專利名稱：用于面板處理系統(tǒng)的吸取單元組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于面板處理系統(tǒng)的吸取單元組件，特別是指一種能夠有效清除平面顯示板等面板上的清潔劑或其它液體異物的吸取單元組件。
背景技術(shù)：
一般來講，如平板顯示器、半導(dǎo)體晶片、液晶顯示器和光掩模玻璃等面板都是經(jīng)過一系列諸如沉積、蝕刻、剝離、清潔以及沖洗等工序進(jìn)行處理的。
清潔工序的作用是清除在各種工序中所使用的化學(xué)制劑或其它物品。也就是說，通過在預(yù)定壓力下向面板表面噴射清潔劑來清除附著在面板表面的任何化學(xué)制劑和異物。
然而，有些殘留異物，如清潔劑，可能在清潔過的面板上仍然存在。
那些殘留異物可能包含處理面板所使用的剩余的處理劑。因此，如果不在清潔工序之后及時(shí)清除那些剩余的處理劑，就可能導(dǎo)致面板存在瑕疵或者因化學(xué)反應(yīng)而造成的面板處理質(zhì)量降低。
為了清除那些繼續(xù)存在于清潔過的面板之上的殘留異物，采用了一種使用真空的壓力吸取單元。這種吸取單元可以安裝在鄰近清潔工序中所使用的清潔槽中的清潔部分的位置，或者設(shè)置在位于清潔工序與烘干工序之間的獨(dú)立區(qū)域。
通常的吸取單元都被設(shè)計(jì)成包含多個(gè)吸嘴，這些吸嘴都被連接至一個(gè)主吸取通道。當(dāng)這些吸嘴中有吸力產(chǎn)生時(shí)，面板上的殘留異物就會(huì)被這些吸嘴吸除。
然而，由于多個(gè)吸嘴都被連接至同一個(gè)吸取通道，而且所有吸嘴的吸力都由一個(gè)驅(qū)動(dòng)設(shè)備通過該吸取通道產(chǎn)生，以致無法獲得充足的吸力。
而且，各吸嘴的吸力根據(jù)各自連接至該主吸取通道位置的不同而各不相同。也就是說，那些在近位置連接至主吸取通道的吸嘴的吸力要大于那些在遠(yuǎn)位置連接至主吸取通道的吸嘴的吸力。因而導(dǎo)致吸取操作無法在面板的整個(gè)表面均勻進(jìn)行，降低了面板的處理質(zhì)量。
尤其當(dāng)面板尺寸被擴(kuò)大時(shí)，這一問題就有可能變得更為嚴(yán)重。由于當(dāng)面板尺寸被擴(kuò)大后，吸取單元的主體部分也要進(jìn)行擴(kuò)大，并且吸取通道的長(zhǎng)度也要增加，因此，吸力變化就變得更加嚴(yán)重，最終降低工作效率和工作兼容性。
由于這些吸嘴的通道通常都被制成環(huán)狀，因此當(dāng)去除殘留異物時(shí)，形成了由該環(huán)狀連接的吸嘴所限定的吸取區(qū)域。環(huán)狀吸嘴結(jié)構(gòu)無法在限定出的吸嘴間的區(qū)域提供均勻的吸取作用，以致清除效率降低。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明致力于解決上述問題。
本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種能夠通過在諸如氣體的壓力流體的單方向上產(chǎn)生吸力，以有效清除面板表面異物的吸取單元組件。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種能夠在面板整個(gè)表面施加均勻吸力，從而提高異物清除效率和面板處理質(zhì)量的吸取單元組件。
為了實(shí)現(xiàn)以上目的，本發(fā)明提供了一種用于面板處理系統(tǒng)的吸取單元組件，該組件包括朝向面板表面設(shè)置且具有多個(gè)用于吸取附著在面板上的異物的吸取通道的吸取單元，以及朝向吸取單元設(shè)置且具有多個(gè)用于引導(dǎo)壓力流體流動(dòng)，從而在吸取通道中形成吸收異物的吸力的導(dǎo)向通道的導(dǎo)向單元。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種用于面板處理系統(tǒng)的吸取單元組件，該組件包括壓力流體生成單元、具有與所述壓力流體生成單元相通的供給通道以及排出室的流體供給單元、將所述供給通道供給的壓力流體引導(dǎo)至排出室的導(dǎo)向單元，以及具有與所述導(dǎo)向通道相通且通過壓力流體流動(dòng)而形成負(fù)壓的吸取通道的吸取單元。


所提供附圖用于進(jìn)一步理解本發(fā)明，并作為本申請(qǐng)的一部分說明本發(fā)明實(shí)施例，同時(shí)與文字描述一起用于解釋本發(fā)明的主要原理。其中圖1為根據(jù)本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的吸取單元組件的透視圖；圖2為根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的吸取單元組件的局部放大分解透視圖；圖3為根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的吸取單元組件內(nèi)部結(jié)構(gòu)的側(cè)向截面圖；圖4為用于說明圖3所示的吸取單元組件中形成的吸取通道布置的截面圖；圖5示出了圖4所示吸取通道通過吸取而形成于面板上的吸取區(qū)域的平面圖；圖6為用于說明根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的吸取單元組件的吸取操作的局部剖視圖；和圖7為根據(jù)本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的吸取單元組件的透視圖。
具體實(shí)施例方式
下面將結(jié)合附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，其中，在各個(gè)附圖中所使用的相同標(biāo)號(hào)都盡可能表示相同或相近部件。
首先參照?qǐng)D1至圖3，本發(fā)明的吸取單元組件包括具有多個(gè)用于吸取存在于面板G上的殘留液體W的吸取通道H1的吸取單元2，以及對(duì)應(yīng)于吸取通道H1設(shè)置且用于引導(dǎo)壓力流體A形成吸取殘留液體的低壓環(huán)境的導(dǎo)向單元4。
在本實(shí)施例中，如圖1所示，該吸取單元組件的安裝對(duì)應(yīng)于由通常的面板傳送裝置M所限定的面板傳送部分。
該吸取單元2用于在向吸取通道H1施加負(fù)壓以降低通道壓力時(shí)，吸取存在于面板G上的殘留液體W，且該吸取通道H1與沿導(dǎo)向單元4所引導(dǎo)方向流動(dòng)的壓力流體A所流經(jīng)的通道相通。
該吸取單元2可以設(shè)置為在橫穿面板G的方向形成吸取區(qū)域，該面板G隨圖1所示面板傳送部分移動(dòng)。
該吸取單元2可以由諸如不銹鋼基(SUS-based)金屬、工程塑料、合成樹脂以及其它類似材料制成。
形成于吸取單元2上的吸取通道H1可以制成各種結(jié)構(gòu)，以吸取附著在面板上的殘留液體W。在本實(shí)施例中，如圖3所示，每個(gè)吸取通道H1都包含水平通道部分6b和與該水平通道部分相通的垂直通道部分6a。該垂直通道部分6b與形成于導(dǎo)向單元4上的導(dǎo)向通道H2相對(duì)應(yīng)，該垂直通道部分6a用于直接吸取殘留液體W。
如圖2和圖4所示，該吸取通道H1在吸取單元2的縱向上生成，且各通道彼此間隔。如圖5所示，各吸取通道H1之間的間隔距離限定在一定范圍之內(nèi)，從而在該范圍內(nèi)在橫穿面板G的方向上形成矩形吸取區(qū)域，并且實(shí)現(xiàn)在面板G整個(gè)表面區(qū)域的均勻吸取操作。
如圖4所示，該吸取單元2具有一個(gè)公共通道部分8，各垂直通道部分6a在各自的吸取端通過該公共通道部分8彼此相通。
通過該公共通道部分8，吸力可以被均勻施加，甚至在各吸取通道H1之間限定的區(qū)域上也是如此，當(dāng)殘留液體W被通過各吸取通道H1所施加的吸力吸收時(shí)，殘留液體W就能夠從面板G整個(gè)表面被均勻去除。
導(dǎo)向單元4用于引導(dǎo)壓力流體A的流動(dòng)，從而引導(dǎo)通過吸取單元2的吸取通道H1去除殘留液體W的吸取操作。也就是說，如圖2所示，導(dǎo)向單元4包含多個(gè)將空間分割成若干部分的薄板10。分割出的部分通過引導(dǎo)壓力流體A的導(dǎo)向通道H2彼此相連(參見圖3)。
壓力流體A可以由沒有任何雜質(zhì)的純凈氣體或用于清潔面板G的清潔干空氣制成。壓力流體A通過氣體供給單元12供給，氣體供給單元12位于圖2中相對(duì)導(dǎo)向單元4來說吸取單元2的對(duì)側(cè)。
氣體供給單元12被制成與導(dǎo)向單元4相適應(yīng)的矩形盒狀，且在其內(nèi)部有一個(gè)供壓力流體A流動(dòng)的供給通道H3。供給通道H3連接至外部供給管P1，以接收來自外部供給管P1的壓力流體A。從外部供給管道P1接收到的壓力流體A通過該供給通道H3被均勻供給至導(dǎo)向通道12。
如圖2所示，導(dǎo)向單元4具有限定引導(dǎo)壓力流體A的導(dǎo)向通道H2的通道凹槽14。如圖2所示，由于通道凹槽14朝向各吸取通道H1而形成，因而可以進(jìn)行有效的吸取操作。
通道凹槽14通過使壓力流體A沿著連接被薄板10所分割出的各部分的方向流動(dòng)而產(chǎn)生吸力。在本實(shí)施例中，如圖2所示，位于最上層薄板10供壓力流體A流過的通道凹槽14被制成環(huán)狀，而在位于該最上層薄板10以下的其它薄板10上的通道凹槽14被設(shè)置為具有一個(gè)側(cè)開口，從而限定與吸取單元2的吸取通道H1所對(duì)應(yīng)的引導(dǎo)部分。
通道凹槽14可以通過例如蝕刻工序制成。因此，薄板10可由適合蝕刻工序的金屬材料制成。
如圖2所示，通道凹槽14被制成擁有一個(gè)凹陷的中部。通道凹槽14的這一形狀增加了圖中壓力流體A向右側(cè)流動(dòng)的流速。所以，當(dāng)壓力流體流經(jīng)導(dǎo)向通道H2時(shí)，吸取單元2的吸力就會(huì)進(jìn)一步增強(qiáng)。
導(dǎo)向單元4的薄板10可以固定在流體供給單元12與吸取單元2之間，同時(shí)配合在導(dǎo)向銷16上(參見圖3)。
由圖2和圖3可見，在最下層薄板10上形成的通道凹槽14比在其它薄板10上形成的通道凹槽14短。這樣，如圖3所示，形成于最下層薄板10上的通道凹槽14就無需面對(duì)吸取單元2的垂直通道部分6a，但是位于水平通道部分6b上，因此可以防止壓力流體A流向垂直通道部分6a。
如圖4所示，吸取通道H1被制成與面板G橫向?qū)?yīng)。壓力流體A沿著導(dǎo)向單元4(導(dǎo)向通道II2)所引導(dǎo)的方向流動(dòng)，且吸取通道被設(shè)計(jì)為均勻接受吸力。
因此，如圖1所示，當(dāng)面板G通過該清潔部分以清除附著的殘留液體W時(shí)，如圖5所示，由于形成了與覆蓋整個(gè)面板寬度的矩形區(qū)域相對(duì)應(yīng)的均勻吸取區(qū)域，因此殘留液體W的清除效率得以顯著提高。
本發(fā)明還進(jìn)一步提供了將通過吸取單元2的吸取通道H1所吸取的殘留液體W通過導(dǎo)向通道H2和吸取通道H1的排出端有效排出的方法。
例如，如圖3所示，吸取單元2和流體供給單元12分別具有延伸部2a和12a。通過延伸部2a和12a限定出排出室18，且該排出室18具有可以由蓋20所覆蓋的開口，蓋20可以選擇性地開啟或關(guān)閉。
如圖3和圖6所示，氣體和液體排出管P2和P3安裝在排出室18中，從而將壓力流體A和從面板G上所吸取的液體W分隔開。也就是說，壓力流體A要么被重新利用，要么在通過氣體排出管P2循環(huán)的過程中通過凈化過濾器排放到空氣中。吸取的液體W通過液體排出管P3被收集至液體儲(chǔ)存器中。
下面描述上述本發(fā)明吸取單元組件的工作原理。
當(dāng)面板G經(jīng)過清潔部分清潔之后，如圖1所示，該面板G被傳送至用于去除附著在面板上的殘留液體W的吸取部分。也就是說，殘留液體W是在面板G通過吸取部分時(shí)被清除的。
具體來講，當(dāng)壓力流體A被通過流體供給管P1供應(yīng)至流體供給單元12，壓力流體A將經(jīng)由圖3所示的供給通道H3沿著導(dǎo)向單元4的導(dǎo)向通道H2流動(dòng)。
這樣，當(dāng)壓力流體A通過導(dǎo)向通道H2時(shí)，就會(huì)在吸取單元2的吸取通道H1的水平通道部分6b中形成低壓環(huán)境，該吸取通道H1通過壓力流體A在一個(gè)方向的流動(dòng)與導(dǎo)向通道H2相通。
由于該低壓環(huán)境，使得用于吸取面板G表面殘留液體W的吸力在如圖3和圖6所示的方向作用于連接至水平通道部分6b的垂直通道部分6a。因而，殘留液體W通過吸取通道H1被吸收，并與導(dǎo)向通道H2側(cè)的壓力流體A一并進(jìn)入排出室18。殘留液體W和壓力流體A被排出室18中的氣體和液體排出管P2和P3分離，然后被排出。
如上所述，隨著壓力流體A流過導(dǎo)向單元4的導(dǎo)向通道H2，吸取單元2中就會(huì)產(chǎn)生吸力，從而有效清除附著在面板G上的殘留液體W。
特別地，如圖5所示，由于導(dǎo)向單元4具有朝向吸取單元2的吸取通道H1的導(dǎo)向通道H2，并且該導(dǎo)向通道H2同時(shí)被連接至形成于流體供給單元12上的同一流體供給通道H3，因而形成了對(duì)于面板G表面的均勻吸取區(qū)域，增強(qiáng)了吸力，從而顯著提高了對(duì)殘留液體W的清除效率。
在上述實(shí)施例中，吸取單元2被制成一個(gè)單獨(dú)的單元，并且形成于吸取單元2上的吸取通道H1部分從整體上彼此相通。然而，本發(fā)明并不局限于此。
例如，吸取單元2可以設(shè)計(jì)為具有和導(dǎo)向單元4相同的通道結(jié)構(gòu)。也就是說，吸取殘留液體W的通道部分可以通過若干薄板分別制成。這樣，就使得吸取單元2更易于制造，而且還能改善抗物理沖擊的能力。特別是由于通過分離的薄板可以將吸取通道H1制成各種形狀，從而使得工作兼容性、生產(chǎn)效率以及維護(hù)效率得以提高。
另外，雖然僅在對(duì)應(yīng)于面板的清潔部分提供了一個(gè)吸取單元組件，以清除附著在面板上的殘留液體W，但本發(fā)明并不局限于此。
例如，如圖7所示，可以在面板G的傳送部分安裝兩個(gè)吸取單元組件。另外，可以根據(jù)殘留液體的清除環(huán)境安裝兩個(gè)以上吸取單元組件。而且還可以將該單元同時(shí)安裝在面板的相對(duì)表面，從而清除附著在面板G的相對(duì)表面的殘留液體。
根據(jù)本發(fā)明，由于流經(jīng)導(dǎo)向單元通道的壓力流體在對(duì)應(yīng)于面板表面的吸取單元中產(chǎn)生的均勻吸力，因此使得任何附著在清潔過的面板上的諸如清潔劑或廢液等殘留液體都能被有效清除。
而且，由于吸取通道吸收附著在面板上殘留液體的吸力由導(dǎo)向單元的導(dǎo)向通道所產(chǎn)生，因此不管面板尺寸有多大，都會(huì)形成均勻的吸取區(qū)域。
特別地，本發(fā)明吸取單元組件能夠更為有效地清除附著在大尺寸面板上的殘留液體。
顯然，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改進(jìn)或變更。因此，本發(fā)明囊括了屬于本發(fā)明權(quán)利要求或其等同替換范圍之內(nèi)的任何改進(jìn)或變更。
權(quán)利要求
1.一種用于面板處理系統(tǒng)的吸取單元組件，包括朝向面板表面設(shè)置的吸取單元，該吸取單元具有多個(gè)吸取附著在面板上的異物的吸取通道；和朝向吸取單元設(shè)置的導(dǎo)向單元，該導(dǎo)向單元具有多個(gè)導(dǎo)向通道，導(dǎo)向通道用于引導(dǎo)壓力流體流動(dòng)以在吸取通道中形成吸收異物的吸力。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸取單元組件，其中，該導(dǎo)向通道限定一個(gè)或一個(gè)以上導(dǎo)向部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸取單元組件，其中，吸取通道和導(dǎo)向通道被設(shè)置為具有一個(gè)使吸取通道的排出側(cè)和導(dǎo)向通道的排出側(cè)彼此相通的單獨(dú)部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸取單元組件，其中，吸取通道和導(dǎo)向通道沿穿過面板的方向形成，以限定出矩形吸取區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸取單元組件，其中，吸取通道分別與各自對(duì)應(yīng)的導(dǎo)向通道相通。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸取單元組件，其中，吸取單元具有一個(gè)使各吸取通道的進(jìn)入端彼此相通的公共通道。
7.一種用于面板處理系統(tǒng)的吸取單元組件，包括壓力流體生成單元；流體供給單元，具有與壓力流體生成單元相通的供給通道，并具有排出室；導(dǎo)向單元，用于將供給通道供給的壓力流體引導(dǎo)至排出室；和吸取單元，具有與導(dǎo)向通道相通且通過壓力流體的流動(dòng)而形成負(fù)壓的吸取通道。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的吸取單元組件，其中，導(dǎo)向單元由多個(gè)薄板形成，每個(gè)薄板都有通道凹槽。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的吸取單元組件，其中，形成于最下層薄板上的通道凹槽的長(zhǎng)度小于位于該最下層薄板之上的其它薄板上所形成的通道凹槽的長(zhǎng)度。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的吸取單元組件，其中，導(dǎo)向單元具有帶有狹窄中部的通道凹槽。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的吸取單元組件，其中，吸取單元的吸取通道包括水平通道和垂直通道。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的吸取單元組件，其中，水平通道與形成于最下層薄板上的通道凹槽相通。
13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的吸取單元組件，其中，排出室具有用于將壓力流體和所吸取的液體彼此分離的單元。
全文摘要
一種用于面板處理系統(tǒng)的吸取單元組件，包括壓力流體生成單元；流體供給單元，該流體供給單元具有與所述壓力流體生成單元相通的供給通道，并具有排出室；將由供給通道供給的壓力流體引導(dǎo)至排出室的導(dǎo)向單元；以及吸取單元，該吸取單元具有與所述導(dǎo)向通道相通且通過壓力流體的流動(dòng)而形成負(fù)壓的吸取通道。
文檔編號(hào)B08B5/04GK1721092SQ20051008409
公開日2006年1月18日 申請(qǐng)日期2005年7月12日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月13日
發(fā)明者樸庸碩 申請(qǐng)人:顯示器生產(chǎn)服務(wù)株式會(huì)社