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清洗裝置制造方法

文檔序號(hào):1429024閱讀:123來(lái)源:國(guó)知局
清洗裝置制造方法
【專利摘要】一種清洗裝置,其用于清洗放在成品盤內(nèi)的光學(xué)元件。該清洗裝置包括一個(gè)框架及多個(gè)承載盤。該框架包括相對(duì)設(shè)置的一個(gè)頂板及一個(gè)底板、垂直連接該頂板及該底板的兩個(gè)側(cè)板。兩個(gè)側(cè)板的內(nèi)側(cè)設(shè)有多組支撐結(jié)構(gòu),多個(gè)承載盤分別能移動(dòng)地設(shè)置于該多組支撐結(jié)構(gòu)上。每個(gè)承載盤包括一個(gè)用于收容該光學(xué)元件的托盤及位于該托盤下方的遮網(wǎng),該托盤與該成品盤相匹配,用于直接將該成品盤內(nèi)的光學(xué)元件翻至該托盤內(nèi)。避免了夾取過(guò)程對(duì)光學(xué)元件造成的損傷,而且提高了清洗效率。
【專利說(shuō)明】/目/7t衣直
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著多媒體技術(shù)的發(fā)展,照相機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、手機(jī)照相鏡頭等電子產(chǎn)品越來(lái)越為廣大消費(fèi)者青睞,在人們對(duì)照相機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、手機(jī)照相鏡頭追求小型化的同時(shí),對(duì)其拍攝出的物體的影像質(zhì)量也提出了更高的要求,即希望拍攝物體的影像畫(huà)面清晰,而物體的成像質(zhì)量在很大程度上取決于相機(jī)內(nèi)各光學(xué)元件的優(yōu)劣。
[0003]相機(jī)內(nèi)的成像模組一般包括透鏡、光學(xué)濾光片及影像感測(cè)器等元件。在生產(chǎn)透鏡及光學(xué)濾光片等光學(xué)元件過(guò)程中,為達(dá)到較高的表面潔凈度,一般在這些光學(xué)元件鍍膜前及鍍膜后,都需經(jīng)過(guò)清洗過(guò)程,目的是為了去除附著于這些光學(xué)元件表面的臟污、油潰及微粒等。在生產(chǎn)過(guò)程中一般是將光學(xué)元件放置在成品盤的收容孔內(nèi),而在清洗時(shí),需要將這些光學(xué)元件夾取到清洗裝置內(nèi),這樣不僅清洗效率差,而且容易給光學(xué)元件留下夾取痕跡,對(duì)光學(xué)元件造成損傷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此,有必要提供一種能夠提高清洗效率且可避免夾取過(guò)程對(duì)光學(xué)元件造成損傷的清洗裝置。
[0005]一種清洗裝置,其用于清洗放在成品盤內(nèi)的光學(xué)元件。該清洗裝置包括一個(gè)框架及多個(gè)承載盤。該框架包括相對(duì)設(shè)置的一個(gè)頂板及一個(gè)底板、垂直連接該頂板及該底板的兩個(gè)側(cè)板。兩個(gè)側(cè)板的內(nèi)側(cè)設(shè)有多組支撐結(jié)構(gòu),多個(gè)承載盤分別能移動(dòng)地設(shè)置于該多組支撐結(jié)構(gòu)上。每個(gè)承載盤包括一個(gè)用于收容該光學(xué)元件的托盤及位于該托盤下方的遮網(wǎng),該托盤與該成品盤相匹配,用于直接將該成品盤內(nèi)的光學(xué)元件翻至該托盤內(nèi)。
[0006]本發(fā)明的清洗裝置,通過(guò)設(shè)置與該成品盤相匹配的托盤,在轉(zhuǎn)移光學(xué)元件時(shí),直接將托盤設(shè)置于該成品盤上面再翻轉(zhuǎn)即可,不需要用鑷子等工具夾取,避免了夾取過(guò)程對(duì)光學(xué)元件造成的損傷,而且提高了清洗效率。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0007]圖1為本發(fā)明提供的清洗裝置的分解示意圖。
[0008]圖2為成品盤的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖3為圖1中的托盤的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]主要元件符號(hào)說(shuō)明
【權(quán)利要求】
1.一種清洗裝置,其用于清洗放在成品盤內(nèi)的光學(xué)元件,該清洗裝置包括一個(gè)框架及多個(gè)承載盤,該框架包括相對(duì)設(shè)置的一個(gè)頂板及一個(gè)底板、連接該頂板及該底板的兩個(gè)側(cè)板,兩個(gè)側(cè)板的內(nèi)側(cè)設(shè)有多組支撐結(jié)構(gòu),多個(gè)承載盤分別能移動(dòng)地設(shè)置于該多組支撐結(jié)構(gòu)上,每個(gè)承載盤包括一個(gè)用于收容該光學(xué)元件的托盤及位于該托盤下方的遮網(wǎng),該托盤與該成品盤相匹配,用于直接將該成品盤內(nèi)的光學(xué)元件翻至該托盤內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,該成品盤上設(shè)有多個(gè)陣列分布的收容孔,該托盤包括相對(duì)的第一面及第二面,該第一面上設(shè)有多個(gè)用于與該收容孔對(duì)應(yīng)的方形凹槽,每個(gè)凹槽底部開(kāi)設(shè)有圓孔,該遮網(wǎng)貼附于該第一面上。
3.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,該支撐結(jié)構(gòu)為條形板,每個(gè)承載盤搭設(shè)于一組支撐結(jié)構(gòu)上。
4.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,該支撐結(jié)構(gòu)為U形凹槽,該U形凹槽的底部設(shè)置于對(duì)應(yīng)的側(cè)板上,該承載盤插設(shè)于該U形凹槽內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,該頂板與底板上均開(kāi)設(shè)有多個(gè)通孔。
6.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,該框架還包括一個(gè)與該頂板、底板、側(cè)板均垂直連接的后板。
7.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,該清洗裝置還包括一個(gè)把手,該把手設(shè)置于該頂板的中間位置。
8.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,該清洗裝置還包括一個(gè)擋止條,該擋止條設(shè)置于與該后板相對(duì)的一側(cè)。
9.如權(quán)利要求8所述的清洗裝置,其特征在于,該擋止條的一端轉(zhuǎn)動(dòng)連接于該頂板,另一端用于與該底板固定連接。
【文檔編號(hào)】B08B13/00GK103962356SQ201310044613
【公開(kāi)日】2014年8月6日 申請(qǐng)日期:2013年2月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年2月5日
【發(fā)明者】吳承勛 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司
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