一種帶除垢器的閥門的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種帶除垢器的閥門，所述的帶除垢器的閥門包含一“T”字形的閥門主體，所述的閥門主體的兩側(cè)分別設(shè)有一連接盤頭，所述的閥門主體的中部設(shè)有一除垢圓盤，所述的除垢圓盤上設(shè)有一高壓注入噴嘴，所述的閥門主體的側(cè)壁上設(shè)有一入口接管和一出口接管，所述的入口接管通過(guò)第一連接管與所述的高壓注入噴嘴相連接，所述的出口接管通過(guò)第二連接管與所述的高壓注入噴嘴相連接。本實(shí)用新型的帶除垢器的閥門利用直接設(shè)置在閥門主體頂部的高壓注入噴嘴，當(dāng)閥門需要清洗時(shí)，使用者可以直接在高壓注入噴嘴中注入高壓稀鹽酸，并利用第一連接管和第二連接管反復(fù)在閥門的通道內(nèi)進(jìn)行循環(huán)，對(duì)管內(nèi)壁進(jìn)行清洗，特別適合甲烷硅化物的生產(chǎn)。
【專利說(shuō)明】一種帶除垢器的閥門
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種化工裝置，更確切地說(shuō)，是一種帶除垢器的閥門。
【背景技術(shù)】
[0002]在甲烷硅化物的生產(chǎn)過(guò)程中，閥門處極容易被硅化物沉積而造成閥門通道的流量下降甚至堵塞，現(xiàn)有的方法是只能直接拆卸發(fā)生堵塞的閥門進(jìn)行外部清洗，成本較高，對(duì)生產(chǎn)影響很大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型主要是解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的技術(shù)問(wèn)題，從而提供一種帶除垢器的閥門。
[0004]本實(shí)用新型的上述技術(shù)問(wèn)題主要是通過(guò)下述技術(shù)方案得以解決的:
[0005]一種帶除垢器的閥門，所述的帶除垢器的閥門包含一“T”字形的閥門主體，所述的閥門主體的兩側(cè)分別設(shè)有一連接盤頭，所述的閥門主體的中部設(shè)有一除垢圓盤，所述的除垢圓盤上設(shè)有一高壓注入噴嘴，所述的閥門主體的側(cè)壁上設(shè)有一入口接管和一出口接管，所述的入口接管通過(guò)第一連接管與所述的高壓注入噴嘴相連接，所述的出口接管通過(guò)第二連接管與所述的高壓注入噴嘴相連接。
[0006]作為本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例，所述的出口接管與所述的第二連接管之間設(shè)有一單向閥。
[0007]本實(shí)用新型的帶除垢器的閥門利用直接設(shè)置在閥門主體頂部的高壓注入噴嘴，當(dāng)閥門需要清洗時(shí)，使用者可以直接在高壓注入噴嘴中注入高壓稀鹽酸，并利用第一連接管和第二連接管反復(fù)在閥門的通道內(nèi)進(jìn)行循環(huán)，對(duì)管內(nèi)壁進(jìn)行清洗，無(wú)需拆卸閥門，速度快，效果明顯，對(duì)系統(tǒng)無(wú)雜質(zhì)引入，特別適合甲烷硅化物的生產(chǎn)。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0008]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0009]圖1為本實(shí)用新型的帶除垢器的閥門的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖2為圖1中的帶除垢器的閥門的A區(qū)域的細(xì)節(jié)放大示意圖；
[0011]其中，
[0012]1、帶除垢器的閥門；10、入口接管；2、閥門主體；3、連接盤頭；4、除垢圓盤；5、高壓
注入噴嘴；6、單向閥；7、第二連接管；8、第一連接管；9、出口接管。
【具體實(shí)施方式】[0013]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本實(shí)用新型的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0014]如圖1至圖2所示，本實(shí)用新型的帶除垢器的閥門I包含一“T ”字形的閥門主體2，該閥門主體2的兩側(cè)分別設(shè)有一連接盤頭3，該閥門主體2的中部設(shè)有一除垢圓盤4，該除垢圓盤4上設(shè)有一高壓注入噴嘴5，該閥門主體2的側(cè)壁上設(shè)有一入口接管10和一出口接管9,該入口接管10通過(guò)第一連接管8與該高壓注入噴嘴5相連接,該出口接管9通過(guò)第二連接管7與該高壓注入噴嘴5相連接。
[0015]該出口接管9與該第二連接管7之間設(shè)有一單向閥6。
[0016]以上所述，僅為本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何不經(jīng)過(guò)創(chuàng)造性勞動(dòng)想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書所限定的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種帶除垢器的閥門，其特征在于，所述的帶除垢器的閥門(I)包含一“T ”字形的閥門主體(2)，所述的閥門主體(2)的兩側(cè)分別設(shè)有一連接盤頭(3)，所述的閥門主體(2)的中部設(shè)有一除垢圓盤(4)，所述的除垢圓盤(4)上設(shè)有一高壓注入噴嘴(5)，所述的閥門主體(2)的側(cè)壁上設(shè)有一入口接管(10)和一出口接管(9)，所述的入口接管(10)通過(guò)第一連接管(8)與所述的高壓注入噴嘴(5)相連接，所述的出口接管(9)通過(guò)第二連接管(7)與所述的高壓注入噴嘴(5)相連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶除垢器的閥門，其特征在于，所述的出口接管(9)與所述的第二連接管(7)之間設(shè)有一單向閥(6)。
【文檔編號(hào)】B08B9/00GK203641664SQ201420000364
【公開(kāi)日】2014年6月11日 申請(qǐng)日期:2014年1月2日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月2日
【發(fā)明者】陳煥祥 申請(qǐng)人:陳煥祥