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超聲波清洗線的制作方法

文檔序號:1422562閱讀:247來源:國知局
專利名稱:超聲波清洗線的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及到清洗設(shè)備,尤其涉及到超聲波清洗線。
背景技術(shù)
目前,用于硅片的超聲波清洗線,其結(jié)構(gòu)包括機架和用于放置硅片的工裝籃,機架上設(shè)置有清洗池以及使工裝籃沿著清洗線行進(jìn)的輸送驅(qū)動裝置和設(shè)置在輸送驅(qū)動裝置上的使工裝籃升降的升降裝置,清洗池的一對相對的池壁上分別設(shè)置有相互配合的超聲波振動盒。使用時,首先要通過人工將硅片豎向插入工裝籃的插片槽中,然后,通過輸送驅(qū)動裝置和升降裝置將裝有硅片的工裝籃放入清洗池中,設(shè)置在清洗池的一對相對的池壁上的超聲波振動盒同時發(fā)出超聲波,對硅片進(jìn)行清洗。眾所周知,離超聲波的振動面越遠(yuǎn),清洗的效果越差。因此,上述超聲波清洗線使得硅片的中心部分得到很好的清洗,其它部位的洗清效果較差;而且,還需要專門的將硅片擺放在工裝籃中的擺放人員,生產(chǎn)成本較高,生產(chǎn)效率較低。

實用新型內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種清洗效果好、不需要專門的擺放人員的超聲波清洗線。為解決上述技術(shù)問題,本實用新型采用的技術(shù)方案為超聲波清洗線,包括機架,機架上設(shè)置有清洗池以及與清洗池相配合的超聲波振動盒,所述超聲波振動盒的振動面上設(shè)置有至少一對導(dǎo)槽,所述的機架上正對著每個導(dǎo)槽分別設(shè)置有用于夾持并輸送待清洗片材的上、下輸送帶,其中,靠近振動面的上輸送帶或下輸送帶放置在相應(yīng)的導(dǎo)槽中,并且其迎物面高于振動面,使得待清洗的片材緊挨著振動面。所述的機架上沿著待清洗片材的行進(jìn)線路設(shè)置有至少一對振動面相反的超聲波振動盒。所述超聲波振動盒的振動面上開設(shè)有一對導(dǎo)槽,并且,相鄰超聲波振動盒的振動面上的導(dǎo)槽的間距不相等。所述機架的兩側(cè)還分別設(shè)置有導(dǎo)向條。本實用新型的有益效果是本實用新型通過在振動面上開設(shè)導(dǎo)槽及與導(dǎo)槽相對應(yīng)配合的多對輸送帶,并將靠近振動面的輸送帶置于導(dǎo)槽中,這樣就使得夾持在輸送帶之間的待清洗片材緊挨著振動面,并且,待清洗片材需要清洗的表面的各個部位到振動面的距離相等,大大提高了清洗效果;而且,不需要專門的擺放人員,提高了清洗效率,降低了清洗成本。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1中的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。[0011]圖1至圖2中1、機架,2、清洗池,3、超聲波振動盒,31、振動面,4、上輸送帶,5、下輸送帶,6、導(dǎo)向條,7、同步帶。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖,詳細(xì)描述本實用新型的具體實施方案。如圖1、圖2所示,本實用新型所述的超聲波清洗線,包括機架1,機架1上設(shè)置有清洗池2及三個與清洗池2相配合的超聲波振動盒3,這三個超聲波振動盒3沿著待清洗片材的行進(jìn)路線排布,第二個超聲波振動盒3在中間,第一和第三個超聲波振動盒3的振動面 31向上,第二個超聲波振動盒3的振動面31朝下,每個超聲波振動盒3的振動面31上設(shè)置有一對導(dǎo)槽,機架1上正對著每個導(dǎo)槽分別設(shè)置有用于夾持并輸送待清洗片材的上輸送帶4和下輸送帶5,其中,靠近振動面31的上輸送帶4或下輸送帶5放置在相應(yīng)的導(dǎo)槽中、 環(huán)繞著相應(yīng)的超聲波振動盒3,并且,上輸送帶4或者下輸送帶5的迎物面即與待清洗片材接觸的表面略高于超聲波振動盒3的振動面31,通常為1毫米,使得待清洗片材緊挨著振動面31。在本實施例中,所述的上、下輸送帶4和5均由同步帶7通過帶輪帶著一起轉(zhuǎn)動,所述機架1的兩側(cè)還分別設(shè)置有導(dǎo)向條6 ;為了更好地布置與三個超聲波振動盒3相對應(yīng)的六條上輸送帶4和相對應(yīng)的六條下輸送帶5,在開設(shè)導(dǎo)槽時,第二個超聲波振動盒3的振動面31上的一對導(dǎo)槽的間距較第一和第三個超聲波振動盒3振動面31上的一對導(dǎo)槽的間距大,使得與第一、第三個超聲波振動盒3相對應(yīng)的上、下輸送帶4和5同與第二個超聲波振動盒3相對應(yīng)的上、下輸送帶4和5錯開。實際使用時,將待清洗片材放在機架1兩側(cè)的導(dǎo)向條6之間,待清洗片材在上、下輸送帶4和5的夾持下從超聲波振動盒3的振動面31經(jīng)過,實現(xiàn)對片材的清洗。
權(quán)利要求1.超聲波清洗線,包括機架,機架上設(shè)置有清洗池以及與清洗池相配合的超聲波振動盒,其特征在于所述超聲波振動盒的振動面上設(shè)置有至少一對導(dǎo)槽,所述的機架上正對著每個導(dǎo)槽分別設(shè)置有用于夾持并輸送待清洗片材的上、下輸送帶,其中,靠近振動面的上輸送帶或下輸送帶放置在相應(yīng)的導(dǎo)槽中,并且其迎物面高于振動面,使得待清洗的片材緊挨著振動面。
2.如權(quán)利要求1所述的超聲波清洗線,其特征在于所述的機架上沿著待清洗片材的行進(jìn)線路設(shè)置有至少一對振動面相反的超聲波振動盒。
3.如權(quán)利要求2所述的超聲波清洗線,其特征在于所述超聲波振動盒的振動面上開設(shè)有一對導(dǎo)槽,并且,相鄰超聲波振動盒的振動面上的導(dǎo)槽的間距不相等。
4.如權(quán)利要求1、2或3所述的超聲波清洗線,其特征在于所述機架的兩側(cè)還分別設(shè)置有導(dǎo)向條。
專利摘要本實用新型公開了一種清洗效果好、不需要專門的擺放人員的超聲波清洗線,包括機架,機架上設(shè)置有清洗池及與清洗池相配合的超聲波振動盒,所述超聲波振動盒的振動面上設(shè)置有至少一對導(dǎo)槽,所述的機架上正對著每個導(dǎo)槽分別設(shè)置有用于夾持并輸送待清洗片材的上、下輸送帶,其中,靠近振動面的上輸送帶或下輸送帶放置在相應(yīng)的導(dǎo)槽中,并且其迎物面高于振動面,使得待清洗的片材緊挨著振動面。本實用新型主要用于硅片的清洗。
文檔編號B08B3/12GK201997517SQ20112005161
公開日2011年10月5日 申請日期2011年3月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月1日
發(fā)明者陳宏 申請人:張家港市超聲電氣有限公司
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