專利名稱：光罩片清洗旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種清洗裝置，尤其涉及一種光罩片清洗旋轉(zhuǎn)機構(gòu)。
背景技術(shù)：
由于高科技性的技術(shù)不斷求新、求變，尾隨而來的接口設(shè)備配合，除需滿足相對科技性的技術(shù)條件外，在精益求精與市場競爭壓力下，接口設(shè)備的配合則扮演成功與否的主要關(guān)鍵；舉例來說，自從面板廠商普遍認為單純的TFT-LCD玻璃基板大型化，已成日后主流趨勢下，而所執(zhí)著的基礎(chǔ)制程已無法滿足液晶面板低成本的要求；因此，相關(guān)業(yè)者相繼開發(fā)噴墨法(ink jeT)與RoLLTo RoLL制法，進行制作采色濾光膜片，同時還推出偏光膜片/位相差板/擴散膜片等，一體化的光學(xué)技術(shù)，試圖由此等技術(shù)的革新，降低組件數(shù)量、制程與成本；然此，不同于傳統(tǒng)新世代制作設(shè)備，如立式搬運設(shè)備、混合型長膜與洗凈設(shè)備的開發(fā)，則成為新一代制程所急需的生產(chǎn)設(shè)備外，也是制程與品質(zhì)優(yōu)劣關(guān)鍵所在。
然，本案的技術(shù)范圍，則是屬于一種新一代制程的洗凈設(shè)備開發(fā)，在近來已存并已失敗的理念中，雖以旋轉(zhuǎn)理念并配合于噴劑進行清洗，但對于動力機構(gòu)的傳動、平衡與轉(zhuǎn)速等條件上，均存在著許多瓶頸與障礙；就以轉(zhuǎn)速來說，轉(zhuǎn)速一旦達到核定要求后，尾隨而來的自然性抖震問題，以及動力機構(gòu)直接傳動的微震問題，均使得旋轉(zhuǎn)穩(wěn)定度大打折扣，同時也會損及昂貴的被清洗物；再加上承置被清洗物的平臺設(shè)計，無法有效達到上、下位移運動，有效承置與卸除被清洗物必要機能下，將使得旋轉(zhuǎn)清洗實施相當困難與問題重重。
因此，經(jīng)已知理念與實際制作后，洗凈設(shè)備的開發(fā)遂而遭遇極大阻礙；截至目前為止，洗凈設(shè)備仍是目前業(yè)界極需追求的重大開發(fā)方案。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種光罩片清洗旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，以解決目前業(yè)界最為需求的洗凈設(shè)備，以最新技術(shù)與理念實施清洗現(xiàn)今高科技產(chǎn)物的光罩片、晶元片或是科技性的平面(光面)材質(zhì)暨光學(xué)玻璃等，以將表面微塵顆粒或化學(xué)沾劑澈底清除。
本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的，一種光罩片清洗旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，主要由一護圍框、一承置平臺、一軸套、上、下各一的調(diào)芯子、上承置軸座、下承置軸座、動力機構(gòu)、一轉(zhuǎn)軸、往復(fù)位移機構(gòu)及承架所組成；其中護圍框為承置平臺于洗凈程序中供予保護的組件，呈框式圓體態(tài)樣；承置平臺與轉(zhuǎn)軸組接并由轉(zhuǎn)軸帶動進行旋轉(zhuǎn)運動，平臺則由分岔式基架所組成，每一基架外端，均設(shè)有若干個能嵌固被洗物的定位梢；軸套位于上、下承置軸座間，軸套中孔開設(shè)呈多槽道結(jié)構(gòu)，以對應(yīng)于轉(zhuǎn)軸的槽道結(jié)構(gòu)，令往復(fù)位移機構(gòu)實施上、下滑合位移運動；上、下各一調(diào)芯子位于上、下承置軸座處各一，并令轉(zhuǎn)軸貫穿以能進行調(diào)整轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)中心度；上、下承置軸座為鎖固性的組件，以定位于轉(zhuǎn)軸、軸套與調(diào)芯子；動力機構(gòu)采以外接動力方式與軸套接合，以將旋轉(zhuǎn)性動力傳遞于軸套；轉(zhuǎn)軸頂端與承置平臺組接，經(jīng)由貫穿各組件后，尾端則由往復(fù)位移機構(gòu)所承接；往復(fù)位移機構(gòu)以動力方式頂舉于轉(zhuǎn)軸，令轉(zhuǎn)軸形成為上、下位移性運動。
承置平臺定位梢的梢頂，覆固具耐酸、堿性的定位膠片。
動力機構(gòu)以齒狀皮帶與軸套嚙合。
往復(fù)位移機構(gòu)與轉(zhuǎn)軸的承接，是以軸承固定于轉(zhuǎn)軸的尾端。
本實用新型所依靠的原理包括1.以旋轉(zhuǎn)機構(gòu)所造的離心力，可使被清洗物同步以離心力方式形成甩離力量，使得顆粒狀的微塵或經(jīng)溶解去除表面沾劑(墨線)的化學(xué)洗劑劑滴，快速脫離于被清洗物表面。
2.配合噴射式的化學(xué)清洗劑，可有效清除與溶解被清洗物表面化學(xué)沾劑與印刷墨線，具體實施快速去除與不留擦痕的清洗方式。
3.以旋轉(zhuǎn)機構(gòu)轉(zhuǎn)速所造成的氣流氣場，將可有效使所噴射的化學(xué)清洗劑，再度形成氣場霧化環(huán)境與效果，以增具其清洗機能與快速清除表面微塵顆粒。
以本案設(shè)計與訴求，是針對前述的第一點，以旋轉(zhuǎn)機構(gòu)所造成的離心力設(shè)計，而所考慮的必要動作與結(jié)構(gòu)機能，關(guān)系著整體實用性與機能性；因此，整體訴求上首重于旋轉(zhuǎn)機構(gòu)應(yīng)有的平衡、平臺上、下往復(fù)運動與旋轉(zhuǎn)運動三大項目。
第一項目平衡是指平臺承置被清洗物經(jīng)由轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)所造成的平衡關(guān)系，特別是在實施RPM600～1000轉(zhuǎn)時，承置平臺、被清洗物與轉(zhuǎn)軸三者仍能保持穩(wěn)定性的旋轉(zhuǎn)，不因平衡問題產(chǎn)生自然性的旋轉(zhuǎn)抖震；因此，本案的軸套、調(diào)芯子與外接式動力機構(gòu)，則扮演著最主要的平衡組件，以使旋轉(zhuǎn)機構(gòu)能以最穩(wěn)定方式進行自轉(zhuǎn)運動。
第二項目平臺上、下往復(fù)運動是指承置平臺往上位移進行承置或移除被清洗物；而承置平臺往下位移則進行旋轉(zhuǎn)與實施洗凈；因此，本案的軸套、往復(fù)位移機構(gòu)與轉(zhuǎn)軸，則扮演著此一上、下位移運動的主要組件，特別是軸套與外接式動力機構(gòu)是固定不動，只能令轉(zhuǎn)軸與所連接的承置平臺實施上、下性位移運動，以達成其工作運動。
第三項目旋轉(zhuǎn)運動是指承置平臺以自轉(zhuǎn)方式所形成的離心力，以進行洗凈被清洗物；其旋轉(zhuǎn)運動是由外接式動力機構(gòu)帶轉(zhuǎn)于軸套，且軸套與轉(zhuǎn)軸嚙合傳動，即能趨動轉(zhuǎn)軸形成旋轉(zhuǎn)運動。
經(jīng)由前述三大項目的簡介，本案所設(shè)計的光罩片清洗旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，將以上、下位移運動與自轉(zhuǎn)取得平衡方式，帶轉(zhuǎn)于承置平臺上的被清洗物，為本案主要實施方式與主要動作特征，以能完整配合于整個科技性的光罩片、晶元片或光學(xué)玻璃洗凈系統(tǒng)。
本實用新型所具的特性優(yōu)勢將以分點方式闡述如下1.具有整體旋轉(zhuǎn)機構(gòu)旋性平衡效果，可實施于核定轉(zhuǎn)速規(guī)格上限，使承置平臺與被清洗物兩者，均能以穩(wěn)定自轉(zhuǎn)方式產(chǎn)生高效離心力，以將微塵顆粒與洗劑劑滴澈底甩除，達到高效洗凈目的。
2.承置平臺具有上、下位移運動機能，可由往上位移承載被清洗物或卸除被清洗物，往下位移則實施自轉(zhuǎn)洗凈被清洗物，使洗凈操作時更為便利與安全性。
3.利用本案旋轉(zhuǎn)機構(gòu)轉(zhuǎn)速所造成的氣流氣場，將可有效使所噴射的化學(xué)清洗劑，再度形成霧化環(huán)境，以增具清洗機能與快速去除表面微塵顆粒。
4.本案整體的操控可在最短時間內(nèi)完成承載被清洗，完全排除修正工作，特別是完全排除人為性手控需求，轉(zhuǎn)而成為一種全自動化操作模式。
綜上所述，本實用新型不但提供現(xiàn)今極需待求的洗凈設(shè)備，同時由本案的設(shè)計衍出多重豐富的附加特有效能；于此，本發(fā)明人需強調(diào)本案設(shè)計雖理念簡單，但確實深具高等的進步利用效率。


圖1本實用新型實施例的立體外觀示意圖。
圖2本實用新型各部組件分解結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3本實用新型整體剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4圖3圈框部的放大結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5本實用新型轉(zhuǎn)軸與軸套兩者間的斷面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6本實用新型俯視平面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖7本實用新型以剖視結(jié)構(gòu)表現(xiàn)其運動狀態(tài)示意圖。
附圖標號護圍框1 承置平臺2基架21定位梢22膠片221 軸套3外緣配齒31槽道結(jié)構(gòu)32調(diào)芯子4 上承置軸座5下承置軸座6 動力機構(gòu)7齒狀皮帶71轉(zhuǎn)軸8槽道結(jié)構(gòu)81往復(fù)位移機構(gòu)9推臂91軸承92氣壓缸93 承架10具體實施方式
首先請參閱圖1、圖2所示，本案的機構(gòu)主要由一護圍框1、一承置平臺2、一軸套3、上、下各一的調(diào)芯子4、上承置軸座5、下承置軸座6、動力機構(gòu)7、一轉(zhuǎn)軸8、往復(fù)位移機構(gòu)9及承架10等主要構(gòu)件所組成；其中承置平臺2與轉(zhuǎn)軸8組接，以能直接帶動于承置平臺2進行旋轉(zhuǎn)運動，該承置平臺2由分岔式基架21所構(gòu)成，并于每一基架21外緣端均設(shè)有若干個定位梢22，梢頂則另覆固具耐酸、堿性的定位膠片221，以能進行固定于被清洗物的表面。
先請參閱圖6所示，承置平臺2在洗凈程序中承置于護圍框1內(nèi)部，并由轉(zhuǎn)軸8進行帶動；延護圍框1的底部則鎖設(shè)一上承置軸座5，并令此軸座5的內(nèi)部，另配設(shè)一上部調(diào)芯子4，以令轉(zhuǎn)軸8可透過此上部調(diào)芯子4后與前述承置平臺2進行組接；其次，位于上部承置軸座5與下部承置軸座6間，精密配套一軸套3，該軸套3具外緣配齒31，以能與動力機構(gòu)7的齒狀皮帶71進行嚙合，而軸套3中孔是對應(yīng)于轉(zhuǎn)軸8開設(shè)呈嚙合性的槽道結(jié)構(gòu)32，以能供轉(zhuǎn)軸8結(jié)構(gòu)型態(tài)相互嚙配進行動力傳遞，如圖4所示。
同如圖4所示，前述的轉(zhuǎn)軸8開設(shè)呈對應(yīng)于軸套3中孔的槽道結(jié)構(gòu)81；因此，轉(zhuǎn)軸8除具有旋轉(zhuǎn)的功能外，并可于滑移于軸套3內(nèi)，以因應(yīng)承置平臺所需的上、下位移運動；其次，如圖5所示，位于軸套3下方，鎖摯一組下部承置軸座6，并于下承置軸座6內(nèi)再配設(shè)一下部調(diào)芯子4，以進行修正上、下調(diào)芯子4間轉(zhuǎn)軸的中心度，具體輔助承置平臺2旋轉(zhuǎn)所應(yīng)具的平衡效果。
請返回圖3所示，位于轉(zhuǎn)軸8尾端由一往復(fù)位移機構(gòu)9的推臂91所延接，其延接端由軸承92套摯于轉(zhuǎn)軸8端，不影響轉(zhuǎn)軸8應(yīng)行的自轉(zhuǎn)功能；而此往復(fù)位移機構(gòu)9則由兩組對應(yīng)的氣壓缸93連接于推臂91，再帶動于轉(zhuǎn)軸8；因此，由往復(fù)位移機構(gòu)9的上、下位移運動，即可趨使承置平臺2形成上、下往復(fù)運動，如圖7所示。
本實用新型不但提供現(xiàn)今極需待求的洗凈設(shè)備，同時由本案的設(shè)計衍出多重豐富的附加特有效能；確實深具進步利用效率。
權(quán)利要求1.一種光罩片清洗旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，主要由一護圍框、一承置平臺、一軸套、上、下各一的調(diào)芯子、上承置軸座、下承置軸座、動力機構(gòu)、一轉(zhuǎn)軸、往復(fù)位移機構(gòu)及承架所組成；其特征在于護圍框為承置平臺于洗凈程序中供予保護的組件，呈框式圓體態(tài)樣；承置平臺與轉(zhuǎn)軸組接并由轉(zhuǎn)軸帶動進行旋轉(zhuǎn)運動，平臺則由分岔式基架所組成，每一基架外端，均設(shè)有若干個能嵌固被洗物的定位梢；軸套位于上、下承置軸座間，軸套中孔開設(shè)呈多槽道結(jié)構(gòu)，以對應(yīng)于轉(zhuǎn)軸的槽道結(jié)構(gòu)，令往復(fù)位移機構(gòu)實施上、下滑合位移運動；上、下各一調(diào)芯子位于上、下承置軸座處各一，并令轉(zhuǎn)軸貫穿以能進行調(diào)整轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)中心度；上、下承置軸座為鎖固性的組件，其中上承置軸座鎖固于承置平臺底部，下承置軸座則鎖固于承架上，以求定位于轉(zhuǎn)軸、軸套與調(diào)芯子；動力機構(gòu)采以外接動力方式與軸套接合，以將旋轉(zhuǎn)性動力傳遞于軸套；轉(zhuǎn)軸頂端與承置平臺組接，經(jīng)由貫穿各組件后，尾端則由往復(fù)位移機構(gòu)所承接；往復(fù)位移機構(gòu)以動力方式頂舉于轉(zhuǎn)軸，令轉(zhuǎn)軸形成為上、下位移性運動。
2.如權(quán)利要求1所述的光罩片清洗旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，其特征在于承置平臺定位梢的梢頂，覆固具耐酸、堿性的定位膠片。
3.如權(quán)利要求1所述的光罩片清洗旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，其特征在于動力機構(gòu)以齒狀皮帶與軸套嚙合。
4.如權(quán)利要求1所述的光罩片清洗旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，其特征在于往復(fù)位移機構(gòu)與轉(zhuǎn)軸的承接，是以軸承固定于轉(zhuǎn)軸的尾端。
專利摘要本實用新型提供一種光罩片清洗旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，專指一種以承載旋轉(zhuǎn)并配合噴劑暨氣流氣場進而實施旋性清洗機能的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)；該機構(gòu)主要由一護圍框、一承置平臺、一軸套、上、下各一的調(diào)芯子、上承置軸座、下承置軸座、動力機構(gòu)、一轉(zhuǎn)軸、往復(fù)位移機構(gòu)及承架所組成；其主要實施對象與范圍包括光罩片、晶元片或是科技性的平面(光面)材質(zhì)暨光學(xué)玻璃等，在以旋轉(zhuǎn)機構(gòu)所施的離心力與噴式洗劑輔助下，可將被清洗物表面微塵顆?；蚧瘜W(xué)沾劑等徹底去除，以恢復(fù)被清洗物原本表面的光整度。
文檔編號B08B3/02GK2838780SQ20052012734
公開日2006年11月22日 申請日期2005年10月9日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月9日
發(fā)明者許瑋隆, 鐘明志, 陳建福, 賴彥谷, 林翔偉, 陳瓊惠, 邱顯忠 申請人:微碩自動化股份有限公司