光掩模清洗的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種光掩模清洗機，該光掩模清洗機包括去離子水噴射單元、氣體干燥單元、旋轉馬達，所述光掩模清洗機還包括與去離子水噴射單元、氣體干燥單元和旋轉馬達相連的中央控制器和執(zhí)行控制模塊。本實用新型光掩模清洗機通過顯示屏的GUI界面進行清洗程序的設置、更改和選擇，有助于操作人員對整個清洗程序的監(jiān)控；執(zhí)行控制模塊有效的簡化了設置清洗方案流程，提高工作效率；中央控制器為各個步驟提供了更為精確的時長設定。
【專利說明】光掩模清洗機
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及半導體【技術領域】，特別是涉及一種光掩模清洗機。
【背景技術】
[0002]掩模清洗是成品掩模檢測過程中重復次數(shù)最多的工序，清洗的目的在于清除表面顆粒，清洗的質(zhì)量直接影響檢測的結果和效率。
[0003]目前世界各國在半導體器件生產(chǎn)中普遍采用的是Kern于1970年實用新型的RCA標準清洗方法。許多研究人員對RCA標準清洗方法進行了大量研究和改進。自90年代初期，人們開始致力于新型清洗工藝和清洗劑的研究以取代RCA清洗技術。1996年Cady和Varadarajan提出了采用四甲基氫氧化氨[N(CH3)40H]與羧酸鹽緩沖劑配置的堿性水溶液噴霧清洗法；1997年Jeon和Raghavan提出了利用兆聲波激發(fā)臭氧水對硅片進行清洗；1998年Bakker等人提出了用水和水/C02混合溶液在高溫、高壓下的清洗等等。
[0004]然而現(xiàn)有技術中清洗程序設定復雜，在使用過程中容易出錯；人機界面不直觀，無法清楚顯示當前動作；清洗時間設定不精確，影響清洗效果；結構復雜，維修不方便。
[0005]因此，針對上述技術問題，有必要提供一種光掩模清洗機。
實用新型內(nèi)容
[0006]有鑒于此，本實用新型的目的在于提供一種光掩模清洗機。
[0007]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型實施例提供的技術方案如下:
[0008]一種光掩模清洗機，所述光掩模清洗機包括去離子水噴射單元、氣體干燥單元、旋轉馬達，所述光掩模清洗機還包括與去離子水噴射單元、氣體干燥單元和旋轉馬達相連的中央控制器和執(zhí)行控制模塊。
[0009]作為本實用新型的進一步改進，所述中央控制器包括:
[0010]控制芯片，用于控制清洗流程時長；
[0011]DIP開關，用于控制清洗進程；
[0012]電源，與控制芯片和DIP開關相連，用于為中央控制器供電；
[0013]以及若干第一端口，用于和中央控制器外部進行連接。
[0014]作為本實用新型的進一步改進，所述第一端口包括RS232C端口和以太網(wǎng)端口中的一種或多種。
[0015]作為本實用新型的進一步改進，所述執(zhí)行控制模塊包括:
[0016]與去離子水噴射單元相連的去離子水噴射控制單元；
[0017]與氣體干燥單元相連的氣體干燥控制單元；
[0018]與旋轉馬達相連的旋轉馬達控制單元；
[0019]以及若干第二端口。
[0020]作為本實用新型的進一步改進，所述第二端口包括RS232C端口和以太網(wǎng)端口中的一種或多種。[0021]作為本實用新型的進一步改進，所述中央控制器上還連接有用于顯示圖形用戶界面的顯示屏。
[0022]本實用新型的有益效果是:本實用新型光掩模清洗機通過顯示屏的GUI界面進行清洗程序的設置、更改和選擇，有助于操作人員對整個清洗程序的監(jiān)控；執(zhí)行控制模塊有效的簡化了設置清洗方案流程，提高工作效率；中央控制器為各個步驟提供了更為精確的時長設定。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型中記載的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0024]圖1為本實用新型一實施方式中光掩模清洗機的模塊示意圖；
[0025]圖2為本實用新型一實施方式中WinPLC控制器的模塊示意圖；
[0026]圖3為本實用新型一實施方式中DL205控制模塊的模塊示意圖；
[0027]圖4為本實用新型一實施方式中旋轉馬達控制單元的控制電路原理圖。
【具體實施方式】
[0028]本實用新型公開了一種光掩模清洗機，包括去離子水噴射單元、氣體干燥單元、旋轉馬達，光掩模清洗機還包括與去離子水噴射單元、氣體干燥單元和旋轉馬達相連的中央控制器和執(zhí)行控制模塊。
[0029]優(yōu)選地，中央控制器包括:
[0030]控制芯片，用于控制清洗流程時長；
[0031]DIP開關，用于控制清洗進程；
[0032]電源，與控制芯片和DIP開關相連，用于為中央控制器供電；
[0033]以及若干第一端口，用于和中央控制器外部進行連接。
[0034]優(yōu)選地，第一端口包括RS232C端口和以太網(wǎng)端口中的一種或多種。
[0035]優(yōu)選地，執(zhí)行控制模塊包括:
[0036]與去離子水噴射單元相連的去離子水噴射控制單元；
[0037]與氣體干燥單元相連的氣體干燥控制單元；
[0038]與旋轉馬達相連的旋轉馬達控制單元；
[0039]以及若干第二端口。
[0040]優(yōu)選地，第二端口包括RS232C端口和以太網(wǎng)端口中的一種或多種。
[0041]優(yōu)選地，中央控制器上還連接有用于顯示圖形用戶界面的顯示屏。
[0042]為了使本【技術領域】的人員更好地理解本實用新型中的技術方案，下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應當屬于本實用新型保護的范圍。[0043]參圖1所示為本實用新型一優(yōu)選實施方式中光掩模清洗機的模塊示意圖，在本實施方式中，光掩模清洗機包括去離子水噴射單元10、氣體干燥單元20、旋轉馬達30，光掩模清洗機還包括與去離子水噴射單元10、氣體干燥單元20和旋轉馬達30相連的中央控制器40和執(zhí)行控制模塊50。
[0044]結合參圖2所示，在本實施方式中，中央控制器40選取Koyo公司生產(chǎn)的WinPLC控制器，WinPLC(PLC programmable Logic Controller)控制器為可編程邏輯控制器，其包括:
[0045]控制芯片41，用于控制清洗流程時長；
[0046]DIP (dual inline-pin package)開關42,用于控制清洗進程,本實施方式中選用旋轉型DIP開關；
[0047]電源43，用于為WinPLC控制器供電；
[0048]以及若干第一端口 44，用于與WinPLC控制器外部相連，本實施方式中的第一端口包括RS232C端口和以太網(wǎng)端口。
[0049]結合參圖3所示，在本實施方式中，執(zhí)行控制模塊50選取Koyo公司生產(chǎn)的DL205控制模塊，其包括:
[0050]與去離子水噴射單元10相連的去離子水噴射控制單元51 ；
[0051]與氣體干燥單元20相連的氣體干燥控制單元52 ；
[0052]與旋轉馬達30相連的旋轉馬達控制單元53 ；
[0053]以及若干第二端口 54，本實施方式中第二端口 54包括RS232C端口和以太網(wǎng)端口。
[0054]優(yōu)選地，中央控制器40上還連接有用于顯示圖形用戶界面(⑶I,Graphical UserInterface)的顯示屏60，顯示屏可以設為觸摸屏或其他形式。
[0055]相應地，基于該光掩模清洗機的清洗方法包括以下步驟:
[0056]S1、通過噴射高壓去離子水對掩模版正反面同時進行清洗，并使用旋轉馬達甩干，優(yōu)選地，旋轉馬達的轉速為50-1500RPM，用戶根據(jù)需要設置在此范圍內(nèi)的任意轉速；
[0057]S2、利用壓縮氣體進行輔助版面干燥處理，壓縮氣體為壓縮空氣或壓縮氮氣。
[0058]在該方法中還包括:分別設定清洗、甩干和干燥的時間，時間長度的設定通過編程完成，根據(jù)不同的需要，可以設定相應的時長，編程簡單，容易掌握。
[0059]根據(jù)各步驟目的不同(如清洗和甩干)，旋轉馬達控制單元可以提供50-1500RPM的轉速，并且可以設定成此范圍內(nèi)的任意轉速，為提高清洗質(zhì)量提供了必要條件。
[0060]參圖4所示為本實用新型一【具體實施方式】中旋轉馬達控制單元53的控制電路原理圖。本實施方式中根據(jù)電壓來調(diào)節(jié)旋轉馬達的轉速，如圖中電壓SIG取值在O?IOV內(nèi)變化時，旋轉馬達分別提供50-1500RPM內(nèi)的對應轉速，用戶根據(jù)不同的需求，設定不同的電壓，從而得到所需的馬達轉速，完成清洗過程中的各步驟。
[0061]本實用新型光掩模清洗機及其清洗方法通過顯示屏的⑶I (Graphical UserInterface)圖形用戶界面進行清洗程序的設置、更改和選擇，有助于操作人員對整個清洗程序的監(jiān)控；DL205控制模塊有效的簡化了設置清洗方案流程，提高工作效率；WinPLC控制器為各個步驟提供了更為精確的時長設定。
[0062]由上述技術方案可以看出，本實用新型具有以下有益效果:
[0063]通用性強，控制程序可變，使用方便；[0064]編程簡單，容易掌握；
[0065]系統(tǒng)的設計、安裝、調(diào)試工作量少；
[0066]維修工作量小，維護方便；
[0067]體積小，能耗低。
[0068]對于本領域技術人員而言，顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細節(jié)，而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實現(xiàn)本實用新型。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實用新型的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實用新型內(nèi)。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。
[0069]此外，應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領域技術人員應當將說明書作為一個整體，各實施例中的技術方案也可以經(jīng)適當組合，形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。
【權利要求】
1.一種光掩模清洗機，所述光掩模清洗機包括去離子水噴射單元、氣體干燥單元、旋轉馬達，其特征在于，所述光掩模清洗機還包括與去離子水噴射單元、氣體干燥單元和旋轉馬達相連的中央控制器和執(zhí)行控制模塊。
2.根據(jù)權利要求1所述的光掩模清洗機，其特征在于，所述中央控制器包括: 控制芯片，用于控制清洗流程時長； DIP開關，用于控制清洗進程； 電源，與控制芯片和DIP開關相連，用于為中央控制器供電； 以及若干第一端口，用于和中央控制器外部進行連接。
3.根據(jù)權利要求2所述的光掩模清洗機，其特征在于，所述第一端口包括RS232C端口和以太網(wǎng)端口中的一種或多種。
4.根據(jù)權利要求1所述的光掩模清洗機，其特征在于，所述執(zhí)行控制模塊包括: 與去離子水噴射單元相連的去離子水噴射控制單元； 與氣體干燥單元相連的氣體干燥控制單元； 與旋轉馬達相連的旋轉馬達控制單元； 以及若干第二端口。
5.根據(jù)權利要求4所述的光掩模清洗機，其特征在于，所述第二端口包括RS232C端口和以太網(wǎng)端口中的一種或多種。
【文檔編號】B08B3/02GK203484365SQ201320355807
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年6月20日 優(yōu)先權日:2013年6月20日
【發(fā)明者】黃峰, 辛海峰 申請人:無錫華潤微電子有限公司