專利名稱：一種比薩砧板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及比薩制作工具，尤其是指一種比薩砧板。
背景技術(shù)：
比薩的制作一般是在烤盤上完成，由于烤盤上只是一平面，制作者制作的比薩的 形狀、大小尺寸等比較隨意，當(dāng)需要制作圓形或方形并需要一定大小的比薩餅時(shí)，只能依靠 制作者的操作經(jīng)驗(yàn)完成。在烤盤上制作比薩餅時(shí)，由于需要用到比薩醬、黃油等材料，在制 作的過(guò)程中容易溢出在烤盤上，影響制作比薩時(shí)的原材料的用量，造成比薩口味的變化。此 外，在烤的過(guò)程中奶酪、水果蔬菜的水份也會(huì)溢出，使得烤盤的上一直滯留有比薩醬、黃油、 奶酪和水等混合液體，既影響比薩的外觀及口味，也會(huì)造成烤盤的清潔麻煩。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型需解決的問(wèn)題是提供一種可以方便制作符合規(guī)格的比薩餅、并減少制 作比薩餅過(guò)程中的原材料溢出、方便清潔的比薩砧板。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型設(shè)計(jì)出一種比薩砧板，包括砧板主體，在砧板主體 的上表面設(shè)有環(huán)繞砧板主體中心一圈的凹槽，在凹槽以內(nèi)的面積為面皮制作區(qū)域或比薩切 分區(qū)域。作為本實(shí)用新型一優(yōu)選方案所述的砧板主體的橫截面為圓形，凹槽為圓形凹槽。作為本實(shí)用新型另一優(yōu)選方案所述的砧板主體的橫截面為圓形，凹槽為方形凹槽。作為本實(shí)用新型第三優(yōu)選方案所述的砧板主體的橫截面為方形，凹槽為圓形凹槽。作為本實(shí)用新型第四優(yōu)選方案所述的砧板主體的橫截面為方形，凹槽為方形凹槽。本實(shí)用新型比薩砧板在砧板主體上設(shè)有圓形或方形凹槽，使圓形或方形凹槽所圍 成的區(qū)域具有不同尺寸，從而可以方便制作出大小、形狀符合要求的比薩餅，并通過(guò)凹槽可 以將在制作或烘烤比薩餅時(shí)，所溢出的比薩醬、黃油、奶酪和水存儲(chǔ)于凹槽內(nèi)，既不影響比 薩餅的外觀和口味，又方便清潔衛(wèi)生。

圖1是本實(shí)用新型比薩砧板第一實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型比薩砧板第二實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本實(shí)用新型比薩砧板第三實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本實(shí)用新型比薩砧板第四實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了便于本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解，下面將結(jié)合具體實(shí)施例及附圖對(duì)本實(shí)用新型的 結(jié)構(gòu)原理作進(jìn)一步的詳細(xì)描述如圖1所示，本實(shí)用新型比薩砧板的第一實(shí)施，該實(shí)施例的比薩砧板包括砧板主 體1，在砧板主體1的上表面設(shè)有環(huán)繞砧板主體1中心一圈的凹槽2，在凹槽2以內(nèi)的面積 為面皮制作區(qū)域或比薩切分區(qū)域。所述的砧板主體1的橫截面為圓形，凹槽2為圓形凹槽。如圖2所示，本實(shí)用新型比薩砧板的第二實(shí)施例，該實(shí)施例的比薩砧板包括砧板 主體1，在砧板主體1的上表面設(shè)有環(huán)繞砧板主體1中心一圈的凹槽2，在凹槽2以內(nèi)的面 積為面皮制作區(qū)域或比薩切分區(qū)域。所述的砧板主體1的橫截面為圓形，凹槽2為方形凹 槽。如圖3所示，本實(shí)用新型比薩砧板的第三實(shí)施例，該實(shí)施例的比薩砧板包括砧板 主體1，在砧板主體1的上表面設(shè)有環(huán)繞砧板主體1中心一圈的凹槽2，在凹槽2以內(nèi)的面 積為面皮制作區(qū)域或比薩切分區(qū)域。所述的砧板主體1的橫截面為方形，凹槽2為圓形凹槽。如圖4所示，本實(shí)用新型比薩砧板的第四實(shí)施例，該實(shí)施例的比薩砧板包括砧板 主體1，在砧板主體1的上表面設(shè)有環(huán)繞砧板主體1中心一圈的凹槽2，在凹槽2以內(nèi)的面 積為面皮制作區(qū)域或比薩切分區(qū)域。所述的砧板主體1的橫截面為方形，凹槽2為方形凹槽。上述內(nèi)容，僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非用于限制本實(shí)用新型的實(shí)施方案， 本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本實(shí)用新型的構(gòu)思，所作出的適當(dāng)變通或修改，都應(yīng)在本實(shí)用新型的 保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求一種比薩砧板，包括砧板主體(1)，其特征在于在砧板主體(1)的上表面設(shè)有環(huán)繞砧板主體(1)中心一圈的凹槽(2)，在凹槽(2)以內(nèi)的面積為面皮制作區(qū)域或比薩切分區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的比薩砧板，其特征在于所述的砧板主體(1)的橫截面為圓 形，凹槽(2)為圓形凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的比薩砧板，其特征在于所述的砧板主體(1)的橫截面為圓 形，凹槽(2)為方形凹槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的比薩砧板，其特征在于所述的砧板主體(1)的橫截面為方 形，凹槽(2)為圓形凹槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的比薩砧板，其特征在于所述的砧板主體(1)的橫截面為方 形，凹槽(2)為方形凹槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的比薩砧板，其特征在于所述的砧板主體(1)由竹木材料或 耐高溫的石板制作而成。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種比薩砧板，包括砧板主體，在砧板主體的上表面設(shè)有環(huán)繞砧板主體中心一圈的凹槽，在凹槽以內(nèi)的面積為面皮制作區(qū)域或比薩切分區(qū)域。本實(shí)用新型比薩砧板具有方便制作符合規(guī)格的比薩餅、并減少制作比薩餅過(guò)程中的原材料溢出、方便清潔的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)A47J37/01GK201727380SQ20102016677
公開日2011年2月2日 申請(qǐng)日期2010年4月15日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月15日
發(fā)明者司徒達(dá)潛 申請(qǐng)人:司徒達(dá)潛