構(gòu)成,豎桿112 —端與橫桿111的端部連接,另一端設(shè)置有半軸;
[0039]所述半軸與樞接座9上的軸孔轉(zhuǎn)動(dòng)配合,橫桿111與定位座55的卡槽配合,橫桿111與擋塊10配合。
[0040]所述橫桿111的中部設(shè)置有二個(gè)凹槽113,二個(gè)凹槽113之間的橫桿111與定位座55上的卡槽配合。
[0041]所述煎盤5的盤體的上開(kāi)口的內(nèi)壁上有一跌級(jí)5A,所述盤蓋6設(shè)置在跌級(jí)5A上;盤蓋6設(shè)置有抓手61。
[0042]作為進(jìn)一步改進(jìn):如圖6所不,所述盤蓋6的縱向和橫向中心有一窗口 62,窗口 62上設(shè)置有透明板63,抓手61設(shè)置在透明板63上。
[0043]圖2是本實(shí)用新型的使用狀態(tài),橫桿111與定位座55的卡槽嵌合;
[0044]使用完畢后,首先將煎盤5逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng),有出液接口 8的煎盤5的端部的支撐柱53和銷頭54相交處繞燃燒器室的上開(kāi)口轉(zhuǎn)動(dòng),煎盤5轉(zhuǎn)動(dòng)到一定角度;然后將支架11與定位座55分離,并順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng),轉(zhuǎn)動(dòng)180度后,支架11的橫桿111與擋塊10位于燃燒器室一側(cè)的側(cè)面支撐配合;
[0045]煎盤5內(nèi)的余油集中到煎盤5有出液接口 8的一端,然后經(jīng)出液接口排出。
[0046]以上所述的僅是本實(shí)用新型的優(yōu)先實(shí)施方式。應(yīng)當(dāng)指出的是,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本實(shí)用新型原理的情況下,還可以作出若干改進(jìn)和變型,這也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,包括底殼和燃?xì)馊紵鳎龅讱ぐㄉ祥_(kāi)口的燃燒器室和燃?xì)饪刂剖?,燃?xì)饪刂剖业纳祥_(kāi)口上的樞接有蓋體;燃?xì)馊紵髟O(shè)置在燃燒器室內(nèi);其特征在于:還包括一上開(kāi)口的煎盤;所述煎盤包括盤體和盤底板; 所述煎盤的盤體的上開(kāi)口的兩端有設(shè)置有把手;煎盤的盤底板的四個(gè)角部設(shè)置有支撐柱,支撐柱的下端有銷頭; 以煎盤的盤底板的寬度方向的中心線為基準(zhǔn)線,基準(zhǔn)線兩側(cè)的盤底板稱為前板和后板,前板和后板之間有一鈍角夾角;煎盤長(zhǎng)度方向的一端設(shè)置有出液接口,出液接口與前板和后板的相交處相對(duì)應(yīng)并煎盤內(nèi)腔連通; 還包括一塞堵,所述塞堵與出液接口可拆卸配合;所述銷頭插入燃燒器室內(nèi)與燃燒器室的角部配合,支撐柱的下端與燃燒器室的頂板支撐配合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特征在于:所述出液接口的中心線與前板和后板相交處在一條直線上,所述出液接口與盤體和盤底板相交。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特征在于:所述前板和后板位于盤體內(nèi)的相交處倒圓角。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特征在于:所述塞堵包括頭部、頸部和絲桿部,頸部和絲桿部交界處有密封圈槽;所述出液接口上有一沉孔,出液接口上有內(nèi)螺紋; 還包括一耐高溫的密封圈,密封圈設(shè)置在密封圈槽內(nèi),絲桿部與內(nèi)螺紋螺合,頭部與出液接口端部配合止位,頸部嵌入沉孔內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特征在于:所述煎盤上設(shè)置出液接口 一端的相對(duì)端設(shè)置有二個(gè)樞接座,樞接座位于寬度方向后兩端,樞接座上有軸孔;二個(gè)樞接座之間的盤體上有定位座,定位座下端有卡槽; 所述燃燒器室和燃?xì)饪刂剖抑g的底殼的頂板上有擋塊; 還包括開(kāi)口框形的支架,支架由橫桿和二個(gè)豎桿構(gòu)成,豎桿一端與橫桿的端部連接,另一端設(shè)置有半軸; 所述半軸與樞接座上的軸孔轉(zhuǎn)動(dòng)配合,橫桿與定位座的卡槽配合,橫桿與擋塊配合。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特征在于:所述橫桿的中部設(shè)置有二個(gè)凹槽,二個(gè)凹槽之間的橫桿與定位座上的卡槽配合。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特征在于:還包括盤蓋,所述煎盤的盤體的上開(kāi)口的內(nèi)壁上有一跌級(jí),所述盤蓋設(shè)置在跌級(jí)上;盤蓋設(shè)置有抓手。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種設(shè)置煎盤的燒烤爐,其特征在于:所述盤蓋的縱向和橫向中心有一窗口,窗口上設(shè)置有透明板,抓手設(shè)置在透明板上。
【文檔編號(hào)】A47J37/06GK204192403SQ201420463599
【公開(kāi)日】2015年3月11日 申請(qǐng)日期:2014年8月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月18日
【發(fā)明者】吳灼展 申請(qǐng)人:吳灼展