專利名稱：光學元件清洗劑及其清洗方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種清洗劑及其清洗方法，尤其是一種光學元件清洗劑及其清洗方 法。
背景技術：
在光學加工中，元件污染主要來源于研磨(粉)液殘留，手指印及少量脂肪類油。 如CeO2 (二氧化鈰)為主要成分的研磨粉是不會對鏡片構成腐蝕的，但在進行研磨加工時， 研磨液是由水加研磨粉配制而成，因此新配制的研磨液的初始PH值是由水和研磨粉的酸 堿性共同決定的，一般呈堿性(pH>7)。如前所述，玻璃遇水會產(chǎn)生水解反應，如方程式 I :Na2Si03+2H20—2Na0H+H2Si03,而生成的H2Si03(硅酸)呈凝膠狀態(tài)，附在玻璃表層 起保護作用，阻止反應繼續(xù)進行，同時一部分H2SiO3 (硅酸)分解，生成的SiO2 (二氧化硅) 附在玻璃表面也可以減緩水解反應，起到保護作用，化學反應方程式如下如方程式II H2SiO3 (硅酸)2H20+Si02 ( 二氧化硅)玻璃表面的研磨拋光，表層的SiO2 ( 二氧化硅)和大部 分的H2SiO3凝膠被去除，打破了方程式I、II的平衡，生成更多的堿性物質，導致研磨液的 PH值持續(xù)上升，其中的堿性液體與H2SiO3凝膠反應，如此循環(huán)加速水解反應，導致玻璃表面 侵蝕。因此，在研磨完成后，元件表面呈堿性，如果使用非堿性洗劑，會必然導致元件侵蝕加 重。清洗元件上油脂類污染主要是在其他溶劑進行乳化、分解(非本品涉及范圍)之 后的殘留，因此通過與堿反應生成可溶于水的肥皂和甘油(下為油脂水解簡單反應原理 式)，所以本品在40 50°C溶液時(或有超聲波)可將其除去。大部分來源主要是芯取油 殘留或存放、手觸摸中污染的油脂。在光學加工中，研磨、芯取、鍍膜、粘合及涂墨后光學元件都要使用清洗劑進行清 洗。市場上所提供的成品清洗劑大部分是多組分復配，添加高分子合成，在清理光學加工過 程中元件的污染的同時也損壞了光學元件，而成品清洗劑的價格昂貴使得本行業(yè)制造成本 劇烈增加。本發(fā)明從光學加工對于元件污染的自身特點開發(fā)一種清洗劑及清洗方法，不但 能夠有效的對元件進行清洗，而且化學穩(wěn)定性差的元件進行合理清洗。同時使其成本降低。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的是開發(fā)一種光學元件清洗劑，提供一種使用方便、清洗效果好、成本 低廉的光學元件清洗方法。本發(fā)明是通過下列技術方案來解決的本發(fā)明的清洗劑組合物，其原料配方(重量百分比)為氫氧化鈉0.1-0.3%三聚磷酸鈉0.1-0.3%硅酸鈉0.05-0.15%十二烷基苯磺酸鈉 0.05-0.15%
乳化滲透劑0.1-0.3%所述硅酸鈉可以是偏硅酸鈉。所述乳化滲透劑可以是烷基酚聚氧乙烯醚(0P-10)或乙氧基化烷基硫酸鈉 (AES)。本發(fā)明的清洗方法，包括下列方法步驟A、按所述重量百分比取氫氧化鈉、三聚磷酸鈉、乳化滲透劑配制一組清洗劑，將其 溶入容器水中形成清洗水劑I，并使水溶液濃度為0. 1-0. 8%，水溶液溫度為30-70°C，使用 條件超聲波輔助，純水電導率大于8ΜΩ ；B、按所述重量百分比取原料硅酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉、乳化滲透劑配制一組清 洗劑，并將其溶入容器水中形成清洗水劑II，使水溶液濃度為0. 1-0.8%，水溶液溫度為 30-70°C，使用條件超聲波輔助，純水電導率大于8M Ω ；C、清洗步驟①將光學元件進入清洗水劑(I)，用超聲波清洗70-120S ；②將光學元件進入循環(huán)純水，進行超聲波清洗70-120S ；③將光學元件進入循環(huán)過濾清洗水劑(II)，超聲波清洗各70-120S ；④將光學元件進入循環(huán)純水漂洗，超聲波清洗各70-120S ；⑤將光學元件進入IPA循環(huán)過濾脫水，超聲波輔助清洗各70-120S ；⑥將元光學件進入IPA蒸汽進行烘干70-120S。所述IPA為異丙醇或無水乙醇。
具體實施例方式實施例1在一般光學鏡片研磨后清洗CeO2污染及殘留，可以使用所述清洗水劑I和清洗 水劑(II)，其中清洗水劑I的原料配方(重量百分比)為氫氧化鈉(0.2%)、三聚磷酸鈉 (0. 2% )、乳化滲透劑(0Ρ-10) (0. 2% )，清洗水劑(II)的原料配方(重量百分比)為硅酸 鈉(0.2% )、十二烷基苯磺酸鈉(0.2% )、乳化滲透劑(AES) (0.2% )，使其水溶液濃度為 0.5%,水溶液溫度為50 士 5°C，使用條件為可輔助超聲波，純水電導率大于8M Ω。清洗步驟①將光學鏡片進入清洗水劑(I)，用超聲波清洗IOOs ；②將光學鏡片進入循環(huán)純水，進行超聲波清洗IlOs ；③將光學鏡片進入循環(huán)過濾的清洗水劑(II)，超聲波清洗各IOOs ；④將光學鏡片進入循環(huán)純水漂洗，超聲波清洗各IOOs ；⑤將光學鏡片進入IPA(異丙醇或無水乙醇)循環(huán)過濾脫水，超聲波輔助清洗各 IlOs ；⑥將光學鏡片進入IPA (異丙醇)蒸汽進行烘干100s。實施例2對于光學元件芯取后少量油污(溶劑后)及指印殘留，可以使用所述清洗水劑I 和清洗水劑II，其中清洗水劑I的原料配方(重量百分比)為氫氧化鈉(0. 15% )、三聚磷 酸鈉(0. 15% )、乳化滲透劑(0P-10) (0. 15% )，清洗水劑(II)的原料配方(重量百分比) 為偏硅酸鈉(0. 2% )、十二烷基苯磺酸鈉(0. 2% )、乳化滲透劑(AES) (0.2%),并使其水溶
4液濃度為2. 5%，水溶液溫度為75士5°C，使用條件為可輔助超聲波，純水電導率大于8ΜΩ。清洗步驟①將光學鏡片進入清洗水劑I中浸泡60s ；②將光學鏡片進入循環(huán)過濾的清洗水劑(I)，超聲波清洗IOOs③將光學鏡片進入純水，進行超聲波清洗IlOs④將光學鏡片進入可循環(huán)過濾的清洗水劑II，超聲波清洗IOOs⑤將光學鏡片進入可流動的純水漂洗，超聲波清洗90s⑥將光學鏡片進入可循環(huán)過濾的IPA(異丙醇)脫水，超聲波輔助清洗IOOs⑦將光學鏡片進入IPA(異丙醇)蒸汽進行烘干120s。實施例3對鍍膜后鏡片考慮其表面特殊性及要求，必須結合實際進行洗劑的調整，主要針 對其為手印及落塵污染，可使用所述清洗水劑II和清洗水劑I，其中清洗水劑I的原料 配方(重量百分比)為氫氧化鈉(0.25%)、三聚磷酸鈉(0.25%)、乳化滲透劑(0P-10) (0. 25% )，清洗水劑(II)的原料配方(重量百分比)為硅酸鈉(0. 2% )、十二烷基苯磺酸 鈉(0.2%)、乳化滲透劑(AES) (0.2%)，并使清洗水劑II水溶液濃度為0.5%，水溶液溫度 50士5°C ；清洗水劑I水溶液濃度為0. 1%，水溶液溫度為25士5°C ；使用條件均為超聲波輔 助，純水電導率大于8M Ω。清洗步驟①將光學鏡片分別進入可循環(huán)過濾的清洗水劑II和清洗水劑I，超聲 波清洗各IOOs ；②將光學鏡片進入可部分流動純水漂洗，超聲波清洗各IOOs ；③將光學鏡片進入可部分循環(huán)過濾的IPA(無水乙醇)脫水，超聲波輔助清洗各 IlOs ；④將光學鏡片進入IPA (異丙醇)蒸汽進行烘干100s。
權利要求
1.一種光學元件清洗劑組合物，其特征在于原料配方(重量百分比)為氫氧化鈉 0.1-0.3% 三聚磷酸鈉0.1-0.3%硅酸鈉 0.05-0.15% 十二烷基苯磺酸鈉 0.05-0.15%乳化滲透劑0. 1-0. 3%。
2.按權利要求1所述的清洗劑組合物，其特征在于所述硅酸鈉可以是偏硅酸鈉。
3.按權利要求1所述的清洗劑組合物，其特征在于所述乳化滲透劑可以是烷基酚聚 氧乙烯醚(0P-10)或乙氧基化烷基硫酸鈉(AES)。
4.一種使用權利要求1所述清洗劑的清洗方法，其特征在于包括下列方法步驟:A、按 上述重量百分比取氫氧化鈉、三聚磷酸鈉、乳化滲透劑配制一組清洗劑，將其溶入容器水中 形成清洗水劑I，并使水溶液濃度為0. 1-0. 8%，水溶液溫度為30-70°C，使用條件超聲波 輔助，純水電導率大于8M Ω ；B、按上述重量百分比取原料硅酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉、乳化滲透劑配制一組清洗 劑，并將其溶入容器水中形成清洗水劑II，使水溶液濃度為0. 1-0. 8 %，水溶液溫度為 30-70°C，使用條件超聲波輔助，純水電導率大于8M Ω ；C、清洗步驟①將光學元件進入清洗水劑(I)，用超聲波清洗90-120S；②將光學元件進入循環(huán)純水，進行超聲波清洗90-120S；③將光學元件進入循環(huán)過濾清洗水劑(II)，超聲波清洗各90-120S；④將光學元件進入循環(huán)純水漂洗，超聲波清洗各90-120S；⑤將光學元件進入IPA循環(huán)過濾脫水，超聲波輔助清洗各90-120S；⑥將光學元件進入IPA蒸汽進行烘干90-120S。
5.按權利要求4所述的的清洗方法，其特征在于所述IPA可以是異丙醇或無水乙醇。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光學元件清洗劑及其清洗方法。該清洗劑組份為氫氧化鈉、三聚磷酸鈉、硅酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉、乳化滲透劑。清洗方法按重量百分比取氫氧化鈉、三聚磷酸鈉、乳化滲透劑配制一組清洗劑，將其溶入容器水中形成清洗水劑I；按重量百分比取原料硅酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉、乳化滲透劑配制一組清洗劑，并將其溶入容器水中形成清洗水劑II；使清洗水劑I和II的水溶液濃度均為0.1-0.8％，水溶液溫度為30-70℃，使用條件超聲波輔助，純水電導率大于8MΩ；再進行漂洗、脫水、蒸浴等環(huán)節(jié)來完成洗凈。該清洗方法使用方便，成本低廉、清洗效果好。
文檔編號C11D3/08GK102102050SQ20091021557
公開日2011年6月22日 申請日期2009年12月22日 優(yōu)先權日2009年12月22日
發(fā)明者趙炎武 申請人:江西鳳凰富士能光學有限公司