專利名稱：地板打蠟機(jī)的打蠟盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種地板打蠟機(jī)的打蠟盤，它裝在一個(gè)可驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的帶有 支架旋轉(zhuǎn)軸的支架上。
背景技術(shù)：
所述類型的打蠟盤是已知的。這方面例如可參見DE4340367C2。在此 專利文件中描述和說明了 一種打蠟機(jī)，它在面朝要護(hù)理的地板的下側(cè)有三 個(gè)打蠟盤。每個(gè)打蠟盤安裝在一個(gè)可驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的支架上，這些支架借助一 個(gè)共同的中央驅(qū)動(dòng)裝置被置于繞支架軸線旋轉(zhuǎn)。發(fā)明內(nèi)容鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是，對(duì)所述類型的打 蠟盤尤其在其借助它實(shí)施地板處理過程中的性能方面作進(jìn)一步改進(jìn)。此技術(shù)問題通過一種用于地板打蠟機(jī)的打蠟盤得以解決，所述打蠟盤 裝在一個(gè)可驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的帶有支架旋轉(zhuǎn)軸線的支架上，按照本發(fā)明，設(shè)多個(gè) 單盤，它們可分別繞一條盤旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)地裝在支架上，以及，盤旋轉(zhuǎn)軸 線與支架旋轉(zhuǎn)軸線間隔一定的徑向距離并沿周向分布地排列在支架上。相 應(yīng)地通過多個(gè)有自己旋轉(zhuǎn)軸線的單盤，組合成一個(gè)必要時(shí)能以最筒單的方 式由使用者替換的打蠟盤?；谶@種設(shè)計(jì)，支承盤優(yōu)選地只用于安裝和固 定盤的旋轉(zhuǎn)軸。這些盤旋轉(zhuǎn)軸排列在支承盤的一條公共的圓周線上。基于 按照本發(fā)明的這種設(shè)計(jì)，與已知的現(xiàn)有技術(shù)中的打蠟盤相比，得到一種改 善的拋光或打蠟效果。按照本發(fā)明通過布置多個(gè)單盤瓜分了原先只通過一 個(gè)打蠟盤規(guī)定的處理面，與此同時(shí)通過繼續(xù)提供的支架繞其旋轉(zhuǎn)軸線的旋 轉(zhuǎn)，由此仍造成原先只適合于一個(gè)打蠟盤的工作圖。每個(gè)單盤可能的旋轉(zhuǎn) 運(yùn)動(dòng)被整個(gè)支架通過打蠟機(jī)驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)行的旋轉(zhuǎn)疊加，由此例如在借助打 蠟機(jī)作用在要護(hù)理的地板上的力保持不變的情況下，改善了整個(gè)打蠟盤的 打磨效果。
在本發(fā)明主題的一項(xiàng)有利的擴(kuò)展設(shè)計(jì)中，盤的軸線沿徑向離支架的軸 線至少約一個(gè)單盤半徑尺寸的距離，例如約等于半徑尺寸的1.1倍至1.6倍 的量。此外單盤的布局優(yōu)選地選擇為，使它們或安裝在它們上的鋪層不接 觸或基本不接觸，從而使單盤在其自身旋轉(zhuǎn)時(shí)不彼此支持或甚至互相干擾。 優(yōu)選地，盤的軸線彼此等距地布設(shè)在一條圓周線上，這更加有利于盤運(yùn)行 的均勻性。基于這種設(shè)計(jì)，以支架旋轉(zhuǎn)軸線為基準(zhǔn)，在兩個(gè)相鄰單盤旋轉(zhuǎn) 軸線之間所夾的角始終相等，例如當(dāng)布置四個(gè)單盤時(shí)此夾角為90° 。此外， 在三個(gè)或更多個(gè)單盤的情況下將它們布置為，當(dāng)?shù)谝粋€(gè)單盤沿一條連接盤 旋轉(zhuǎn)軸線的直線轉(zhuǎn)移到第二單盤時(shí)，第三個(gè)單盤必須避讓。按照轉(zhuǎn)移的這 種理論上的假設(shè)，第三個(gè)單盤沿周向夾嵌入到另兩個(gè)單盤構(gòu)成的楔形內(nèi)。 由此可以達(dá)到單盤彼此盡最大可能地接近，以便通過布置更多個(gè)單盤構(gòu)成 一個(gè)近似閉合的護(hù)理面。此外，通過支承盤提供的旋轉(zhuǎn)，基于各工作面的 交錯(cuò)連接，至少部分達(dá)到單盤的運(yùn)動(dòng)軌道重疊。兩條盤旋轉(zhuǎn)軸線相互的直線距離等于或小于盤半徑的三倍，例如也優(yōu) 選地相應(yīng)于盤半徑的兩至三倍，傾向于略大于盤半徑的兩倍，以便由此在 顧及單盤彼此不接觸的情況下，通過單盤構(gòu)成一個(gè)近似閉合或近似相連的面。因此，所述的直線距離優(yōu)選地約等于盤半徑的2.1至2.5倍。單盤可例如與支承盤的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)關(guān)聯(lián)地被置于旋轉(zhuǎn)之中；此外也可以 設(shè)獨(dú)立的驅(qū)動(dòng)裝置。但與此相關(guān)地優(yōu)選，單盤在其繞盤軸線的可旋轉(zhuǎn)性方 面不設(shè)置主動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置。每個(gè)單盤的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，基于在要護(hù)理的地板上因 摩擦獲得的不規(guī)則地產(chǎn)生的固持力，通過相對(duì)于支承盤的相對(duì)運(yùn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)。 基于此設(shè)計(jì)，防止由打蠟盤引起的已知的粘-滑(Stick-Slip)效應(yīng)。這種效應(yīng) 例如發(fā)生在其中存在未完全擦干地板蠟的地板處理時(shí)。在這種情況下產(chǎn)生 所謂的蹦跳，其結(jié)果是可能導(dǎo)致?lián)p壞驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。通過單盤彼此之間和相對(duì) 于支承盤獨(dú)立的可旋轉(zhuǎn)性，避免了上述的負(fù)面效應(yīng)。獲得一種無干擾的工 作過程，不會(huì)由于Stick-Slip效應(yīng)損壞驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。由此進(jìn)一步改善拋光或打 蠟效果。通過單盤的"無規(guī)則的"旋轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)配備這些單盤的打蠟機(jī)特別 平靜的運(yùn)行。此外，基于所建議的方案可以實(shí)現(xiàn)清除粘結(jié)的污垢和分布濕 的蠟液等。也可以使用粘性清潔劑。此外，業(yè)已證明所建議的方案工作時(shí) 對(duì)于通過未知預(yù)處理的地板不^:感。單盤可以設(shè)置為在垂直投影中沿徑向超過支架向外伸出，從而相對(duì)于
支承盤的底面增大了整個(gè)打蠟盤的工作面。與之不同，單盤也可以設(shè)置為， 使它們?cè)谕队爸幸云鋱A周與支承盤的圓周相切。還可以不同地將單盤沿圓 周選擇為，使它們?cè)谕队爸型耆菁{在支承盤的內(nèi)部。按優(yōu)選的擴(kuò)展設(shè)計(jì)，單盤可拆卸地、尤其通過構(gòu)成卡鎖連接等裝在支 架上面。與此相關(guān)地單盤可以安裝成，允許它們繞單盤旋轉(zhuǎn)軸線擺動(dòng)，以 補(bǔ)償可能的地板不平度，因此所述相對(duì)于地板水平面的擺動(dòng)限于低的擺度。 與之不同地，單盤也可以例如以這樣的方式裝入支架內(nèi)，即，僅單盤的護(hù) 理鋪層超出面朝要護(hù)理的地板的支承盤面地伸出。支承盤也可以固定在替換盒內(nèi)。由DE19728972A1已知一種安放打蠟 盤的替換盒。因此在本申請(qǐng)所公開的內(nèi)容中全面吸收了該專利申請(qǐng)的內(nèi)容， 也為此目的，該專利申請(qǐng)的特征吸納在本申請(qǐng)保護(hù)范圍內(nèi)。此外，可以例 如在支架的兩面設(shè)置單盤，它們分別面朝支架表面帶有相同的鋪層，但對(duì) 于對(duì)置的支架面帶有不同的鋪層。借助替換盒可以以最簡(jiǎn)便的方式進(jìn)行鋪 層更換。不需要更換單個(gè)盤。確切地說，在需要時(shí)將整個(gè)盒從機(jī)器上拆下 和用另一個(gè)替換。每個(gè)單盤設(shè)置為在垂直投影中部分超過替換盒邊緣地伸出。與之不同 到，也可以設(shè)想一種布置，按這種布置單盤在垂直投影中完全容納在替換 盒內(nèi)部。按另一種優(yōu)選的擴(kuò)展設(shè)計(jì)，在替換盒內(nèi)容納三個(gè)各包括三個(gè)單盤 的支架，因此得到一個(gè)總共九個(gè)單盤配置的替換盒。在這里，三個(gè)支架采 用支架旋轉(zhuǎn)軸線連線的三角形布局。這種幾乎接觸的布局對(duì)于在每個(gè)支架 上的單盤也是優(yōu)選的，所以通過支架旋轉(zhuǎn)和處于支架上可自由旋轉(zhuǎn)的單盤 得到一種相連的工作圖。這些單盤可基于它們幾乎接觸的布局，尤其在一個(gè)支架上安裝三個(gè)單 盤的結(jié)構(gòu)以及其中一個(gè)單盤夾在另外兩個(gè)單盤之間的楔形內(nèi)，當(dāng)支架旋轉(zhuǎn) 時(shí)形成一個(gè)幾乎完整的工作面，它有最小化的中心距離，不留下使打蠟機(jī) 不工作的滑動(dòng)運(yùn)動(dòng)。所述的中心區(qū)可通過選擇單盤和支架的直徑減到最小 程度。在這里業(yè)已證實(shí)有利的是，每個(gè)單盤有全面積的盤狀護(hù)理面。與之 不同地，也可以采用圓環(huán)形護(hù)理面。


下面借助僅表示實(shí)施例的附圖詳細(xì)說明本發(fā)明。附圖中
圖1以立體底視圖表示所述類型打蠟機(jī)涉及的第一種實(shí)施方式； 圖2表示打蠟機(jī)的底視圖；圖3表示第二種實(shí)施方式，其中表示一個(gè)用于打蠟機(jī)的盒內(nèi)部由單盤 構(gòu)成的打蠟盤的布局；圖4表示沿圖3中的線IV-IV的剖面；圖5表示與圖4對(duì)應(yīng)的剖面圖，但涉及單盤不同的固定設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)；圖6表示另一種實(shí)施方式的剖面；圖7表示與圖3對(duì)應(yīng)的視圖，但涉及另一種實(shí)施方式。
具體實(shí)施方式
首先參見圖1描述和說明一種連接在吸塵器上，尤其連接在家用吸塵 器上的打蠟機(jī)1。此打蠟機(jī)1有三個(gè)基本上伸出打蠟機(jī)底板2的打蠟盤3。 為此打蠟機(jī)底板2有一個(gè)凹口 4,它的輪廓形狀由打蠟盤3的布局規(guī)定。打蠟機(jī)1底側(cè)設(shè)有邊緣擋板5。在本實(shí)施例中沒有表示，但在本設(shè)計(jì)中 可以設(shè)想，可以設(shè)有用于容納粗和細(xì)灰塵的周邊抽吸裝置。用于驅(qū)動(dòng)打蠟盤3的供電借助未示出的要連接的吸塵器實(shí)現(xiàn)。為此打 蠟機(jī)1有一個(gè)接管6。它還用于與吸塵器的抽吸管連接。在圖示的實(shí)施例中，打蠟機(jī)1設(shè)有三個(gè)打蠟盤3。在這里采用三角形布 局。相應(yīng)地，打蠟盤3的旋轉(zhuǎn)軸線定位在近似等邊三角形的角點(diǎn)上。每個(gè)打蠟盤3有一個(gè)平面圖中為圓形的盤狀支架7，在其邊棱上制有圓 周齒8。支架7的中心設(shè)有輪轂9。輪轂9可在支架7兩側(cè)沿軸向延伸，其中，與此無關(guān)地在輪轂9內(nèi)， 必要時(shí)面朝打蠟盤3每個(gè)表面?zhèn)鹊?，在中央設(shè)計(jì)有一個(gè)支承件10。它設(shè)置 為相對(duì)于輪轂端面下沉。在背對(duì)護(hù)理鋪層的那一側(cè)，傳動(dòng)片11從輪轂9出發(fā)向徑向的外部延伸。 傳動(dòng)片用于通過打蠟機(jī)方面相應(yīng)的驅(qū)動(dòng)裝置形狀配合地帶動(dòng)打蠟盤3。每個(gè)打蠟盤3的圓周齒8用于傳動(dòng)各自的打蠟盤，這些打蠟盤之一由 打蠟機(jī)1的驅(qū)動(dòng)軸驅(qū)動(dòng)。借助此打蠟盤3通過各自圓周齒8的嚙合帶動(dòng)一 個(gè)相鄰的打蠟盤，并通過它間接地傳動(dòng)三個(gè)打蠟盤3中最后一個(gè)。相應(yīng)地， 不直接由打蠟機(jī)方面的驅(qū)動(dòng)軸驅(qū)動(dòng)的那個(gè)打蠟盤3與兩個(gè)相鄰的打蠟盤3 嚙合，而另外兩個(gè)打蠟盤3互相沒有傳動(dòng)接觸。
每個(gè)打蠟盤3的各自支架旋轉(zhuǎn)軸線在圖中用X表示。它們相當(dāng)于打蠟盤3的輪轂軸線。在護(hù)理鋪層一側(cè)，在打蠟盤3的每個(gè)支架7上可旋轉(zhuǎn)地設(shè)有三個(gè)單盤 12。這些單盤12可繞盤旋轉(zhuǎn)軸線y旋轉(zhuǎn)，盤旋轉(zhuǎn)軸線平行于各自的支架旋 轉(zhuǎn)軸線x定向。盤旋轉(zhuǎn)軸線y在一條與支架旋轉(zhuǎn)軸線x同心地延伸的圓周線上彼此等 距排列。在平面圖內(nèi)或在支架7的投影中，盤旋轉(zhuǎn)軸線y之間假想的連線 形成一個(gè)等邊三角形。單盤12在鋪層側(cè)還各有一個(gè)底座13。如圖所示，鋪層14有刷毛。有 關(guān)這方面也可以設(shè)想纖維網(wǎng)狀鋪層。通過設(shè)置鋪層14得到一個(gè)護(hù)理面15。按圖1至6中的實(shí)施例，它分別 基于打蠟盤3是圓環(huán)狀。也可以與之不同，如圖7中表示的那樣，構(gòu)造成 近似完整圓盤狀的護(hù)理面。單盤12可以自由地繞其盤旋轉(zhuǎn)軸線y旋轉(zhuǎn)以及相應(yīng)地不被主動(dòng)驅(qū)動(dòng)。 它們的旋轉(zhuǎn)通過與要清潔的地板表面不規(guī)則的摩擦連接實(shí)現(xiàn)，而打蠟盤3 的支架7則主動(dòng)地間接或直接地借助電機(jī)驅(qū)動(dòng)裝置旋轉(zhuǎn)。由此得到單盤12的一種"無規(guī)則的"旋轉(zhuǎn)。單盤12的直徑選擇為相同的。此外它們的尺寸確定為，當(dāng)整個(gè)打蠟盤 3或支架7旋轉(zhuǎn)時(shí)以及隨之而來的摩擦力引起單盤12繞支架旋轉(zhuǎn)軸線x旋 轉(zhuǎn)時(shí)，產(chǎn)生均勻的打蠟圖。在圖l至6所示的實(shí)施例中，盤旋轉(zhuǎn)軸線y的 定位和單盤直徑選擇為，使單盤12在支架7上的投影中處于通過它們的支 架7展開的面積內(nèi)部。將單盤12彼此的距離最小化。兩個(gè)相鄰單盤12旋 轉(zhuǎn)軸線y的距離大體等于盤半徑尺寸r的2.1至2.5倍。由此還得出， 一個(gè)單盤12以其圓周嵌入到另兩個(gè)單盤12之間形成的 楔形16內(nèi)。因此，當(dāng)假設(shè)第一個(gè)單盤沿連接第一、第二這兩個(gè)單盤12盤 旋轉(zhuǎn)軸線y的直線轉(zhuǎn)移到第二個(gè)單盤時(shí)，第三個(gè)單盤12必須避讓，因?yàn)槿?前面已說明的那樣它嵌入到楔形16內(nèi)。也可以與之不同，按圖7所示單盤12根據(jù)直徑和其盤旋轉(zhuǎn)軸線y的布 局選擇為，使單盤12超過支架7邊緣伸出。相應(yīng)地，盤旋轉(zhuǎn)軸線y定位在 離支架邊緣有一個(gè)徑向距離處，這一距離選擇為小于單盤12的半徑r。尤其后面那種設(shè)計(jì)可通過將單盤12安裝到支架7上面達(dá)到，如同圖4
的剖面圖所示的那樣。單盤12的支承盤13,在保留一個(gè)小的、幾毫米軸向距離的情況下，在被主動(dòng)驅(qū)動(dòng)的支架7的面朝要護(hù)理地板的表面下方延伸。 固定在支承盤13上的軸體17在相應(yīng)定位的孔18區(qū)域內(nèi)穿過支架7，以便 將軸體17固定在支架7的背對(duì)單盤12那一側(cè)。單盤12相對(duì)于支架7的可 自由旋轉(zhuǎn)性，由未詳細(xì)示出的軸承保證。也可以與之不同，單盤12也可以潛入支架7內(nèi)。因此支架7有與單盤 直徑相配地容納單盤12的凹陷19，凹陷19的軸向深度選擇為，使單盤12 放入時(shí)它們的鋪層14從面對(duì)的支架表面自由伸出。每個(gè)凹陷19在中心設(shè)有一個(gè)支承和固定銷20，它為對(duì)應(yīng)配設(shè)的單盤 12提供中心支承。為此，對(duì)應(yīng)配設(shè)的單盤設(shè)有容納固定銷20的孔21。也可以與之不同，按圖6的示意圖達(dá)到單盤12在支架7內(nèi)的這種嵌入 式布局，按此實(shí)施方式，每個(gè)單盤12在背對(duì)鋪層14的那個(gè)端部的區(qū)域內(nèi) 設(shè)有一個(gè)徑向凸緣22。此徑向凸緣22嵌入到支架7承接孔24的相應(yīng)成形 的環(huán)槽23內(nèi)。此承接孔24與單盤12的直徑相配。單盤12可通過置入環(huán)槽23內(nèi)的徑向凸緣22相對(duì)于支架7自由旋轉(zhuǎn)。如此構(gòu)成的打蠟盤3可用最簡(jiǎn)單的方式逐個(gè)與打蠟機(jī)1的各支承件10 對(duì)應(yīng)地配裝。優(yōu)選地，如圖所示，打蠟盤3裝在替換盒25內(nèi)。由本文開頭 已提及的DE19728927A1已知一種這樣替換盒。有關(guān)打蠟盤3的布局和替 換盒25在打蠟機(jī)1內(nèi)的布局可全面參見上述專利申請(qǐng)。打蠟盤3或支架7可自由旋轉(zhuǎn)地固定在替換盒25內(nèi)，此時(shí)支架7與相 鄰支架借助所設(shè)的圓周齒8形狀配合地嚙合。替換盒25的用于穿過支架7的各圓盤形通孔相應(yīng)地與支架直徑相配， 所以在按照?qǐng)D1至6所示的設(shè)計(jì)中，單盤12的伸出不超過此盒口的邊緣26, 而在按照?qǐng)D7所示的實(shí)施形式中單盤12超過支架7地伸出，還達(dá)到相應(yīng)地 超出盒口的邊緣26。由于單盤12的可自由旋轉(zhuǎn)性，例如用施加在護(hù)理地板上的護(hù)理劑粘結(jié) 的情況下，實(shí)施單盤12無規(guī)則的避讓旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。由此避免粘附在要護(hù)理的 地板上。這在對(duì)工作性能(打蠟機(jī)的可操縱性)沒有影響的情況下，為使用者 保持拋光或打蠟效果和功率消耗。更換護(hù)理鋪層可用最筒便的方式通過更換已相應(yīng)配備的替換盒完成。 但與之不同，尤其在逐個(gè)固定打蠟盤時(shí)也可以進(jìn)行單盤的更換，尤其在按
照?qǐng)D5的實(shí)施方式固定時(shí)，其中盤旋轉(zhuǎn)軸線y優(yōu)選地定位為，使支承盤13 的圓周邊與支架7的圓周邊相切。所有公開的特征均為(本)發(fā)明的重要內(nèi)容。在本申請(qǐng)所公開的內(nèi)容中也 全面吸收了相關(guān)的/所附上的優(yōu)先權(quán)文件(在先申請(qǐng)副本)所公開的內(nèi)容，也 為此目的，這些文件的特征吸納在本申請(qǐng)的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于地板打蠟機(jī)(1)的打蠟盤(3)，它裝在一個(gè)可驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的帶有支架旋轉(zhuǎn)軸線(x)的支架(7)上，其特征在于多個(gè)單盤(12)，這些單盤可各自繞一條盤旋轉(zhuǎn)軸線(y)旋轉(zhuǎn)地裝在支架(7)上，其中，盤旋轉(zhuǎn)軸線(y)與支架旋轉(zhuǎn)軸線(x)間隔一定的徑向距離并沿周向分布地排列在支架(7)上。
2. 按照權(quán)利要求1所述的打蠟盤，其特征為，所述盤旋轉(zhuǎn)軸線(y)沿徑 向離支架旋轉(zhuǎn)軸線(x)至少約有一個(gè)單盤(12)的半徑尺寸(r)的距離。
3. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，盤旋 轉(zhuǎn)軸線(y)彼此等距地布設(shè)在一條圓周線上。
4. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，在三 個(gè)或更多個(gè)單盤(12)的情況下將它們布置為，當(dāng)一個(gè)單盤沿一條連接盤旋轉(zhuǎn) 軸線(y)的直線轉(zhuǎn)移到第二個(gè)單盤時(shí)，第三個(gè)單盤必須避讓。
5. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，兩條 盤旋轉(zhuǎn)軸線(y)相互的直線距離等于或小于盤半徑(r)的三倍。
6. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，單盤 (12)在其繞盤旋轉(zhuǎn)軸線(y)的可旋轉(zhuǎn)性方面不設(shè)置主動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置。
7. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，單盤 (12)設(shè)置為在垂直投影中沿徑向超過支架(7)地向外伸出。
8. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，單盤 (12)安裝在支架(7)上。
9. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，單盤 (12)裝入到支架(7)內(nèi)。
10. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，支架 (7)固定在替換盒(25)內(nèi)。
11. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，單盤 (12)設(shè)置為在垂直投影中部分超過替換盒(25)的邊緣(26)地伸出。
12. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，在替 換盒(25)內(nèi)容納三個(gè)各包括三個(gè)單盤(12)的支架(7)。
13. 按照前列諸權(quán)利要求中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的打蠟盤，其特征為，單盤 (12)有圓環(huán)形護(hù)理面(15)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于地板打蠟機(jī)(1)的打蠟盤(3)，它裝在一個(gè)可驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的帶有支架旋轉(zhuǎn)軸線(x)的支架(7)上。為了對(duì)所述類型的打蠟盤尤其在其借助它實(shí)施地板處理過程中的性能方面作進(jìn)一步改進(jìn)，本發(fā)明建議，設(shè)多個(gè)單盤(12)，它們可各自繞一條盤旋轉(zhuǎn)軸線(y)旋轉(zhuǎn)地裝在支架(7)上，其中，盤旋轉(zhuǎn)軸線(y)與支架旋轉(zhuǎn)軸線(x)間隔一定的徑向距離并沿周向分布地排列在支架(7)上。
文檔編號(hào)A47L11/164GK101099653SQ20071014218
公開日2008年1月9日 申請(qǐng)日期2007年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月17日
發(fā)明者伯吉特·高利克, 安德烈亞·德克爾特, 漢斯-彼得·阿諾德 申請(qǐng)人:沃維克股份有限公司