能檢測鄰面去釉的無托槽矯治器臨床模板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種無拖槽矯治器。
【背景技術(shù)】
[0002]牙齒正畸能夠矯正牙齒、解除錯(cuò)牙頒畸形。正畸治療主要通過各種矯正裝置來調(diào)整面部骨骼、牙齒及頒面部的神經(jīng)及肌肉之間的協(xié)調(diào)性，也就是調(diào)整上下頒骨之間，上下牙齒之間、牙齒與頒骨之間和聯(lián)系它們的神經(jīng)及肌肉之間不正常的關(guān)系，其最終矯治目標(biāo)是達(dá)到口頒系統(tǒng)的平衡、穩(wěn)定和美觀。錯(cuò)牙頒畸形的矯治主要依靠在口腔內(nèi)部或外部戴用矯治器，對牙齒、牙槽骨及頒骨施加適當(dāng)?shù)摹吧锪Α?，使其產(chǎn)生生理性移動(dòng)，從而矯治錯(cuò)牙頒畸形。
[0003]錯(cuò)牙頒矯正時(shí)常遇到的問題則是牙列擁擠問題，而鄰面去釉則是解除牙列擁擠的方法之一。牙鄰面釉質(zhì)的厚度為0.75—1.25mm之間，一般每鄰面的去釉量為0.25mm，最多不超過0.4mm,結(jié)合釉質(zhì)的厚度和鄰面的解剖形態(tài)去釉。通常，前牙特別是下前牙去釉量最少，去釉完成后要恢復(fù)良好的形態(tài)和接觸點(diǎn)，并打磨拋光和涂氟防齲，最后完成的病例可能需要少量的調(diào)合，以利穩(wěn)定。
[0004]目前通常鄰面去釉流程是:矯治方案設(shè)計(jì)時(shí)，醫(yī)生制定好鄰面去釉方案說明，并將文檔發(fā)送給臨床醫(yī)生，臨床醫(yī)生對照去釉方案說明去釉，去釉完成后再給患者帶上矯治器進(jìn)行粘貼附件。這種鄰面去釉的方法存在以下缺點(diǎn):
[0005]1.臨床醫(yī)生在進(jìn)行去釉操作時(shí)需要邊閱讀文檔邊進(jìn)行去釉的手工操作，影響效率，增加出差率。
[0006]2.目前的矯治器無法檢測去釉位置和去釉量，如果去釉位置或去釉量錯(cuò)誤，依然可以配到到患者口內(nèi)，錯(cuò)誤不能被及時(shí)發(fā)現(xiàn)，影響整個(gè)醫(yī)療方案。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]為了克服現(xiàn)有鄰面去釉方案不直觀，即使操作錯(cuò)誤或不到位也無法檢驗(yàn)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型提供了一種能夠直觀地表達(dá)鄰面去釉方案、并且能夠及時(shí)檢查出去釉是否錯(cuò)誤或不到位的無托槽隱形矯治器臨床模板。
[0008]能檢測鄰面去釉的無托槽矯治器臨床模板，包括模板本體，模板本體的牙列與患者牙列一致；模板本體上設(shè)有去釉檢測插片和去釉說明信息，去釉說明信息設(shè)置于矯治器對應(yīng)的待去釉牙位上；去釉檢測插片的位置與厚度與去釉說明信息一一對應(yīng)。
[0009]進(jìn)一步，去釉說明信息設(shè)置于待去釉牙位的外表面。
[0010]進(jìn)一步，去釉說明信息印于標(biāo)識塊上，標(biāo)識塊固定于模板本體的待去釉牙位的外表面；去釉信息說明包含去釉厚度。
[0011]本實(shí)用新型在矯治器上增設(shè)去釉檢測插片，去釉檢測插片的厚度與去釉信息說明標(biāo)出的去釉厚度相同，去釉信息說明標(biāo)識的去釉厚度為醫(yī)生臨床經(jīng)驗(yàn)或者通過計(jì)算得到牙齒與牙齒之間去釉后的間隙距離。所以在將矯治器帶上時(shí)，如果能戴上，說明牙齒與牙齒之間去釉后的間隙足夠，如果不能帶上，說明牙齒與牙齒之間去釉后的間隙不足。
[0012]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:
[0013]1、去釉信息說明直接標(biāo)在待去釉的牙位上，避免了臨床醫(yī)生再根據(jù)文字說明去尋找需要做鄰面去釉的牙位，閱讀更加直觀，與患者口內(nèi)的對應(yīng)關(guān)系一致。
[0014]2、出現(xiàn)去釉位置或去釉量等錯(cuò)誤，矯治器模板就無法戴入患者口內(nèi)，避免了去釉出差的可能，保證了醫(yī)療方案的正確實(shí)施。
【附圖說明】
[0015]圖1是本實(shí)用新型的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]如圖1所示，能檢測鄰面去釉的無托槽矯治器臨床模板，包括模板本體1，模板本體I的牙列與患者牙列一致；模板本體I上設(shè)有去釉檢測插片2和去釉說明信息，去釉說明信息設(shè)置于矯治器對應(yīng)的待去釉牙位上；去釉檢測插片2的位置與厚度與去釉說明信息
——對應(yīng)。
[0017]去釉說明信息印于標(biāo)識塊3上，標(biāo)識塊3固定于模板本體I的待去釉牙位的外表面；去釉信息說明包含去釉厚度。
[0018]本實(shí)用新型在矯治器上增設(shè)去釉檢測插片2，去釉檢測插片2的厚度與去釉信息說明標(biāo)出的去釉厚度相同，去釉信息說明標(biāo)識的去釉厚度為醫(yī)生臨床經(jīng)驗(yàn)或者通過計(jì)算得到牙齒與牙齒之間去釉后的間隙距離。所以在將矯治器帶上時(shí)，如果能戴上，說明牙齒與牙齒之間去釉后的間隙足夠，如果不能帶上，說明牙齒與牙齒之間去釉后的間隙不足。
[0019]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:
[0020]1、去釉信息說明直接標(biāo)在待去釉的牙位上，避免了臨床醫(yī)生再根據(jù)文字說明去尋找需要做鄰面去釉的牙位，閱讀更加直觀，與患者口內(nèi)的對應(yīng)關(guān)系一致。
[0021]2、出現(xiàn)去釉位置或去釉量等錯(cuò)誤，矯治器模板就無法戴入患者口內(nèi)，避免了去釉出差的可能，保證了醫(yī)療方案的正確實(shí)施。
[0022]本說明書實(shí)施例所述的內(nèi)容僅僅是對實(shí)用新型構(gòu)思的實(shí)現(xiàn)形式的列舉，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不應(yīng)當(dāng)被視為僅限于實(shí)施例所陳述的具體形式，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍也及于本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本實(shí)用新型構(gòu)思所能夠想到的等同技術(shù)手段。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.能檢測鄰面去釉的無托槽矯治器臨床模板，包括模板本體，模板本體的牙列與患者牙列一致；其特征在于:模板本體上設(shè)有去釉檢測插片和去釉說明信息，去釉說明信息設(shè)置于矯治器對應(yīng)的待去釉牙位上；去釉檢測插片的位置與厚度與去釉說明信息一一對應(yīng)。
2.如權(quán)利要求1所述的能檢測鄰面去釉的無托槽矯治器臨床模板，其特征在于:去釉說明信息設(shè)置于待去釉牙位的外表面。
3.如權(quán)利要求2所述的能檢測鄰面去釉的無托槽矯治器臨床模板，其特征在于:去釉說明信息印于標(biāo)識塊上，標(biāo)識塊固定于模板本體的待去釉牙位的外表面；去釉信息說明包含去釉厚度。
【專利摘要】能檢測鄰面去釉的無托槽矯治器臨床模板，包括模板本體，模板本體的牙列與患者牙列一致；其特征在于：模板本體上設(shè)有去釉檢測插片和去釉說明信息，去釉說明信息設(shè)置于矯治器對應(yīng)的待去釉牙位上；去釉檢測插片的位置與厚度與去釉說明信息一一對應(yīng)。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：1、去釉信息說明直接標(biāo)在待去釉的牙位上，避免了臨床醫(yī)生再根據(jù)文字說明去尋找需要做鄰面去釉的牙位，閱讀更加直觀，與患者口內(nèi)的對應(yīng)關(guān)系一致；2、出現(xiàn)去釉位置或去釉量等錯(cuò)誤，矯治器模板就無法戴入患者口內(nèi)，避免了去釉出差的可能，保證了醫(yī)療方案的正確實(shí)施。
【IPC分類】A61C7-00, A61C19-04
【公開號】CN204542409
【申請?zhí)枴緾N201520066139
【發(fā)明人】劉勇
【申請人】杭州一牙數(shù)字口腔有限公司
【公開日】2015年8月12日
【申請日】2015年1月30日