一種口腔矯治器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種口腔矯治器，更具體地，涉及一種用于矯正上下頒相對(duì)位置關(guān)系的口腔矯治器。
【背景技術(shù)】
[0002]正畸矯治技術(shù)中，功能性矯治方法是青少年早期介入、早期治療的一種非常有效的手段。雙頒板(Twin-Block)矯治技術(shù)就是一種常用的功能性矯治方法，通過(guò)覆蓋在后牙的咬合斜面將適宜的咬合力傳遞到牙列以及頒骨上，從而可最大程度對(duì)發(fā)育中的牙列施予功能矯治力量，其矯治效果得到了廣泛的認(rèn)可。傳統(tǒng)的雙頒板矯治技術(shù)一般是通過(guò)樹(shù)脂基托、擋板、金屬卡環(huán)相連接結(jié)合制作而成，這種矯治器佩戴時(shí)異物感強(qiáng)，且無(wú)法兼顧美觀。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的之一在于提供一種佩戴美觀、舒適的用于矯正上下頒相對(duì)位置關(guān)系的口腔矯治器。
[0004]本實(shí)用新型的一方面提供了一種用于矯正上下頒之間相對(duì)位置關(guān)系的口腔矯治器，其包括本體，該本體為一體成型的殼狀，具有容納牙齒的空腔，并且在尖牙至磨牙之間的區(qū)域內(nèi)向?qū)︻C方向凸起形成頒墊。
[0005]在一些實(shí)施例中，所述本體的厚度為0.2?2.0mm之間。
[0006]在一些實(shí)施例中，所述頒墊沿牙弓弧度的橫截面形狀在靠近對(duì)頒一端的寬度大于遠(yuǎn)離對(duì)頒一端的寬度。在一些實(shí)施例中，所述本體形成有固定結(jié)構(gòu)，以與設(shè)置在牙齒上的附件配合，將所述本體固定在牙齒上。在一些實(shí)施例中，所述固定結(jié)構(gòu)為所述本體上形成的鏤空結(jié)構(gòu)或內(nèi)凹結(jié)構(gòu)，以與設(shè)置在牙齒上的凸出的附件相配合卡固。
[0007]在一些實(shí)施例中，所述頒墊在靠近尖牙或者遠(yuǎn)離尖牙的一端形成有導(dǎo)斜面，在咬合過(guò)程中，所述導(dǎo)斜面和配對(duì)的口腔矯治器的頒墊導(dǎo)斜面相對(duì)滑動(dòng)，使得在咬合狀態(tài)下，上、下頒相對(duì)位置與矯治目標(biāo)基本相符。
[0008]在一些實(shí)施例中，所述口腔矯治器是用于調(diào)整上、下頒沿前后方向、左右方向和/或上下方向的相對(duì)位置。
[0009]在一些實(shí)施例中，所述容納牙齒的空腔具有將牙齒從第一牙齒布局重新定位到第二牙齒布局的幾何形狀。
[0010]在一些實(shí)施例中，所述頒墊內(nèi)設(shè)有磁體，其靠近導(dǎo)斜面一端的極性與配對(duì)的口腔矯治器的頒墊內(nèi)的磁體靠近該口腔矯治器的頒墊的導(dǎo)斜面的一端的極性相同，從而當(dāng)該兩個(gè)口腔矯治器相互配合時(shí)，可產(chǎn)生相互排斥的力，以矯正上下頒的相對(duì)位置關(guān)系。
[0011]本實(shí)用新型的又一方面提供了一種用于矯正上下頒之間相對(duì)位置關(guān)系的口腔矯治器，其包括上頒矯治器本體與下頒矯治器本體，其中:所述上頒矯治器本體為一體成型的殼狀，具有容納牙齒的空腔，并且在尖牙至磨牙之間的區(qū)域內(nèi)向?qū)︻C方向凸起形成上頒墊，其中，該上頒墊具有上頒墊導(dǎo)斜面；所述下頒矯治器本體為一體成型的殼狀，具有容納牙齒的空腔，并且在尖牙至磨牙之間的區(qū)域內(nèi)向?qū)︻C方向凸起形成下頒墊，其中，該下頒墊具有下頒墊導(dǎo)斜面；其中，在咬合過(guò)程中，所述上頒墊導(dǎo)斜面和下頒墊導(dǎo)斜面相對(duì)滑動(dòng)，使得在咬合狀態(tài)下，上、下頒相對(duì)位置與矯治目標(biāo)基本相符。
[0012]在一些實(shí)施例中，所述上頒矯治器本體以及下頒矯治器本體的厚度為0.2?2.0mm之間。
[0013]在一些實(shí)施例中，所述上頒矯治器本體具有將選定的上頒牙齒從原始上頒牙齒布局重新定位到第一上頒牙齒布局的幾何形狀。
[0014]在一些實(shí)施例中，所述下頒矯治器本體具有將選定的下頒牙齒從原始下頒牙齒布局重新定位到第一下頒牙齒布局的幾何形狀。
[0015]在一些實(shí)施例中，所述上頒墊和下頒墊沿牙弓弧度的橫截面形狀在靠近對(duì)頒一端的寬度大于遠(yuǎn)離對(duì)頒一端的寬度。在一些實(shí)施例中，所述上頒矯治器本體以及下頒矯治器本體形成有固定結(jié)構(gòu)，以與設(shè)置在牙齒上的附件配合，將所述上頒矯治器本體以及下頒矯治器本體固定在牙齒上。在一些實(shí)施例中，所述固定結(jié)構(gòu)為所述上頒矯治器本體以及下頒矯治器本體上形成的鏤空結(jié)構(gòu)或內(nèi)凹結(jié)構(gòu)，以與設(shè)置在牙齒上的凸出的附件相配合卡固。
[0016]在一些實(shí)施例中，所述口腔矯治器包括逐次調(diào)節(jié)上頒牙齒位置的多個(gè)所述的上頒矯治器本體，這些上頒矯治器本體包括:第一上頒矯治器本體，其容納牙齒的空腔具有將選定的上頒牙齒從原始上頒牙齒布局重新定位到第一中間上頒牙齒布局的幾何形狀；一個(gè)或多個(gè)中間上頒矯治器本體，其容納牙齒的空腔具有將選定的上頒牙齒從所述第一中間上頒牙齒布局逐次重新定位到后續(xù)中間上頒牙齒布局的幾何形狀；以及最后上頒矯治器本體，其容納牙齒的空腔具有將選定的上頒牙齒從最后中間上頒牙齒布局重新定位到最后上頒牙齒布局的幾何形狀。
[0017]在一些實(shí)施例中，所述口腔矯治器包括逐次調(diào)節(jié)下頒牙齒位置的多個(gè)所述的下頒矯治器本體，這些下頒矯治器本體包括:第一下頒矯治器本體，其容納牙齒的空腔具有將選定的下頒牙齒從原始下頒牙齒布局重新定位到第一中間下頒牙齒布局的幾何形狀；一個(gè)或多個(gè)中間下頒矯治器本體，其容納牙齒的空腔具有將選定的下頒牙齒從所述第一中間下頒牙齒布局逐次重新定位到后續(xù)中間下頒牙齒布局的幾何形狀；以及最后下頒矯治器本體，其容納牙齒的空腔具有將選定的下頒牙齒從最后中間下頒牙齒布局重新定位到最后下頒牙齒布局的幾何形狀。
[0018]在一些實(shí)施例中，所述上頒墊內(nèi)設(shè)有第一磁體，所述下頒墊內(nèi)設(shè)有第二磁體，其中，所述第一磁體靠近上頒墊導(dǎo)斜面的一端的極性與所述第二磁體靠近下頒墊導(dǎo)斜面的一端的極性相同，從而當(dāng)所述上頒墊導(dǎo)斜面與下頒墊導(dǎo)斜面相互配合時(shí)，可產(chǎn)生相互排斥的力，以矯正上下頒的相對(duì)位置關(guān)系。
[0019]本實(shí)用新型的又一方面提供了一種口腔矯治器，包括第一矯治器本體，其為一體成型的殼狀。所述第一矯治器本體具有容納牙齒的空腔，該空腔具有將選定的牙齒從第一牙齒布局重新定位到第二牙齒布局的幾何形狀；并且所述第一矯治器本體在尖牙至磨牙之間的區(qū)域內(nèi)向?qū)︻C方向凸起形成頒墊，其中，該頒墊在靠近尖牙或者遠(yuǎn)離尖牙的一端形成有導(dǎo)斜面，在咬合狀態(tài)下，該導(dǎo)斜面可以和配對(duì)的第二矯治器本體的頒墊的導(dǎo)斜面配合產(chǎn)生矯形力，以調(diào)整下頒相對(duì)上頒的位置。
【附圖說(shuō)明】
[0020]圖1示意性地展示了本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例中上頒矯治器本體的結(jié)構(gòu)；
[0021]圖2示意性地展示了圖1所示的上頒矯治器本體佩戴在上頒牙齒上的情況；
[0022]圖3示意性地展示了本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例中下頒矯治器本體的結(jié)構(gòu)；
[0023]圖4示意性地展示了圖3所示的下頒矯治器本體佩戴在下頒牙齒上的情況；
[0024]圖5示意性地展示了圖1所示的上頒矯治器本體與圖2所示的下頒矯治器本體在咬合時(shí)的相互位置關(guān)系；
[0025]圖6示意性地展示了本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例中上、下頒墊導(dǎo)斜面的鋸齒狀結(jié)構(gòu)；
[0026]圖7示意性地展示了沿圖3中A-A方向的下矯治器本體的橫截面形狀。
【具體實(shí)施方式】
[0027]以下結(jié)合附圖所示實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。
[0028]圖1至圖5示意性地展示了本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例中的上頒矯治器本體100和下頒矯治器本體200，該上頒矯治器本體100和下頒矯治器本體200可用于將下頒向前拉伸，以矯治下頒后縮病例。
[0029]圖1為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例中上頒矯治器本體100的右視圖，圖2則示意性地展示了上頒矯治器本體100佩戴在上頒牙列111上的情況。
[0030]請(qǐng)參圖1及圖2，上頒矯治器本體100大致為一體成型的薄殼狀，其具有容納上頒牙列111的至少一部分的空腔101，其中，空腔101的幾何形狀基本與上頒牙列111的相應(yīng)部分相匹配，使得上頒矯治器本體100可以佩戴并固定在上頒牙列111上。
[0031]在一些實(shí)施例中，空腔101可以容納全部上頒牙列111。在又一些實(shí)施例中，空腔101可以只容納部分上頒牙列111。這可以根據(jù)病例的具體情況來(lái)決定。
[0032]上頒矯治器本體100在磨牙區(qū)向?qū)︻C方向凸起形成上頒墊103a和103b，其中，上頒墊103a和103b在靠近前牙的一端分別形成有上頒墊導(dǎo)斜面105a和105b。
[0033]上頒矯治器本體100的側(cè)壁上形成有固定結(jié)構(gòu)107a?107f。當(dāng)上頒矯治器本體100佩戴在上頒牙列111上時(shí)，固定結(jié)構(gòu)107a?107f分別與固定在上頒牙列111上的凸起附件113a?113f相配合卡固，從而進(jìn)一步加強(qiáng)上頒矯治器本體100在上頒牙列111上的固定。
[0034]在一些實(shí)施例中，固定結(jié)構(gòu)107a?107f為內(nèi)凹結(jié)構(gòu)，在一些實(shí)施例中，固定結(jié)構(gòu)107a?107f也可以為鏤空結(jié)構(gòu)。
[0035]在一些實(shí)施例中，凸起附件113a?113f設(shè)置在上頒牙列111的外側(cè)壁上，在一些實(shí)施例中，凸起附件113a?113f也可以設(shè)置在上頒牙列111的內(nèi)側(cè)壁上。
[0036]圖3為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例中下頒矯治器本體200的右視圖，圖4則示意性地展示了下頒矯治器本體200佩戴在下頒牙列211上的情況。
[0037]請(qǐng)參圖3及圖4，下頒矯治器本體200大致為一體成型的殼狀，其具有容納下頒牙列211的至少一部分的空腔201，其中，空腔201的幾何形狀基本與下頒牙列211的對(duì)應(yīng)部分相匹配，使得下頒矯治器本體200可以佩戴并固定在下頒牙列211上。
[0038]在一些實(shí)施例中，空腔201可以容納全部下頒牙列211。在又一些實(shí)施例中，空腔201可以只容納部分下頒牙列211。這可以根據(jù)病例的具體情況來(lái)決定。
[0039]下頒矯治器本體200在前磨牙至尖牙之間的區(qū)域內(nèi)向?qū)︻C方向凸起形成下頒墊203a和203b，其中，下頒墊203a和203b在靠近磨牙的一端分別形成有下頒墊導(dǎo)斜面205a和 205b ο
[0040]下頒矯治器本體200的側(cè)壁上形成有固定結(jié)構(gòu)207a?207d。當(dāng)下頒矯治器本體200佩戴在下頒牙列211上時(shí)，固定結(jié)構(gòu)207a?207d分別與固定在下頒牙列211上的凸起附件213a?213d相配合卡固，從而進(jìn)一步加強(qiáng)下頒矯治器本體200在上頒牙列211上的固定。
[0041 ] 在一些實(shí)施例中，固定結(jié)構(gòu)207a?207d是內(nèi)凹結(jié)構(gòu)