潔齒劑的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種配合有顆粒而成的潔齒劑，其中，在口腔中加載載荷時發(fā)生崩解并且具有無異物感的良好的顆粒感，可以進入至牙齒的釉面橫紋、近中唇面溝、中央嵴及遠中唇面溝部等那樣的寬度150μm以下的微細的凹部，發(fā)揮出較高的牙垢去除能力或污垢去除能力。所述潔齒劑是配合有含有水不溶性粉末材料(A)、及無機粘合劑(B)的顆粒而成的潔齒劑，存在于該潔齒劑中的配合后的顆粒中，該顆粒的投影面的面積(SA)與以該投影面中的最大直徑(DL)作為直徑的外接圓的面積(SS)的比(SA/SS)的平均值為0.5以上且0.9以下，并且配合后的顆粒的崩解強度為1gf/個以上且20gf/個以下。
【專利說明】
潔齒劑
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及一種潔齒劑。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來，已知有配合有如可以將成為齲齒或牙周病的原因的牙垢高效地去除，并 且易察覺其效果的顆粒的潔齒劑。為了不對牙齒表面的牙釉質(zhì)或牙齦等造成損傷，這些顆 粒實質(zhì)上被制成球狀凝聚顆粒，有含有藥劑、酶劑、研磨劑等功能性材料的顆粒、或謀求其 視覺效果的顆粒。
[0003] 作為這些顆粒的粘合劑，已知有甲基纖維素、羧甲基纖維素等水溶性粘合劑或蠟 等水不溶性有機類粘合劑。另外，也已知有添加利用膠體二氧化硅等水不溶性無機粘合劑 使沸石等水不溶性粉末材料粘結(jié)而獲得的顆粒的潔齒劑(參照專利文獻1)。
[0004] 另外，也已知有添加有使用硅酸酐利用濕式法(凝膠法)通過特定的工序而制造的 球形且變形率高的二氧化硅顆粒的潔齒劑(參照專利文獻2)。
[0005] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0006] 專利文獻
[0007] 專利文獻1:日本特開平1-299211號公報
[0008] 專利文獻2:日本特開2010-275260號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 本發(fā)明涉及一種潔齒劑，所述潔齒劑是配合含有水不溶性粉末材料(A)、及無機粘 合劑(B)的顆粒而成的，
[0010] 關(guān)于存在于該潔齒劑中的配合后的顆粒，該顆粒的投影面的面積(SA)與以該投影 面中的最大直徑(DL)為直徑的外接圓的面積(Ss)的比（SA/Ss)的平均值為0.5以上且0.9以 下，并且配合后的顆粒的崩解強度為lgf/個以上且20gf/個以下。
[0011] 另外，本發(fā)明涉及一種潔齒劑，所述潔齒劑是配合含有水不溶性粉末材料(A)、及 無機粘合劑(B)的顆粒而成的，
[0012] 關(guān)于存在于該潔齒劑中的配合后的顆粒，通過激光衍射/散射式粒徑分布測定獲 得的粒度分布中的以下的顆粒(a)~(d)中，顆粒(b)的量與顆粒(c)的量的體積比(b/c)為 0.7以上且1.2以下，顆粒(d)與顆粒(c)的體積比（d/c)為0.2以上且1以下，顆粒(b)的量與 顆粒(d)的量的體積比(b/d)大于1且為5以下，配合后的顆粒中的顆粒(c)的量為15體積％ 以上且55體積％以下，并且配合后的顆粒的崩解強度為lgf/個以上且20gf/個以下，
[0013] (a)粒徑為50μπι以上且小于100μL?的顆粒；
[0014] (b)粒徑為100μπι以上且小于150μπι的顆粒；
[0015] (c)粒徑為150μπι以上且小于200μπι的顆粒；
[0016] (d)粒徑為200μπι以上且小于250μπι的顆粒。
[0017] 隨著近年來飲食生活及生活習慣等的變化，引起口腔內(nèi)環(huán)境的惡化的因素也不斷 增加，因此，處于多種多樣的污垢容易附著、殘存于分散存在有釉面橫紋(perikymata)、近 中唇面溝、中央嵴及遠中唇面溝部等各種大小的凹凸的牙齒的表面的狀況。上述專利文獻1 的顆粒雖然具有容易崩解的適度的顆粒強度，但對于將牙齒表面的附著于存在各種大小的 凹凸的牙齒表面的污垢充分去除而言，仍然有改善的余地。另外，上述專利文獻2的顆粒雖 然變形率較高，顆粒感也優(yōu)異，但對于在使用考慮到減輕對牙齦的負荷的柔軟的牙刷的情 況下的較小的負荷下也將附著于牙齒表面的各種大小的凹部的污垢充分去除而言，有改善 的余地。因此，尋求容易進入至這樣的牙齒表面的凹部的潔齒劑用顆粒，只要是配合該顆粒 而成的潔齒劑，則可以期待即便在使用考慮到減輕對牙齦的負荷的柔軟的牙刷的情況下的 較小的負荷下也能提高牙垢或污垢的去除能力。
[0018] 因此，本
【發(fā)明人】們進行了各種研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，只要是配合具有特異的形狀或特異 的粒度分布且具有特定的崩解強度的顆粒而成的潔齒劑，則這些顆粒一邊相互作用一邊容 易進入至牙齒的微細的凹部，從而即便在使用柔軟的牙刷的情況下的較小的負荷下也可以 發(fā)揮出較高的牙垢去除能力或污垢去除能力。
[0019] 根據(jù)本發(fā)明的潔齒劑，由于配合有具有特異的形狀或特異的粒度分布并且具有特 定的崩解強度，如果加載載荷則崩解的特定的顆粒而成，因此，具有無異物感的良好的顆粒 感，并且顆粒進入至牙齒的釉面橫紋、近中唇面溝、中央嵴及遠中唇面溝部等那樣的150μπι 以下的微細的凹部，所以，可以有效地傳遞來自牙刷的載荷，并且可以將牙垢或著色污垢等 污垢充分地去除。因此，即便在使用柔軟刷毛(bristle)的牙刷的情況下，也可以將載荷有 效地傳遞至微細的凹部，發(fā)揮出較高的污垢去除能力。
【附圖說明】
[0020] 圖1是表示為了獲得實施例2的潔齒劑中所存在的配合后的顆粒而使用的配合前 顆粒B'、及實施例2的潔齒劑中所存在的配合后顆粒B的由激光衍射/散射式粒徑分布測定 獲得的粒度分布的曲線圖。
[0021 ]圖2是實施例2的潔齒劑中所存在的配合后顆粒B的SEM照片。
[0022]圖3是表示比較例1的潔齒劑中所存在的配合后顆粒F的由激光衍射/散射式粒徑 分布測定獲得的粒度分布的曲線圖。
[0023] 符號的說明：
[0024] X:配合前顆粒B'的粒度分布
[0025] Y:配合后顆粒B的粒度分布
【具體實施方式】
[0026] 以下，對本發(fā)明進行詳細地說明。
[0027] 本發(fā)明的潔齒劑配合具有特異的形狀或特異的粒度分布且具有特定的崩解強度 的顆粒而成。存在于該潔齒劑中的配合后的顆粒為含有水不溶性粉末材料(A)、及無機粘合 劑(B)的顆粒，以下也稱為"配合后顆粒"。另一方面，為了使?jié)嶟X劑中存在該配合后顆粒而 配合于潔齒劑中的顆粒以下也稱為"配合前顆粒"。
[0028] 作為該水不溶性粉末材料(A)，優(yōu)選為牙齒的研磨劑中通常所使用的，具體而言， 優(yōu)選為無機材料。在此，"水不溶性"是指相對于l〇〇g水的溶解量(20°C)為lg以下。具體而 言，例如可以列舉選自輕質(zhì)碳酸鈣、重質(zhì)碳酸鈣、沸石、二氧化硅、磷酸氫鈣、磷酸鈣、不溶性 偏磷酸鈉、氫氧化鋁、磷酸鎂、焦磷酸鈣、及碳酸鎂等中的1種或2種以上。這些可以單獨使用 1種，也可以組合2種以上使用。
[0029] 這些水不溶性粉末材料(A)中，從對存在于潔齒劑中的配合后顆粒賦予下述的特 異的形狀或特異的粒度分布，即便負載使用柔軟的牙刷的情況下那樣較低的載荷也可以發(fā) 揮出較高的污垢去除能力，可以將牙垢或著色污垢等污垢充分去除，并且可以提高牙齒表 面的光滑的觸感及去污感的觀點出發(fā)，優(yōu)選為選自輕質(zhì)碳酸鈣、重質(zhì)碳酸鈣、沸石、及二氧 化硅中的1種或2種以上，進一步優(yōu)選為選自輕質(zhì)碳酸鈣及重質(zhì)碳酸鈣中的1種或2種，更加 優(yōu)選為重質(zhì)碳酸鈣。在此，光滑的觸感是指在用舌頭碰觸牙面時不會獲得如牙垢或污垢附 著那樣的觸感而可以使舌頭在牙齒表面平滑地滑動的觸感，去污感是指可以確實地感覺到 牙齒表面變得光滑且污垢消失的觸感。
[0030] 關(guān)于水不溶性粉末材料(A)的平均粒徑，從顆粒崩解后的牙垢或污垢去除的觀點 出發(fā)，優(yōu)選為〇 . lwn以上，進一步優(yōu)選為0.5μηι以上，更加優(yōu)選為0.8μηι以上，更加優(yōu)選為ΙμL? 以上。另外，從降低異物感的觀點出發(fā)，優(yōu)選為20μπι以下，進一步優(yōu)選為15μπι以下，更加優(yōu)選 為ΙΟμπι以下，更加優(yōu)選為5μηι以下。另外，水不溶性粉末材料(Α)的平均粒徑優(yōu)選為0.1~20μ 111，進一步優(yōu)選為0.5~15以1]1，更加優(yōu)選為0.8~1(^1]1，更加優(yōu)選為1~541]1。
[0031] 另外，平均粒徑可以通過實施例中記載的方法進行測定。
[0032] 關(guān)于水不溶性粉末材料(Α)的含量，從實現(xiàn)緩慢地崩解的行為的觀點、及提高研磨 力的觀點出發(fā)，在配合后顆粒中在干燥狀態(tài)下優(yōu)選為60質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為70質(zhì) 量％以上，更加優(yōu)選為80質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為82質(zhì)量％以上。關(guān)于水不溶性粉末材料 (Α)的含量，從抑制對牙齒的損傷的觀點出發(fā)，在配合后顆粒中在干燥狀態(tài)下優(yōu)選為98質(zhì) 量％以下，進一步優(yōu)選為96質(zhì)量％以下，更加優(yōu)選為90質(zhì)量％以下。另外，水不溶性粉末材 料(Α)的含量在配合后顆粒中在干燥狀態(tài)下優(yōu)選為60~98量％，進一步優(yōu)選為70~96量％， 更加優(yōu)選為80~96質(zhì)量％，更加優(yōu)選為82~90質(zhì)量％。
[0033]本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中所含的無機粘合劑(Β)由于使配合后顆 粒內(nèi)具有空隙且與水不溶性粉末材料(Α)結(jié)合，因此可以將牙垢充分去除，并且?guī)硖岣哐?齒表面的光滑的觸感及去污感的作用。作為無機粘合劑(Β)，可以列舉選自水溶性無機粘合 劑及水不溶性無機粘合劑中的1種或2種以上。作為水溶性無機粘合劑，具體而言，可以列舉 選自硅酸鈉、聚丙烯酸、改性纖維素類、聚乙烯吡咯烷酮、及硅酮等中的1種或2種以上，優(yōu)選 為硅酸鈉。作為水不溶性無機粘合劑，具體而言，可以列舉選自膠體二氧化硅、偏硅酸鋁鎂、 合成硅酸鋁、硅酸鈣、及氧化鋁溶膠等中的1種或2種以上，優(yōu)選為膠體二氧化硅。其中，從良 好地發(fā)揮出本發(fā)明的效果的觀點出發(fā)，優(yōu)選含有水溶性無機粘合劑，進一步優(yōu)選含有硅酸 鈉。通過含有選自硅酸鈉及膠體二氧化硅中的1種或2種作為無機粘合劑(Β)，可以進一步使 泡質(zhì)、起泡性、及顆粒的觸感變得良好，提高牙齒表面的光滑的觸感及去污感。
[0034] 作為該硅酸鈉，可以列舉選自偏硅酸鈉(Na2Si03)、原硅酸鈉(Na4Si〇4)、二硅酸鈉 (Na2Si2〇5)、四硅酸鈉(Na2Si4〇9)及它們的水合物中的1種或2種以上。
[0035] 娃酸鈉通常以Na2〇.nSi〇2 .mH2〇的分子式表不。系數(shù)n(Si〇2相對于Na2〇的分子比）被 稱為摩爾比，可以以下述式（I)表示。
[0036] 摩爾比=質(zhì)量比（3;[02質(zhì)量％/似20質(zhì)量％ ) X (Na20的分子量/Si02的分子量）（1)
[0037] 作為硅酸鈉，通常除了 JIS K1408所記載的硅酸鈉1號、2號、3號以外，也可以使用 各種摩爾比的水玻璃，其中，更加優(yōu)選為硅酸鈉3號。
[0038] 硅酸鈉的物性根據(jù)上述摩爾比（系數(shù)η)而不同，但從對準藥品原料標準的適應(yīng)性、 良好地發(fā)揮出本發(fā)明的效果的觀點，及使所獲得的配合后顆粒的pH值成為堿性的觀點出 發(fā)，上述摩爾比（系數(shù)η)優(yōu)選為2.0以上，進一步優(yōu)選為2.4以上，更加優(yōu)選為2.8以上，更加 優(yōu)選為3.0以上，且優(yōu)選為4.0以下，進一步優(yōu)選為3.5以下，更加優(yōu)選為3.4以下，更加優(yōu)選 為3.3以下。而且，上述摩爾比（系數(shù)η)優(yōu)選為2.0~4.0，進一步優(yōu)選為2.4~3.5，更加優(yōu)選 為2.8~3.4,更加優(yōu)選為3.0~3.3。
[0039] 關(guān)于本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中所含的無機粘合劑(Β)中的選自硅 酸鈉（固形物成分)及膠體二氧化硅中的1種或2種的含量，從作為無機粘合劑使水不溶性粉 末材料顆粒化的觀點出發(fā)，在成分(Β)中優(yōu)選為60質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為80質(zhì)量％以 上，更加優(yōu)選為90質(zhì)量％以上，從操作性及以液滴進行噴霧，抑制粗大顆粒的觀點及提高配 合后顆粒的濕式崩解強度的觀點出發(fā)，優(yōu)選為100質(zhì)量％以下。另外，上述無機粘合劑(Β)中 的硅酸鈉（固形物成分)及膠體二氧化硅的量為使自潔齒劑中提取的配合后顆粒在90°C以 上干燥后的去除了水分的量。
[0040] 關(guān)于本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中的選自硅酸鈉（固形物成分)及膠 體二氧化硅中的1種或2種即成分(B)的含量，從顆粒的干燥狀態(tài)及水中的適度的崩解強度、 潔齒劑中的穩(wěn)定性的觀點，或?qū)崿F(xiàn)緩慢地崩解的行為的觀點出發(fā)，在配合后顆粒中在干燥 狀態(tài)下優(yōu)選為1質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為2質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為5質(zhì)量％以上，更加優(yōu) 選為10質(zhì)量％以上。關(guān)于本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中的硅酸鈉的含量，從提 高產(chǎn)率的觀點出發(fā)，在配合后顆粒中優(yōu)選為30質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為20質(zhì)量％以下，更 加優(yōu)選為18質(zhì)量％以下。另外，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中的硅酸鈉的含量 優(yōu)選為1~30質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為2~20質(zhì)量％，更加優(yōu)選為5~18質(zhì)量％，更加優(yōu)選為10 ~18質(zhì)量％。
[0041] 在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，從使水不溶性粉末材料顆?；?為適度的崩解強度的觀點，及實現(xiàn)緩慢地崩解的行為的觀點出發(fā)，無機粘合劑(B)相對于水 不溶性粉末材料(A)的質(zhì)量比(無機粘合劑(B)/水不溶性粉末材料(A))優(yōu)選為0.02以上，進 一步優(yōu)選為〇. 05以上，更加優(yōu)選為0.08以上。另外，從減少粗大顆粒，成為適度的崩解強度 的觀點出發(fā)，該質(zhì)量比優(yōu)選為0.5以下，進一步優(yōu)選為0.3以下，更加優(yōu)選為0.18以下。并且， 該質(zhì)量比優(yōu)選為〇. 02~0.5，進一步優(yōu)選為0.05~0.3，更加優(yōu)選為0.08~0.18。另外，上述 成分(B)中包含硅酸鈉的情況下的含量為固形物成分換算值。
[0042] 從賦予抑制牙垢形成的效果的觀點、及強化由水溶性硅酸鹽或膠體二氧化硅形成 的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)來提高緩慢地崩解的物性的觀點出發(fā)，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒 優(yōu)選進一步含有選自硅酸鈣、氧化鎂、氧化鈦及氧化鋅中的1種或2種以上的粘合助劑(C)， 作為該成分(C)，進一步優(yōu)選至少包含氧化鋅，更加優(yōu)選包含氧化鋅與其它粘合助劑。
[0043] 關(guān)于成分(C)的含量，從提高抑制牙垢形成的效果及緩慢地崩解的物性的觀點出 發(fā)，在配合后顆粒中在干燥狀態(tài)下優(yōu)選為0.2質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以上，更 加優(yōu)選為0.8質(zhì)量％以上。另外，關(guān)于成分(C)的含量，從抑制崩解強度過度變高的觀點、提 高配合有配合后顆粒的潔齒劑的起泡性和泡質(zhì)的觀點、及抑制金屬味的觀點出發(fā)，在配合 后顆粒中在干燥狀態(tài)下優(yōu)選為5質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為3質(zhì)量％以下，更加優(yōu)選為2質(zhì) 量％以下。另外，成分(C)的含量在配合后顆粒中在干燥狀態(tài)下優(yōu)選為0.2~5質(zhì)量％，進一 步優(yōu)選為〇. 5~3質(zhì)量％，更加優(yōu)選為0.8~2質(zhì)量％。
[0044] 關(guān)于配合后顆粒中的成分(C)與成分(B)的質(zhì)量比（C/B)，從實現(xiàn)適度的崩解強度 的觀點、提高存在配合后顆粒的潔齒劑的起泡性和泡質(zhì)的觀點、牙齒表面的各種大小的凹 部的清掃性能的觀點出發(fā)，優(yōu)選為〇 . 02以上，進一步優(yōu)選為0.05以上，更加優(yōu)選為0.08以 上，且優(yōu)選為1以下，進一步優(yōu)選為0.5以下，更加優(yōu)選為0.3以下，更加優(yōu)選為0.2以下。另 外，配合后顆粒中的成分(C)與成分(B)的質(zhì)量比（C/B)優(yōu)選為0.02~1，進一步優(yōu)選為0.05 ~〇. 5，更加優(yōu)選為0.08~0.3，更加優(yōu)選為0.08~0.2。
[0045] 本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒可以在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)根 據(jù)需要除了上述成分以外含有有機纖維、藥用成分、著色劑等。
[0046] 上述成分以外的其它成分可以單獨使用1種，也可以組合2種以上使用。
[0047] 本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒具有特異的形狀，該顆粒的投影面的面積 (SA)與以該投影面中的最大直徑(以)為直徑的外接圓的面積(Ss)的比（Sa/Ss)的平均值為 0.5以上且0.9以下。本發(fā)明中的配合后顆粒的投影面的面積是指使用JIS Z8801-1標準的 150μπι的篩網(wǎng)通過純水將利用純水稀釋至10質(zhì)量％的潔齒劑的水溶液清洗后，將殘留于篩 網(wǎng)上的顆粒在室溫(25°C)下干燥1天，使用所獲得的顆粒測得的值。配合后顆粒的投影面是 指使用KEENCE VH-5500 (倍率100倍)攝影所得到的面，使用分析軟件(WinROOF (三谷商事株 式會社））對攝影所得到的數(shù)字圖像求出顆粒的一投影面的面積(SA)與以該投影面中的最 大直徑(以)為直徑的外接圓的面積(Ss)的比（Sa/Ss)，進一步根據(jù)來自其它方向的投影面、 或使用其它配合后顆粒所得到的投影面，求出Sa/Ss的平均值。這樣，由以投影面中的最大直 徑(D〇為直徑的外接圓的面積(&)與投影面的面積(SA)求出的Sa/Ss的平均值成為顆粒越接 近球狀越近似于1的值，結(jié)果，由于該Sa/Ss的平均值如上所述為0.5以上且0.9以下，因此，本 發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒并非是球狀的顆粒，而是在表面存在多個凹凸的變形 的形狀即特異的形狀、所謂的不定形的顆粒。而且，本發(fā)明的配合后顆粒呈現(xiàn)出通過將配合 前顆粒破碎、或部分出缺口而形成有凸部的適度的不定形，因此在口中不會感覺到異物感， 另一方面，由于不定形的形狀而逐漸緩慢地崩解，在刷牙結(jié)束時也可以提供大量顆粒崩解 而刷牙行為結(jié)束的觸感。
[0048] 可以認為，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒通過具有這樣的特異的形狀， 從而即便在口腔內(nèi)利用牙刷等加載載荷時，負荷也集中施加于凸部，因此容易崩解，而且以 該凸部為起點緩慢地崩解?？梢哉J為其原因在于，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒 的每一粒是一次顆粒凝聚形成中間顆粒，并且其進一步凝聚形成而成的，因此空隙適度地 分散于顆粒內(nèi)，隨著加載載荷而自突出至表面的中間顆粒開始逐漸崩解。然后，在直至顆粒 最終崩解期間，最初變化為中間顆粒，該中間顆粒一邊粉碎得更細一邊逐漸緩慢地崩解。另 外，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒優(yōu)選為將配合前顆粒配合于潔齒劑中之后，通 過潔齒劑的制造時的攪拌而獲得的顆粒。這樣，在使用存在制造時的攪拌后所獲得的配合 后顆粒的本發(fā)明的潔齒劑的使用情況下，配合后顆粒不會因牙刷的負荷而一舉崩解，而在 刷牙期間顆粒逐漸緩慢地崩解，這些一邊碰撞牙面一邊進入至如牙齒的釉面橫紋的微細的 凹部而有效地傳遞來自牙刷的載荷，從而可以充分地發(fā)揮出牙垢或污垢去除能力，可以提 高牙齒表面的光滑的觸感、及去污感。
[0049] 關(guān)于配合后顆粒的投影面的面積(SA)與以該投影面中的最大直徑(Dl)為直徑的外 接圓的面積(Ss)的比（Sa/Ss)的平均值，從確保緩慢地崩解的行為的觀點出發(fā)，為0.5以上， 優(yōu)選為0.6以上，進一步優(yōu)選為0.65以上，更進一步優(yōu)選為0.7以上。關(guān)于配合后顆粒的投影 面的面積(SA)與以該投影面中的最大直徑(Dl)為直徑的外接圓的面積(Ss)的比（Sa/Ss)的平 均值，從表現(xiàn)出適度的崩解性，即便是具備柔軟的刷毛的牙刷也可以有效傳遞載荷的觀點 出發(fā)，為0.9以下，優(yōu)選為0.85以下，進一步優(yōu)選為0.82以下。配合后顆粒的投影面的面積 (SA)與以該投影面中的最大直徑(以)為直徑的外接圓的面積(Ss)的比（Sa/Ss)的平均值為 0.5以上且0.9以下，優(yōu)選為0.6~0.9，進一步優(yōu)選為0.65~0.85，更進一步優(yōu)選為0.75~ 0.82。另外，作為柔軟的刷毛，例如可以列舉刷毛的毛端的截面積逐漸變小的錐形刷毛。該 錐形刷毛的前端較細，因此具有是柔軟的觸感，并且毛端容易進入至牙齒與牙齒的間隙的 性質(zhì)。
[0050] 關(guān)于配合后顆粒的投影面中的最大直徑(Dl)與最小直徑(Ds)的比（Dl/Ds)的平均 值，從成為不定形的顆粒并且顯示出緩慢地崩解的行為的觀點、及即便是具備柔軟的刷毛 的牙刷也有效地傳遞載荷的觀點出發(fā)，優(yōu)選為1.2以上，進一步優(yōu)選為1.3以上，更加優(yōu)選為 1.4以上。關(guān)于配合后顆粒的投影面中的最大直徑(Dl)與最小直徑(Ds)的比（Dl/Ds)的平均 值，從表現(xiàn)出適度的崩解性并且有效地傳遞來自牙刷的載荷的觀點出發(fā)，優(yōu)選為1.8以下， 進一步優(yōu)選為1.7以下，更加優(yōu)選為1.65以下。另外，配合后顆粒的投影面中的最大直徑 (Dl)與最小直徑(Ds)的比(Dl/Ds)的平均值優(yōu)選為1.2~1.8,進一步優(yōu)選為1.3~1.7,更加 優(yōu)選為1.4~1.65。
[0051]另外，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒具有特異的粒度分布，關(guān)于該顆粒， 在由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的以下的顆粒(a)~(d)中，顆粒(b) 的量與顆粒(c)的量的體積比（b/c)為0.7以上且1.2以下，顆粒(d)與顆粒(c)的體積比（d/ c)為0.2以上且1以下，顆粒(b)的量與顆粒(d)的量的體積比（b/d)大于1且為5以下，并且顆 粒(c)在配合后顆粒中的含量為15體積％以上且55體積％以下。
[0052] (a)粒徑為50μηι以上且小于100μπι的顆粒；
[0053] (b)粒徑為100μπι以上且小于150μηι的顆粒；
[0054] (c)粒徑為150μηι以上且小于200μηι的顆粒；
[0055] (d)粒徑為200μηι以上且小于250μηι的顆粒。
[0056] 即，通過在顆粒(a)與顆粒(b)之間使這些的量的體積比(b/c)為上述范圍，使顆粒 (b)相對于顆粒(c)以相同程度的量存在于潔齒劑中，相對于此，由于上述體積比（d/c)在上 述范圍內(nèi)且顆粒(b/d)大于1且為5以下，因此，顆粒(b)以多于顆粒(d)的量存在。因此，存在 大量作為粒徑為1〇〇μπι以上且小于200μπι的顆粒的（b)及(c)，并且粒徑為200μπι以上的顆粒 (d)以適度的量存在，因此，容易傳遞來自直徑為約200μπι的牙刷的刷毛的應(yīng)力的顆粒(d)適 度地存在，并且存在較多的容易進入至牙刷的刷毛難以進入的如牙齒表面的釉面橫紋那樣 的微細的凹部的顆粒(b)及顆粒(c)。可以認為，由此隨著施加通過刷洗的牙刷的負荷，使這 些顆粒一邊相互作用一邊緩慢地崩解，并且一邊進入至如牙齒的釉面橫紋那樣的微細的凹 部，一邊有效地傳遞來自牙刷的載荷，從而可以充分地發(fā)揮出牙垢或污垢去除性能，提高牙 齒表面平滑且光滑的觸感、污垢去除后的觸感。
[0057]另外，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒是指通過激光衍射/散射式粒徑分 布測定求出的粒徑為50μπι以上的顆粒。另外，可以認為，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后 顆粒如上所述為不定形的顆粒，但通過激光衍射/散射式粒徑分布測定求出的粒徑為大致 近似于上述最大直徑(Dl)與最小直徑(Ds)的平均值的值。
[0058]在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，從表現(xiàn)出緩慢地崩解的行為，并且 有效地進入至微細的凹部，進一步優(yōu)選有效地進入至寬度為150μπι以下的大小的凹部，提高 刷牙后的牙齒表面平滑的觸感的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度 分布中的顆粒(b)的量與顆粒(c)的量的體積比(b/c)為0.7以上，優(yōu)選為0.75以上，進一步 優(yōu)選為0.8以上。在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，從顆粒(b)-邊與顆粒(c)相 互作用一邊緩慢地崩解而存在伴有各種形狀的顆粒的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑 分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(b)的量與顆粒(c)的量的體積比(b/c)為1.2以下，優(yōu)選 為1.1以下，進一步優(yōu)選為1.0以下，更加優(yōu)選為0.95以下。另外，在本發(fā)明的潔齒劑中所存 在的配合后顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(b)的量與 顆粒(c)的量的體積比(b/c)為0.7以上且1.2以下，優(yōu)選為0.75以上且1.1以下，進一步優(yōu)選 為0.8以上且1.0以下，更進一步優(yōu)選為0.8以上且0.95以下。
[0059]在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，從容易傳遞牙刷的刷毛的應(yīng)力負荷 的顆粒(d)-邊與顆粒(b)及顆粒(c)相互作用一邊緩慢地崩解而存在伴有各種形狀的顆粒 的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(d)的量與顆粒 (c)的量的體積比（d/c)為0.2以上，優(yōu)選為0.25以上，進一步優(yōu)選為0.3以上。在本發(fā)明的潔 齒劑中所存在的配合后顆粒中，從通過顆粒(d)而使顆粒(b)及顆粒(c)也有效地進入至微 細的凹部的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(d)的量 與顆粒(c)的量的體積比(d/c)為1以下，優(yōu)選為0.9以下，進一步優(yōu)選為0.85以下，更加優(yōu)選 為0.8以下。另外，在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑分 布測定獲得的粒度分布中的顆粒(d)的量與顆粒(c)的量的體積比（d/c)為0.2以上且1以 下，優(yōu)選為0.25以上且0.9以下，進一步優(yōu)選為0.25以上且0.85以下，更加優(yōu)選為0.3以上且 0.8以下。
[0060]在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，從配合后顆粒的粒度分布以顆粒 (c)的含量為中心，并且含有比顆粒(d)多的容易進入至牙齒表面的牙刷的刷毛難以達到的 微細的凹部的顆粒(b)，提高牙齒表面的微細的凹部的污垢去除性能的觀點，及提高存在配 合后顆粒的潔齒劑的起泡性或泡質(zhì)的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的 粒度分布中的顆粒(b)的量與顆粒(d)的量的體積比(b/d)大于1，優(yōu)選為1.1以上，進一步優(yōu) 選為1.2以上。關(guān)于本發(fā)明的配合后顆粒，從顆粒(d)受到牙刷的刷毛的負荷而一邊與顆粒 (c)及顆粒(b)相互作用一邊緩慢地崩解而存在伴有各種形狀的顆粒的觀點出發(fā)，由激光衍 射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(b)的量與顆粒(d)的量的體積比（b/d) 為5以下，優(yōu)選為4以下，進一步優(yōu)選為2.8以下。另外，在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后 顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(b)的量與顆粒(d)的 量的體積比(b/d)大于1且為5以下，優(yōu)選為1.1~4，進一步優(yōu)選為1.2~2.8。
[0061]另外，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒、及下述的配合前顆粒的粒度分布 是由激光衍射/散射式粒徑分布測定而獲得的，在為存在于潔齒劑中的配合后顆粒的情況 下，使用通過離子交換水將潔齒劑稀釋成10質(zhì)量％的水溶液進行測定;在為用于配合于潔 齒劑中的配合前顆粒的情況下，使用通過離子交換水稀釋成5質(zhì)量％的水溶液進行測定。更 具體而言，對通過離子交換水將存在配合后顆粒的潔齒劑稀釋成10質(zhì)量％的水溶液(或通 過離子交換水將配合前顆粒稀釋成5質(zhì)量％的水溶液），通過混合機(ROTARY MIXER NPC- 20，NISSIN公司制造)在75轉(zhuǎn)/分鐘、水平方向旋轉(zhuǎn)、2小時的條件下使顆粒分散。接著，將稀 釋存在配合后顆粒的分散后的潔齒劑而獲得的水溶液(或分散有配合前顆粒的水溶液)在 室溫(25°C)下保存1天。再次通過上述混合機使該保存后的水溶液分散10分鐘后，使用該水 溶液利用激光衍射/散射式粒度分布測定裝置(Partica LA-950V2，H0RIBA公司制造)在折 射率:1.58、循環(huán)速度(刻度:5)、攪拌速度(刻度:5)的條件下進行測定。
[0062]在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑分布測定 獲得的粒度分布中的顆粒(c)的量在配合后顆粒中為15體積％以上且55體積％以下。關(guān)于 顆粒(c)的量，從牙齒表面的寬度為150μπι以下的大小的凹部的污垢去除性能的觀點、及在 利用牙刷刷洗時與其它顆粒相互作用及牙齒表面的寬度小于200μπι的大小的微細的凹部的 去除性能的觀點出發(fā)，在配合后顆粒中為15體積％以上，優(yōu)選為20體積％以上，進一步優(yōu)選 為23體積％以上，且為55體積％以下，優(yōu)選為50體積％以下，進一步優(yōu)選為45體積％以下， 更加優(yōu)選為40體積％以下。另外，顆粒(c)的量在配合后顆粒中為15體積％以上且55體積％ 以下，優(yōu)選為20~50體積％，進一步優(yōu)選為23~45體積％，更加優(yōu)選為23~40體積％。
[0063] 對于本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒，通過使顆粒(c)在顆粒(a)~(d)之 中以最多量存在、或使顆粒(c)與顆粒(b)以大致相同程度的較多的量存在，從而使?jié)嶟X劑 中存在較多可以進入至牙刷的刷毛難以達到的寬度小于200M1的大小的凹部的顆粒。關(guān)于 顆粒(b)與顆粒(c)的合計量，從牙刷的刷毛難以達到的微細的凹部的較高的污垢去除性能 的觀點出發(fā)，在配合后顆粒中優(yōu)選為30體積％以上，進一步優(yōu)選為35體積％以上，更加優(yōu)選 為40體積％以上，更進一步優(yōu)選為50體積％以上。關(guān)于顆粒(b)與顆粒(c)的合計量，從將由 牙刷的刷毛產(chǎn)生的應(yīng)力也充分地傳遞至顆粒(a)~(c)，即便在使用具備柔軟的刷毛的牙刷 的情況下，不僅寬度小于200M1的大小的凹部，而且直至寬度為100μπι以下的大小的微細的 凹部，也可以有效地發(fā)揮出較高的污垢去除性能的觀點出發(fā)，在配合后顆粒中優(yōu)選為85體 積％以下，進一步優(yōu)選為80體積％以下，更加優(yōu)選為75體積％以下。另外，顆粒(b)與顆粒 (c)的合計量在配合后顆粒中優(yōu)選為30~85體積％，進一步優(yōu)選為35~80體積％，更加優(yōu)選 為40~80體積％，更加優(yōu)選為50~75體積％。
[0064] 在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，從即便是具備柔軟的刷毛的牙刷， 也將由牙刷產(chǎn)生的刷洗應(yīng)力傳遞至較小的200μπι以下的顆粒，并且使配合后顆粒有效地進 入至寬度為200μπι以下的大小的牙齒表面的凹部的觀點，及提高存在配合后顆粒的潔齒劑 的起泡性或泡質(zhì)的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒 (a)及顆粒(b)的合計量與顆粒(c)及顆粒(d)的合計量的體積比（（a+b)/(c+d))優(yōu)選為0.5 以上，進一步優(yōu)選為0.6以上，更加優(yōu)選為0.65以上，且優(yōu)選為1以下，進一步優(yōu)選為0.9以 下，更加優(yōu)選為0.85以下。另外，顆粒(a)及顆粒(b)的合計量與顆粒(c)及顆粒(d)的合計量 的體積比（（a+b)/( c+d))優(yōu)選為0.5~1，進一步優(yōu)選為0.6~0.9，更加優(yōu)選為0.65~0.85。
[0065] 本發(fā)明的配合后顆粒也可以進一步存在由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的 粒度分布中的粒徑為250μπι以上且小于350μπι的顆粒(e)。關(guān)于該配合后顆粒中的顆粒(a)及 顆粒(b)的合計量與顆粒(e)的量的體積比（（a+b)/e)，從提高由顆粒(a)~(d)產(chǎn)生的清掃 性能的觀點出發(fā)，優(yōu)選大于1，進一步優(yōu)選為1.1以上，更加優(yōu)選為1.2以上，更進一步優(yōu)選為 1.3以上，且優(yōu)選為20以下，進一步優(yōu)選為18以下。另外，顆粒(a)及顆粒(b)的合計量與顆粒 (e)的量的體積比（（a+b)/e)優(yōu)選大于1且為20以下，進一步優(yōu)選為1.1~20,更加優(yōu)選為1.2 ~18,更進一步優(yōu)選為1.3~18。
[0066] 在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，從通過介于粒徑大于顆粒(a)的顆 粒間從而確保緩慢地崩解的行為的觀點、配合后顆粒大量進入至牙齒表面的微細的凹部來 提高牙垢去除性能的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆 粒(a)的量在配合后顆粒中優(yōu)選為3體積％以上，進一步優(yōu)選為5體積％以上，從提高泡質(zhì)及 起泡性的觀點出發(fā)，更加優(yōu)選為7體積％以上，從與顆粒(b)或顆粒(c)相互作用而促進顆粒 向微細的凹部進入的觀點出發(fā)，優(yōu)選為15體積％以下，進一步優(yōu)選為12體積％以下，更加優(yōu) 選為10體積％以下。另外，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，由激光衍射/散射式 粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(a)的量在配合后顆粒中優(yōu)選為3~15體積％，進一 步優(yōu)選為5~12體積％，更加優(yōu)選為7~10體積％。
[0067] 在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，關(guān)于由激光衍射/散射式粒徑分布 測定獲得的粒度分布中的顆粒(b)的量，從一邊與顆粒(a)良好地相互作用，一邊通過介于 粒徑大于顆粒(b)的顆粒間而確保緩慢地崩解的行為的觀點出發(fā)，在配合后顆粒中優(yōu)選為 12體積％以上，進一步優(yōu)選為15體積％以上，更加優(yōu)選為20體積％以上，且優(yōu)選為50體積％ 以下，進一步優(yōu)選為40體積％以下，更加優(yōu)選為35體積％以下。
[0068] 在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，關(guān)于由激光衍射/散射式粒徑分布 測定獲得的粒度分布中的顆粒(d)的量，從通過一邊將牙刷的刷毛的應(yīng)力傳遞至顆粒(a)~ 顆粒(c) 一邊與這些顆粒良好地相互作用從而確保緩慢地崩解的行為的觀點出發(fā)，在配合 后顆粒中優(yōu)選為5體積％以上，進一步優(yōu)選為10體積％以上，更加優(yōu)選為12體積％以上，且 優(yōu)選為25體積％以下，進一步優(yōu)選為22體積％以下，更加優(yōu)選為20體積％以下。
[0069] 另外，在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，關(guān)于由激光衍射/散射式粒徑 分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(e)的量，從提高由顆粒(a)~(d)產(chǎn)生的清掃性能的觀 點出發(fā)，在配合后顆粒中優(yōu)選大于0體積％，進一步優(yōu)選為1體積％以上，更加優(yōu)選為2體 積％以上，且優(yōu)選為25體積％以下，進一步優(yōu)選為20體積％以下，更加優(yōu)選為18體積％以 下。
[0070] 在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑分布測定 獲得的粒度分布中的粒徑為350μηι以上的顆粒的量在配合后顆粒中優(yōu)選為0體積％、或者大 于0體積％且為35體積％以下，進一步優(yōu)選為15體積％以下，更加優(yōu)選為10體積％以下，更 進一步優(yōu)選為5體積％以下。在用于獲得本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒的配合前 顆粒中，粒徑為350μηι以上的顆粒的量在配合前顆粒中優(yōu)選為10體積％以上，進一步優(yōu)選為 15體積％以上，更加優(yōu)選為20體積％以上，且優(yōu)選為35體積％以下。可以認為，本發(fā)明的潔 齒劑中所存在的配合后顆粒優(yōu)選在潔齒劑中配合顆粒后的混合工序中通過使顆粒的一部 分欠缺或使顆粒破碎而使粒度分布發(fā)生變化，只要是在該混合工序后存在于潔齒劑中的該 配合后顆粒，則在使用潔齒劑時，一邊給口腔內(nèi)帶來可以良好地感知顆粒的觸感，一邊通過 使用了牙刷的刷洗而崩解，從而變得容易進入至牙齒表面的微細的凹部。
[0071] 關(guān)于本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒的平均粒徑Γ(μπι)，從具有充分的研 磨力的觀點出發(fā)，優(yōu)選為75μπι以上，進一步優(yōu)選為100μπι以上，更加優(yōu)選為125μπι以上，從抑 制口腔中的異物感的觀點出發(fā)，優(yōu)選為250μπι以下，進一步優(yōu)選為220μπι以下，更加優(yōu)選為 210μπι以下，更進一步優(yōu)選為180μπι以下。并且，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒的平 均粒徑r(ym)優(yōu)選為75~250μπι，進一步優(yōu)選為100~220μπι，更加優(yōu)選為125~210μπι，更進一 步優(yōu)選為125~180μπι。
[0072] 另外，配合后顆粒的平均粒徑r為體積平均粒徑，并且為由激光衍射/散射式粒徑 分布測定獲得的粒徑為50μπι以上的顆粒的粒度分布中的中值粒徑。
[0073] 本發(fā)明的潔齒劑中所存在的具有特異的形狀或特異的粒度分布的上述配合后顆 粒的崩解強度為lgf/個以上且20gf/個以下。通過具有上述崩解強度，可以在利用牙刷等加 載載荷時通過不定形的形狀而逐漸緩慢地崩解，并且不會在口中感覺到異物感，而且可以 使顆粒進入至微細的凹部而將牙垢或著色污垢等污垢充分地去除。關(guān)于配合后顆粒的崩解 強度，從顯示出緩慢地崩解的行為且提高污垢去除性能的觀點、通過與配合后顆粒的特異 的形狀或特異的粒度分布的相互作用從而即便是具備柔軟的刷毛的牙刷也可以使配合后 顆粒一邊通過牙刷的應(yīng)力緩慢地崩解一邊進入至微細的凹部的觀點出發(fā)，為lgf/個以上， 優(yōu)選為2gf/個以上，進一步優(yōu)選為3gf/個以上。關(guān)于上述配合后顆粒的崩解強度，從即便通 過使用柔軟的牙刷等時的較低的載荷的負荷也賦予適度的崩解性的觀點、及降低異物感的 觀點出發(fā)，為20gf/個以下，優(yōu)選為15gf/個以下，從提高存在配合后顆粒的潔齒劑的起泡性 或泡質(zhì)的觀點出發(fā)，進一步優(yōu)選為l〇gf/個以下，更加優(yōu)選為8gf/個以下。另外，上述顆粒的 崩解強度為lgf/個以上且20gf/個以下，優(yōu)選為2~15gf/個，進一步優(yōu)選為3~10gf/個，更 加優(yōu)選為3~8gf/個。
[0074] 另外，本發(fā)明中所使用的配合后顆粒的崩解強度是在濕潤狀態(tài)下測定時的值，并 且是自潔齒劑中提取10個~20個配合后顆粒，使用壓縮試驗機（島津制作所，MCTM-500)，對 每個顆粒測定以加載速度1.51gf/秒對粒徑（180~200μπι)的顆粒進行壓縮而崩解時的載 荷，求出的平均值。另外，關(guān)于本發(fā)明中所使用的配合后顆粒，濕潤狀態(tài)下的崩解強度與干 燥狀態(tài)下的崩解強度為相同的值。
[0075] 本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒可以根據(jù)需要將成分(Β)的無機粘合劑制 成水溶液（以下，稱為"無機粘合劑水溶液"），與成分(Α)的水不溶性粉末材料混合，優(yōu)選使 用在成分(Α)中添加無機粘合劑水溶液而形成的顆粒作為配合前顆粒，將其配合于潔齒劑 中。在將這些混合時，也可以進一步添加成分(C)的粘合助劑。
[0076] 在含有硅酸鈉作為成分(Β)的情況下，作為該硅酸鈉，可以使用硅酸鈉水溶液，關(guān) 于硅酸鈉水溶液中的硅酸鈉（固形物成分）的含量，從顆粒的崩解特性、顆粒的制造性的觀 點出發(fā)，在硅酸鈉水溶液中優(yōu)選為20質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為30質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選 為35質(zhì)量％以上，從抑制粗大顆粒的觀點出發(fā)，優(yōu)選為65質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為60質(zhì) 量％。另外，硅酸鈉水溶液中的硅酸鈉(固形物成分)可以通過實施例中所記載的方法求出。 另外，在包含硅酸鈉作為成分(Β)的情況下，如果以成分(Α)與無機粘合劑水溶液的質(zhì)量比 (Α/無機粘合劑水溶液)為大致10~1、優(yōu)選為8~5的范圍調(diào)制，則可以良好地顆?；虼?， 無機粘合劑水溶液可以利用3倍量以下的水稀釋包含成分(Β)的硅酸鈉的無機粘合劑來進 行調(diào)制。進一步，也可以不利用水進行稀釋而與成分(Α)的水不溶性粉末材料混合，優(yōu)選在 成分(A)中添加無機粘合劑水溶液形成配合前顆粒。從一邊有效地形成空隙一邊凝聚而形 成顆粒的觀點出發(fā)，該無機粘合劑水溶液優(yōu)選以緩和的速度添加至成分(A)的水不溶性粉 末材料中。
[0077] 具體而言，例如，無機粘合劑水溶液的添加速度相對于100質(zhì)量份的該水不溶性粉 體材料(A)，優(yōu)選為35質(zhì)量份/分鐘以下，進一步優(yōu)選為20質(zhì)量份/分鐘以下，更加優(yōu)選為10 質(zhì)量份/分鐘以下，且優(yōu)選為0.5質(zhì)量份/分鐘以上，進一步優(yōu)選為0.8質(zhì)量份/分鐘以上，更 加優(yōu)選為1質(zhì)量份/分鐘以上。上述范圍在使用JIS K1408中記載的硅酸鈉1號、2號或3號的 情況下優(yōu)選。并且，所述無機粘合劑水溶液的添加速度，相對于100質(zhì)量份的水不溶性粉體 材料(A)，優(yōu)選為0.5~35質(zhì)量份/分鐘，進一步優(yōu)選為0.8~20質(zhì)量％，更加優(yōu)選為1~10質(zhì) 量％。
[0078] 另外，關(guān)于硅酸鈉（固形物成分）的添加速度，從與上述相同的觀點出發(fā)，相對于 1〇〇質(zhì)量份的該水不溶性粉體材料(A)，優(yōu)選為19質(zhì)量份/分鐘以下，進一步優(yōu)選為11質(zhì)量 份/分鐘以下，更加優(yōu)選為5.5質(zhì)量份/分鐘以下，且優(yōu)選為0.1質(zhì)量份/分鐘以上，進一步優(yōu) 選為0.2質(zhì)量份/分鐘以上，更加優(yōu)選為0.3質(zhì)量份/分鐘以上。并且，關(guān)于所述硅酸鈉（固形 物成分)的添加速度，相對于100質(zhì)量份的水不溶性粉體材料，優(yōu)選為〇. 1~19質(zhì)量份/分鐘， 進一步優(yōu)選為0.2~11質(zhì)量％，更加優(yōu)選為0.3~5.5質(zhì)量％。
[0079] 如上所述，在成分(A)中添加成分(B)的水溶液(無機粘合劑水溶液）、根據(jù)需要的 成分(C)形成用于獲得配合后顆粒的配合前顆粒時，優(yōu)選通過滾動造粒法進行制造。通過將 由滾動造粒法制造的配合前顆粒配合于潔齒劑中，可以獲得本發(fā)明中所使用的具有特異的 形狀的顆粒而并非一直以來通用的通過噴霧造粒法獲得的球形的顆粒，另外，可以獲得粒 度分布遍及寬范圍的寬的配合前顆粒，由此可以獲得本發(fā)明中所使用的具有特異的粒度分 布的顆粒，另外，可以使更多的空隙分散存在于顆粒內(nèi)，從而可以獲得具有上述特性且顯示 出緩慢地崩解的行為的配合后顆粒。
[0080] 另外，在通過如上所述的滾動造粒法制造用于獲得配合后顆粒的配合前顆粒時， 優(yōu)選使用容器旋轉(zhuǎn)型造粒機。作為該容器旋轉(zhuǎn)型造粒機，可以列舉轉(zhuǎn)鼓式造粒機及盤式造 粒機。作為轉(zhuǎn)鼓式造粒機，只要是鼓狀的圓筒旋轉(zhuǎn)來進行處理的，就沒有特別地限定。除了 水平或略微傾斜的轉(zhuǎn)鼓式造粒機以外，也可以使用錐鼓造粒機、多級錐鼓造粒機等。這些裝 置可以為分批式、連續(xù)式的任一種。
[0081] 進一步，如上所述，在以緩和的速度將無機粘合劑水溶液添加至成分(A)的水不溶 性粉末材料中時，優(yōu)選使用多流體噴嘴。另外，多流體噴嘴是使液體與微?；脷怏w(空氣、 氮氣等)通過獨立的流路而流通至噴嘴前端部附近進行混合、微?；膰娮?，具體而言，可 以列舉:二流體噴嘴、三流體噴嘴、四流體噴嘴等。
[0082] 關(guān)于使用多流體噴嘴供給無機粘合劑水溶液時的無機粘合劑水溶液的溫度，從添 加時的穩(wěn)定性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為5°C以上，進一步優(yōu)選為10°C以上，且優(yōu)選為50°C以下，進 一步優(yōu)選為30°C以下。并且，使用多流體噴嘴供給無機粘合劑水溶液時的無機粘合劑水溶 液的溫度優(yōu)選為5~50°C，進一步優(yōu)選為10~30°C。
[0083]另外，在使用成分(C)的粘合助劑的情況下，優(yōu)選與成分(A) -起配合該成分(C)。 具體而言，獲得配合成分(C)的情況下的配合前顆粒的制造工序優(yōu)選具備使用容器旋轉(zhuǎn)型 造粒機將成分(A)的水不溶性粉末材料與成分(C)的粘合助劑混合的工序，更優(yōu)選進一步具 備使用多流體噴嘴向成分(A)和成分(C)(優(yōu)選為成分(A)與成分(C)的混合物)供給作為成 分(B)的無機粘合劑水溶液的工序。
[0084]從確保配合后顆粒的穩(wěn)定性的觀點出發(fā)，所獲得的用于獲得配合后顆粒的配合前 顆粒優(yōu)選進一步進行干燥。作為該干燥，具體而言，可以列舉:棚干燥、流動層干燥、減壓干 燥、微波干燥等。其中，從設(shè)備上的觀點出發(fā)，優(yōu)選為棚干燥、流動層干燥。
[0085]從熱負荷的觀點出發(fā)，干燥溫度優(yōu)選為60 °C以上，進一步優(yōu)選為70°C以上，更加優(yōu) 選為80 °C以上。另外，優(yōu)選為200°C以下，進一步優(yōu)選為150°C以下，更加優(yōu)選為110 °C，更加 優(yōu)選為90 °C以下。并且，干燥溫度優(yōu)選為60~200 °C，進一步優(yōu)選為70~150 °C，更加優(yōu)選為 80~110°C，更加優(yōu)選為80~90°C。
[0086] 干燥時間優(yōu)選為10分鐘以上，進一步優(yōu)選為20分鐘以上，更加優(yōu)選為30分鐘以上， 且優(yōu)選為24小時以下，進一步優(yōu)選為20小時以下，更加優(yōu)選為5小時以下。并且，干燥時間優(yōu) 選為10分鐘~24小時，進一步優(yōu)選為20分鐘~20小時，更加優(yōu)選為30分鐘~5小時。
[0087] 關(guān)于用于獲得本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后的顆粒的配合前顆粒，在由激光 衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的以下的顆粒(b'）~(e-Γ)中，顆粒(b'）的 量與顆粒(c'）的量的體積比(b'/c'）優(yōu)選為0.6以上且1.25以下，顆粒(d'）的量與顆粒(c'） 的量的體積比（d'/c'）優(yōu)選為0.7以上且1.2以下，顆粒(e-Γ)的量與顆粒(c'）的量的體積 比（e-l'/c'）優(yōu)選為0.4以上且1.1以下。即，配合前顆粒中粒徑為100μπι以上且小于300μπι的 范圍的顆粒具有以大致相同程度的量存在的寬廣的峰，通過將其配合，可以使如上所述的 具有特異的形狀或特異的粒度分布的配合后顆粒存在于潔齒劑中。
[0088] (b'）粒徑為100μπι以上且小于150μηι的顆粒；
[0089] (c，）粒徑為150μπι以上且小于200μπι的顆粒；
[0090] (d，）粒徑為200μπι以上且小于250μπι的顆粒；
[0091] (e-Γ )粒徑為250μπι以上且小于300μπι的顆粒；
[0092] 另外，配合前顆粒是指用于獲得本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒的配合于 潔齒劑之前的顆粒，且是通過激光衍射/散射式粒徑分布測定求出的粒徑為50μπι以上的顆 粒。另外，可以認為通過激光衍射/散射式粒徑分布測定求出的粒徑為大致近似于上述最大 直徑汍'）與最小直徑(Ds'）的平均值的值。
[0093] 在配合前顆粒中，從使配合后顆粒中的顆粒(b)的量與顆粒(c)的量的體積比（b/ c)成為所期望的值的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆 粒(b'）的量與顆粒(c'）的量的體積比（b'/c'）優(yōu)選為0.6以上，進一步優(yōu)選為0.75以上，更 加優(yōu)選為0.8以上。在配合前顆粒中，從對配合后顆粒有效地賦予緩慢地崩解的行為的觀點 出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(b'）的量與顆粒(c'）的 量的體積比（b'/c'）優(yōu)選為1.25以下，進一步優(yōu)選為1.15以下，更加優(yōu)選為1.05以下。另外， 在配合前顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(b'）的量與 顆粒(c'）的量的體積比（b'/c'）優(yōu)選為0.6以上且1.25以下，進一步優(yōu)選為0.75~1.15,更 加優(yōu)選為0.8~1.05。
[0094] 在配合前顆粒中，從使配合后顆粒中的顆粒(d)的量與顆粒(c)的量的體積比（d/ c)成為所期望的值的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆 粒(d'）的量與顆粒(c'）的量的體積比（d'/c'）優(yōu)選為0.7以上，進一步優(yōu)選為0.8以上，更加 優(yōu)選為0.85以上。在配合前顆粒中，從對配合后顆粒有效地賦予緩慢地崩解的行為的觀點 出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(d'）的量與顆粒(c'）的 量的體積比（d'/c'）優(yōu)選為1.2以下，進一步優(yōu)選為1.15以下，更加優(yōu)選為1.05以下。另外， 在配合前顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(d'）的量與 顆粒(c'）的量的體積比（d'/c'）優(yōu)選為0.7以上且1.2以下，進一步優(yōu)選為0.8~1.15,更加 優(yōu)選為0.85~1.05。
[0095] 在配合前顆粒中，從容易獲得具有緩慢地崩解的行為的配合后顆粒的觀點出發(fā)， 由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(e-Γ)的量與顆粒(c'）的量的 體積比（e-l'/c'）優(yōu)選為0.4以上，進一步優(yōu)選為0.5以上，更加優(yōu)選為0.6以上，更進一步優(yōu) 選為0.7以上。在配合前顆粒中，從對配合后顆粒有效地賦予緩慢地崩解的行為的觀點出 發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(e-Γ )的量與顆粒(c'）的 量的體積比（e-l'/c'）優(yōu)選為1.1以下，進一步優(yōu)選為1以下。另外，在配合前顆粒中，由激光 衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(e-Γ)的量與顆粒(c'）的量的體積比 (e-Γ/c '）優(yōu)選為0.4以上且1.1以下，進一步優(yōu)選為0.5~1.1，更加優(yōu)選為0.6~1，更加優(yōu) 選為0.7~1。
[0096] 另外，在配合前顆粒中，從容易獲得具有緩慢地崩解的行為的配合后顆粒的觀點 出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的（a'）粒徑為50μπι以上且小于 100Μ1的顆粒(顆粒(a'））的量與顆粒(c'）的量的體積比(a'/c'）優(yōu)選為0.2以上，進一步優(yōu) 選為0.3以上。在配合前顆粒中，從獲得具有緩慢地崩解的行為且也可以有效地進入至微細 的凹部的配合后顆粒的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的 (a'）粒徑為50μπι以上且小于100μπι的顆粒(顆粒(a'））的量與顆粒（c'）的量的體積比（a'/ c'）優(yōu)選為1.2以下，進一步優(yōu)選為1以下。另外，在配合前顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑 分布測定獲得的粒度分布中的(a'）粒徑為50μπι以上且小于150μπι的顆粒(顆粒(a'））的量與 顆粒(b'）的量的體積比(a'/b'）優(yōu)選為0.2~1.2,進一步優(yōu)選為0.3~1。
[0097] 在配合前顆粒中，從使配合后顆粒中的顆粒(a)或顆粒(b)良好地相互作用并且確 保緩慢地崩解的行為的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的 顆粒(a'）的量在配合前顆粒中優(yōu)選為3~20體積％，進一步優(yōu)選為5~18體積％，更加優(yōu)選 為7~15體積％。
[0098] 在配合前顆粒中，從使顆粒(c)以所期望的量存在于配合后顆粒中的觀點、及使顆 粒(a)或顆粒(b)良好地相互作用并且確保緩慢地崩解的行為的觀點出發(fā)，由激光衍射/散 射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒（c'）的量在配合前顆粒中優(yōu)選為5~30體 積％，進一步優(yōu)選為8~25體積％，更加優(yōu)選為10~20體積％。
[0099] 進一步，在配合前顆粒中，從容易獲得具有緩慢地崩解的行為的配合后顆粒的觀 點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的(e-2 '）粒徑為300μπι以上且 小于550μπι的顆粒(顆粒(e-2'））的量與顆粒(b'）的量的體積比（e-2'/b'）優(yōu)選為0.3以上， 進一步優(yōu)選為0.4以上。在配合前顆粒中，從獲得具有緩慢地崩解的行為且也可以有效地進 入至微細的凹部的配合后顆粒的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度 分布中的顆粒(e_2'）的量與顆粒(b'）的量的體積比（e-2'/b'）優(yōu)選為1以下，進一步優(yōu)選為 0.95以下。另外，在配合前顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的 顆粒(e-2'）的量與顆粒(b'）的量的體積比（e-2'/b'）優(yōu)選為0.3~1，進一步優(yōu)選為0.4~ 0.95〇
[0100]在配合前顆粒中，從使配合后顆粒中的顆粒(a)或顆粒(b)良好地相互作用，確保 緩慢地崩解的行為的觀點出發(fā)，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆 粒(e-2'）的量在配合前顆粒中優(yōu)選為2~15體積％，進一步優(yōu)選為5~12體積％，更加優(yōu)選 為7~12體積％。
[0101]另外，在配合前顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的粒 徑為350μηι以上的顆粒的量在配合前顆粒中優(yōu)選為5~50體積％，進一步優(yōu)選為10~45體 積％，更加優(yōu)選為15~42體積％。
[0102] 關(guān)于配合前顆粒的平均粒徑Γ'（μπι)，從具有充分的研磨力的觀點出發(fā)，優(yōu)選為50μ m以上，進一步優(yōu)選為75μηι以上，更加優(yōu)選為100μπι以上，從抑制口腔中的異物感的觀點出 發(fā)，優(yōu)選為500μπι以下，進一步優(yōu)選為450μπι以下，更加優(yōu)選為400μπι以下。并且，配合前顆粒 的平均粒徑r'（ym)優(yōu)選為50~500μπι，進一步優(yōu)選為75~450μπι，更加優(yōu)選為100~400μπι。
[0103] 另外，配合前顆粒的平均粒徑r '為體積平均粒徑，并且為由激光衍射/散射式粒徑 分布測定獲得的粒徑為50μπι以上的顆粒的粒度分布的中值粒徑。
[0104] 關(guān)于配合前顆粒的崩解強度，從在本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒中確保 緩慢地崩解的行為及較高的污垢去除性能的觀點出發(fā)，優(yōu)選為lgf/個以上，進一步優(yōu)選為 2gf/個以上，更加優(yōu)選為3gf/個以上。關(guān)于上述配合前顆粒的崩解強度，從即便通過使用柔 軟的牙刷等時的較低的載荷的負荷也對本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒賦予適度 的崩解性的觀點、及降低異物感的觀點出發(fā)，優(yōu)選為20gf/個以下，進一步優(yōu)選為15gf/個以 下，更加優(yōu)選為l〇gf/個以下，更加優(yōu)選為8gf/個以下。另外，上述顆粒的崩解強度優(yōu)選為 lgf/個以上且20gf/個以下，優(yōu)選為2~15gf/個，進一步優(yōu)選為3~10gf/個，更加優(yōu)選為3~ 8gf/個。
[0105] 另外，本發(fā)明中所使用的配合前顆粒的崩解強度是在濕潤狀態(tài)下測定時的值，可 以通過與配合后顆粒的崩解強度同樣的方法而求出。另外，關(guān)于配合前顆粒，濕潤狀態(tài)下的 崩解強度與干燥狀態(tài)下的崩解強度為相同的值。
[0106] 關(guān)于配合前顆粒的投影面的面積(SA'）與以該投影面中的最大直徑(Dl'）為直徑的 外接圓的面積(&'）的比（Sa'/Ss'）的平均值，從對由配合前顆粒獲得的配合后顆粒賦予緩 慢地崩解的行為的觀點出發(fā)，優(yōu)選為0.5以上，進一步優(yōu)選為0.6以上，更加優(yōu)選為0.65以 上。關(guān)于配合前顆粒的投影面的面積(SA'）與以該投影面中的最大直徑(以'）為直徑的外接 圓的面積(Ss'）的比（Sa'/Ss'）的平均值，從使由配合前顆粒獲得的配合后顆粒表現(xiàn)出適度 的崩解性并且有效地傳遞來自牙刷的載荷的觀點出發(fā)，優(yōu)選為0.9以下，進一步優(yōu)選為0.85 以下。另外，配合前顆粒的投影面的面積(SA'）、最大直徑(Dl'）、以其為直徑的外接圓的面積 (&'）、以及比（Sa'/Ss'）的平均值均為通過與上述配合后顆粒同樣的方法而求出的值。
[0107] 關(guān)于配合前顆粒的投影面中的最大直徑(Dl'）與最小直徑(Ds'）的比（Dl'/Ds'）的 平均值，從由配合前顆粒獲得成為不定形且顯示出緩慢地崩解的行為的配合后顆粒的觀點 出發(fā)，優(yōu)選為1.2以上，進一步優(yōu)選為1.3以上，更加優(yōu)選為1.5以上。關(guān)于配合前顆粒的投影 面中的最大直徑(Dl'）與最小直徑(Ds'）的比(Dl'/Ds'）的平均值，從由配合前顆粒獲得的配 合后顆粒表現(xiàn)出適度的崩解性并且有效地傳遞來自牙刷的載荷的觀點出發(fā)，優(yōu)選為2以下， 進一步優(yōu)選為1.8以下，更加優(yōu)選為1.75以下。另外，配合前顆粒的投影面中的最大直徑 (Dl'）與最小直徑(Ds'）的比（Dl'/Ds'）的平均值優(yōu)選為1.2~2，進一步優(yōu)選為1.3~1.8，更 加優(yōu)選為1.5~1.75。
[0108] 關(guān)于通過使用上述配合前顆粒而獲得的本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒 的量，從充分地發(fā)揮出該顆粒的崩解行為而提高牙垢或污垢去除效果并且提高使用感的觀 點出發(fā)，在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為1質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為3質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為 5質(zhì)量％以上。關(guān)于本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒的量，從不感覺到異物感且不損 傷牙齒的牙釉質(zhì)而發(fā)揮出牙垢或污垢去除效果的觀點出發(fā)，在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為50 質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為30質(zhì)量％以下，更加優(yōu)選為25質(zhì)量％以下，更進一步優(yōu)選為20質(zhì) 量％以下。另外，本發(fā)明的潔齒劑中所存在的配合后顆粒的量在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為1 ~50質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為3~30質(zhì)量％，更加優(yōu)選為5~25質(zhì)量％，更進一步優(yōu)選為5~20 質(zhì)量％。
[0109] 為了獲得本發(fā)明的潔齒劑中所存在的如上所述具有特異的形狀或特異的粒度分 布的配合后顆粒，優(yōu)選在潔齒劑中配合下述的粘結(jié)劑之后，將配合前顆粒配合于潔齒劑中。 進一步，在潔齒劑中配合粘結(jié)劑后的工序中，將上述配合前顆粒添加至潔齒劑中之后，對該 潔齒劑進行攪拌的攪拌速度也取決于攪拌裝置或攪拌時間，但優(yōu)選以lOrpm以上進行攪拌， 進一步優(yōu)選以攪拌速度20rpm以上進行攪拌，且優(yōu)選以攪拌速度250rpm以下進行攪拌，另 外，優(yōu)選以攪拌速度lOrpm以上且250rpm以下進行攪拌，進一步優(yōu)選以攪拌速度20rpm以上 且250pm以下進行攪拌。在以上述攪拌速度攪拌潔齒劑時，例如可以利用萬能混合攪拌機 (5XDMV-10-r，Dalton公司制造）、槳式混合機(TK PaddleMixer 2SL-10,特殊機器株式會 社)等公知的攪拌機進行攪拌，在使用上述萬能混合攪拌機的情況下，優(yōu)選將自轉(zhuǎn)的攪拌速 度設(shè)定為40~230rpm，更加優(yōu)選設(shè)定為90~200rpm，優(yōu)選將公轉(zhuǎn)的攪拌速度設(shè)定為20~ 110pm，更加優(yōu)選設(shè)定為35~75rpm。在使用上述槳式混合機的情況下，槳的攪拌速度優(yōu)選為 10~70rpm，禍輪的攪拌速度優(yōu)選為20~90rpm。另外，在潔齒劑的攪拌中，只要可以使?jié)嶟X 劑中的顆粒分散化即可，在攪拌速度為低速的情況下，只要將攪拌時間設(shè)定為長時間即可， 在攪拌速度為高速的情況下，只要將攪拌時間設(shè)定為短時間即可。從上述觀點出發(fā)，攪拌時 間優(yōu)選為5分鐘~90分鐘，進一步優(yōu)選為10分鐘~60分鐘。
[0110] 在本發(fā)明的潔齒劑的制造方法中，優(yōu)選具備在添加配合前顆粒之后，對該潔齒劑 進行攪拌的工序。通過具備該工序，從而具有寬廣的粒度分布的配合前顆粒包含較多粒徑 為100~200μπι的顆粒，并且可以獲得具有包含較多粒徑小于粒度分布的峰的粒徑的粒度分 布的配合后顆粒。
[0111] 本發(fā)明的潔齒劑是配合含有上述成分(Α)及成分(Β)、根據(jù)需要的成分(C)或成分 (D)的顆粒而成的，由于存在于潔齒劑中的配合后的顆粒(配合后顆粒)具有特異的形狀或 特異的粒度分布，并且顯示出緩慢地崩解的行為，因此，從通過起泡性的協(xié)同效果確保較高 的清掃效果的觀點出發(fā)，優(yōu)選進一步配合表面活性劑。由此，可以帶來良好的起泡性，且使 起泡性持續(xù)，可以充分地帶來牙垢或污垢的去除作用直至如牙齒與牙齒的間隙那樣的狹小 的區(qū)域，可以在使用本發(fā)明的潔齒劑后的口腔內(nèi)對牙面賦予光滑的觸感，也提高使用感。
[0112] 作為表面活性劑，可以使用陰離子表面活性劑、非離子表面活性劑、兩性離子表面 活性劑。作為該陰離子表面活性劑，例如可以列舉：月桂基硫酸鈉、肉豆蔻基硫酸鈉等烷基 硫酸鹽;N-月桂?；“彼徕c、N-肉豆蔻?；“彼徕c等N-?；“彼猁};N-棕櫚酰基谷氨 酸鈉等N-?；劝彼猁}、N-甲基-N-?；；撬徕c、N-甲基-N-?；彼徕c、α-烯烴磺酸 鈉、二辛基磺基琥珀酸鈉等。作為該陰離子表面活性劑，從帶來良好的發(fā)泡性或使用感的觀 點出發(fā)，優(yōu)選為陰離子表面活性劑，更加優(yōu)選為月桂基硫酸鈉等烷基硫酸鹽。
[0113] 關(guān)于表面活性劑的配合量，從確保良好的起泡性，提高清掃效果或使用感且?guī)?良好的香味的觀點出發(fā)，在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為〇. 2質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為0.3質(zhì) 量％以上，更加優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以上。另外，關(guān)于表面活性劑的配合量，從抑制損害香味的 觀點出發(fā)，在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為2.0質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為1.7質(zhì)量％以下，更加 優(yōu)選為1.5質(zhì)量％以下。進一步，表面活性劑的配合量在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為0.2~2.0 質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為0.3~1.7質(zhì)量％，更加優(yōu)選為0.5~1.5質(zhì)量％。本發(fā)明的潔齒劑中的 上述配合后顆粒及表面活性劑的質(zhì)量比（配合后顆粒/表面活性劑)優(yōu)選為0.5~250,更加 優(yōu)選為2~100,更加優(yōu)選為4~40。
[0114] 關(guān)于陰離子表面活性劑的配合量，從提高起泡性的良好程度、清掃效果或使用感 且?guī)砹己玫南阄兜挠^點出發(fā)，在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為0.2質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為 0.3質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以上。另外，關(guān)于陰離子表面活性劑的配合量，從抑 制損害香味的觀點出發(fā)，在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為2.5質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為2.0質(zhì) 量％以下，更加優(yōu)選為1.7質(zhì)量％。進一步，陰離子表面活性劑的配合量在本發(fā)明的潔齒劑 中優(yōu)選為〇. 2~2.5質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為0.3~2.0質(zhì)量％，更加優(yōu)選為0.5~1.7質(zhì)量％。關(guān) 于烷基硫酸鹽的配合量，從提高起泡性的良好程度、清掃效果或使用感且?guī)砹己玫南阄?的觀點出發(fā)，在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為〇. 2質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為0.3質(zhì)量％以上，更 加優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以上。另外，關(guān)于烷基硫酸鹽的配合量，從抑制損害香味的觀點出發(fā)，在 本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為2.5質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為2.0質(zhì)量％以下，更加優(yōu)選為1.7質(zhì) 量％以下。進一步，烷基硫酸鹽的配合量在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為0.2~2.5質(zhì)量％，進一 步優(yōu)選為0.3~2.0質(zhì)量％，更加優(yōu)選為0.5~1.7質(zhì)量％。
[0115] 本發(fā)明的潔齒劑優(yōu)選進一步配合粘結(jié)劑。作為粘結(jié)劑，可以列舉:羧甲基纖維素 鈉、聚丙烯酸鈉、羥乙基纖維素、蒙脫石、黃原膠、卡拉膠、海藻酸鈉、瓜爾膠、果膠等，也可以 使用選自這些中的1種或2種以上，潔齒劑優(yōu)選為牙膏，更加優(yōu)選配合選自羧甲基纖維素鈉、 黃原膠、及卡拉膠中的1種或2種以上。關(guān)于本發(fā)明的潔齒劑中的粘結(jié)劑的配合量，從使上述 成分一邊溶解、分散一邊在口腔內(nèi)有效地擴散，有效地發(fā)揮出利用緩慢地崩解的配合后顆 粒的牙垢或污垢去除效果，從而可以提高牙齒表面的光滑的觸感及去污感，通過與表面活 性劑的協(xié)同效果帶來良好的起泡性的觀點，及通過顆粒與表面活性劑的協(xié)同效果維持刷牙 過程中的良好的起泡性的觀點出發(fā)，在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以上，進一步優(yōu) 選為0.5質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為0.7質(zhì)量％以上，且優(yōu)選為3質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為2質(zhì) 量％以下，更加優(yōu)選為1.8質(zhì)量％以下。另外，本發(fā)明的潔齒劑中的粘結(jié)劑的配合量在本發(fā) 明的潔齒劑中優(yōu)選為0.1~3質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為0.5~2質(zhì)量％，更加優(yōu)選為0.7~1.8質(zhì) 量％。關(guān)于本發(fā)明的潔齒劑中的上述配合后顆粒及粘結(jié)劑的質(zhì)量比(配合后顆粒/粘結(jié)劑）， 從使上述成分一邊溶解、分散一邊在口腔內(nèi)有效地擴散，有效地發(fā)揮出利用緩慢地崩解的 配合后顆粒的牙垢或污垢去除效果，從而可以提高牙齒表面的光滑的觸感及去污感，帶來 良好的起泡性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為〇. 2~500，更加優(yōu)選為1~60，更加優(yōu)選為2.5~30。
[0116] 從提高保存穩(wěn)定性或口腔內(nèi)的觸感的觀點出發(fā)，本發(fā)明的潔齒劑優(yōu)選除了上述粘 結(jié)劑以外進一步配合增稠性二氧化硅。增稠性二氧化硅是指吸油量為200~400mL/100g的 二氧化硅，與吸油量為50~150mL/100g的研磨性二氧化硅不同。在此，吸油量是表示二氧化 硅可以擔載的油量，測定方法是通過基于JISK5101-13-2(2004年制定）的方法，根據(jù)所吸收 的熟亞麻仁油的量進行特定。本發(fā)明的潔齒劑中的增稠性二氧化硅的配合量在本發(fā)明的潔 齒劑中優(yōu)選為1質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為2質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為3質(zhì)量％以上，且優(yōu)選 為15質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為10質(zhì)量％以下。另外，本發(fā)明的潔齒劑中的增稠性二氧化硅 的配合量優(yōu)選為1~15質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為2~10質(zhì)量％，更加優(yōu)選為3~10質(zhì)量％。
[0117] 本發(fā)明的潔齒劑也可以進一步配合濕潤劑。作為濕潤劑，可以列舉選自山梨糖醇、 甘油、丙二醇、1，3_ 丁二醇、乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、木糖醇、麥芽糖醇、乳糖醇、赤蘚糖 醇等中的1種或2種以上。關(guān)于本發(fā)明的潔齒劑中的濕潤劑的配合量，從使上述成分一邊溶 解、分散一邊在口腔內(nèi)有效地擴散，有效地發(fā)揮出利用緩慢地崩解的配合后顆粒的牙垢或 污垢去除效果，與表面活性劑相互作用而帶來良好的起泡性的觀點出發(fā)，在本發(fā)明的潔齒 劑中優(yōu)選為5質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為10質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為15質(zhì)量％以上，且優(yōu)選 為60質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為50質(zhì)量％以下，更加優(yōu)選為40質(zhì)量％以下。另外，本發(fā)明的 潔齒劑中的濕潤劑的配合量在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為5~60質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為10~ 50質(zhì)量％，更加優(yōu)選為15~40質(zhì)量％。
[0118] 本發(fā)明的潔齒劑也可以進一步配合水。關(guān)于本發(fā)明的潔齒劑中的水分量，從使上 述成分一邊溶解、分散一邊在口腔內(nèi)有效地擴散，有效地發(fā)揮出利用緩慢地崩解的顆粒的 牙垢或污垢去除效果，即便是通過柔軟的牙刷等加載的較低的載荷也可以發(fā)揮出較高的污 垢去除能力，另外，與表面活性劑相互作用帶來良好的起泡性的觀點出發(fā)，在本發(fā)明的潔齒 劑中優(yōu)選為3質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為5質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為7質(zhì)量％以上，且優(yōu)選為 50質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為45質(zhì)量％以下，更加優(yōu)選為40質(zhì)量％以下。另外，關(guān)于本發(fā)明 的潔齒劑中的水分量，從帶來良好的溶解性或分散性、及牙垢或污垢去除能力的觀點出發(fā)， 在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為3~50質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為5~45質(zhì)量％，更加優(yōu)選為7~40質(zhì) 量％。另外，該水分量是將所配合的水分量及所配合的其它成分中的水分量的全部累加所 得到的量，這些也可以由各配合量利用計算而算出，例如可以利用卡爾費休水分計進行測 定。作為卡爾費休水分計，例如可以使用微量水分測定裝置(平沼產(chǎn)業(yè)株式會社）。對于該裝 置，可以取潔齒劑5g，使之懸濁于無水甲醇25g中，分取該懸濁液0.02g進行測定，將所測得 的水分量設(shè)定為水的配合量。關(guān)于本發(fā)明的潔齒劑中的上述配合后顆粒及水分量的比率 (配合后顆粒/水分量），從帶來良好的溶解性或分散性、及牙垢或污垢去除能力的觀點出 發(fā)，優(yōu)選為〇. 02~15，更加優(yōu)選為0.1~6，更加優(yōu)選為0.2~3。
[0119] 本發(fā)明的潔齒劑優(yōu)選配合pH值調(diào)節(jié)劑。作為該pH值調(diào)節(jié)劑，從改善本發(fā)明的風味、 防止危害性的觀點出發(fā)，可以列舉:磷酸及其鹽(磷酸氫二鈉、磷酸二氫鈉等磷酸鈉等）、檸 檬酸及其鹽、蘋果酸及其鹽、葡萄糖酸及其鹽、馬來酸及其鹽、天冬氨酸及其鹽、葡萄糖酸及 其鹽、琥珀酸及其鹽、葡糖醛酸及其鹽、富馬酸及其鹽、谷氨酸及其鹽、己二酸及其鹽、鹽酸、 氫氧化鈉、氫氧化鉀等，可以使用選自這些中的1種或優(yōu)選使用2種以上。本發(fā)明的潔齒劑優(yōu) 選包含選自磷酸氫二鈉、磷酸二氫鈉中的磷酸及其鹽作為pH值調(diào)節(jié)劑。pH值調(diào)節(jié)劑的配合 量只要成為所期望的pH值，就沒有特別限制，在本發(fā)明的潔齒劑中優(yōu)選為0.01~5質(zhì)量％， 進一步優(yōu)選為ο. 1~3質(zhì)量％。另外，本發(fā)明的潔齒劑的pH值優(yōu)選大于7，進一步優(yōu)選為7.5以 上，更加優(yōu)選為7.8以上，且優(yōu)選為11以下，進一步優(yōu)選為10以下，更加優(yōu)選為9.5以下。在 此，本發(fā)明的潔齒劑的pH值是指使用pH電極利用水稀釋成10質(zhì)量％時在25°C下測得的值。
[0120] 本發(fā)明的潔齒劑可以配合上述以外的其它成分，例如研磨劑、賦形劑、甜味劑、防 腐劑、香料、藥用成分、著色劑、其它通常所使用的成分。
[0121] 上述的其它成分可以單獨使用1種，也可以組合2種以上使用。
[0122] 關(guān)于上述的本發(fā)明的實施方式，進一步公開以下的潔齒劑用顆粒及潔齒劑。
[0123] [1]-種潔齒劑，其中，所述潔齒劑是配合含有水不溶性粉末材料(A)、及無機粘合 劑(B)的顆粒而成的，
[0124] 關(guān)于存在于該潔齒劑中的配合后的顆粒，該顆粒的投影面的面積(SA)與以該投影 面中的最大直徑(Dl)為直徑的外接圓的面積(Ss)的比（Sa/Ss)的平均值為0.5以上且0.9以 下，并且配合后的顆粒的崩解強度為lgf/個以上且20gf/個以下。
[0125] [2]如上述[1]的潔齒劑，其中，關(guān)于存在于潔齒劑中的配合后的顆粒，該顆粒的投 影面中的最大直徑(Dl)與最小直徑(Ds)的比(Dl/Ds)的平均值優(yōu)選為1.8以下，進一步優(yōu)選 為1.7以下，更加優(yōu)選為1.65以下，且優(yōu)選為1.2以上，進一步優(yōu)選為1.3以上，更加優(yōu)選為 1.4以上。
[0126] [3]如上述[1]或[2]的潔齒劑，其中，配合后的顆粒的投影面的面積(SA)與以該投 影面中的最大直徑(Dl)為直徑的外接圓的面積(Ss)的比（Sa/Ss)的平均值優(yōu)選為0.6以上， 進一步優(yōu)選為0.65以上，更進一步優(yōu)選為0.7以上，且優(yōu)選為0.85以下，進一步優(yōu)選為0.82 以下。
[0127] [4]-種潔齒劑，其中，所述潔齒劑是配合含有水不溶性粉末材料(A)、及無機粘合 劑(B)的顆粒而成的，
[0128] 關(guān)于存在于該潔齒劑中的配合后的顆粒，在由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲 得的粒度分布中的以下的顆粒(a)~(d)中，顆粒(b)的量與顆粒(c)的量的體積比(b/c)為 0.7以上且1.2以下，顆粒(d)與顆粒(c)的體積比（d/c)為0.2以上且1以下，顆粒(b)的量與 顆粒(d)的量的體積比(b/d)大于1且為5以下，配合后的顆粒中的顆粒(c)的量為15體積％ 以上且55體積％以下，且配合后的顆粒的崩解強度為lgf/個以上且20gf/個以下，
[0129] (a)粒徑為50μηι以上且小于100μπι的顆粒；
[0130] (b)粒徑為100μπι以上且小于150μηι的顆粒；
[0131] (c)粒徑為150μπι以上且小于200μπι的顆粒；
[0132] (d)粒徑為200μπι以上且小于250μπι的顆粒。
[0133] [5]如上述[4]的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑分布 測定獲得的粒度分布中的顆粒(b)的量與顆粒(c)的量的體積比（b/c)優(yōu)選為0.75以上，進 一步優(yōu)選為〇. 8以上，且優(yōu)選為1.1以下，進一步優(yōu)選為1.0以下，更加優(yōu)選為0.95以下。
[0134] [6]如上述[4]或[5]的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中，由激光衍射/散射式粒徑 分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(d)的量與顆粒(c)的量的體積比（d/c)優(yōu)選為0.25以 上，進一步優(yōu)選為0.3以上，且優(yōu)選為0.9以下，進一步優(yōu)選為0.85以下，更加優(yōu)選為0.8以 下。
[0135] [7]如上述[4]至[6]中任一項的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中，由激光衍射/散 射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(b)的量與顆粒(d)的量的體積比(b/d)優(yōu)選為 1.1以上，進一步優(yōu)選為1.2以上，且優(yōu)選為4以下，進一步優(yōu)選為2.8以下。
[0136] [8]如上述[4]至[7]中任一項的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中，由激光衍射/散 射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(c)的量優(yōu)選為20體積％以上，進一步優(yōu)選為 23體積％以上，且優(yōu)選為50體積％以下，進一步優(yōu)選為45體積％以下，更加優(yōu)選為40體積％ 以下。
[0137] [9]如上述[4]至[8]中任一項的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中，顆粒(b)與顆粒 (c) 的合計量優(yōu)選為30體積％以上，進一步優(yōu)選為35體積％以上，更加優(yōu)選為40體積％以 上，更進一步優(yōu)選為50體積％以上，且優(yōu)選為85體積％以下，進一步優(yōu)選為80體積％以下， 更加優(yōu)選為75體積％以下。
[0138] [10]如上述[4]至[9]中任一項的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中，由激光衍射/ 散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(a)及顆粒(b)的合計量與顆粒（c)及顆粒 (d) 的合計量的體積比（（a+b)/(c+d))優(yōu)選為0.5以上，進一步優(yōu)選為0.6以上，更加優(yōu)選為 0.65以上，且優(yōu)選為1以下，進一步優(yōu)選為0.9以下，更加優(yōu)選為0.85以下。
[0139] [11]如上述[4]至[10]中任一項的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中，由激光衍射/ 散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(a)及顆粒(b)的合計量與顆粒(e)的量的體 積比（（a+b)/e)優(yōu)選大于1，進一步優(yōu)選為1.1以上，更加優(yōu)選為1.2以上，更進一步優(yōu)選為 1.3以上，且優(yōu)選為20以下，進一步優(yōu)選為18以下。
[0140] [12]如上述[4]至[11]中任一項的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中，由激光衍射/ 散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(a)的量優(yōu)選為3體積％以上，進一步優(yōu)選為 5體積％以上，更加優(yōu)選為7體積％以上，且優(yōu)選為15體積％以下，進一步優(yōu)選為12體積％以 下，更加優(yōu)選為1 〇體積％以下。
[0141] [13]如上述[4]至[12]中任一項的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中，由激光衍射/ 散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(b)的量優(yōu)選為12體積％以上，進一步優(yōu)選 為15體積％以上，更加優(yōu)選為20體積％以上，且優(yōu)選為50體積％以下，進一步優(yōu)選為40體 積％以下，更加優(yōu)選為35體積％以下。
[0142] [14]如上述[4]至[13]中任一項的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中，由激光衍射/ 散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的顆粒(d)的量優(yōu)選為5體積％以上，進一步優(yōu)選為 10體積％以上，更加優(yōu)選為12體積％以上，且優(yōu)選為25體積％以下，進一步優(yōu)選為22體積％ 以下，更加優(yōu)選為20體積％以下。
[0143] [ 15 ]如上述[4]至[14]中任一項的潔齒劑，其中，在配合后的顆粒中含有由激光衍 射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中粒徑為250μπι以上且小于350μπι的顆粒(e)，且顆 粒(e)的量優(yōu)選大于0體積％，進一步優(yōu)選為1體積％以上，更加優(yōu)選為2體積％以上，且優(yōu)選 為25體積％以下，進一步優(yōu)選為20體積％以下，更加優(yōu)選為18體積％以下。
[0144] [16]如上述[1]至[15]中任一項的潔齒劑，其中，配合后的顆粒的崩解強度優(yōu)選為 2gf/個以上，進一步優(yōu)選為3gf/個以上，且優(yōu)選為15gf/個以下，進一步優(yōu)選為10gf/個以 下，更加優(yōu)選為8gf/個以下。
[0145] [17]如上述[1]至[16]中任一項的潔齒劑，其中，配合后的顆粒中的水不溶性粉末 材料(A)的含量在干燥狀態(tài)下優(yōu)選為60質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為70質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選 為80質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為82質(zhì)量％以上，且優(yōu)選為98質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為96質(zhì) 量％以下，更加優(yōu)選為90質(zhì)量％以下。
[0146] [18]如上述[1]至[17]中任一項的潔齒劑，其中，水不溶性粉末材料(A)優(yōu)選為選 自重質(zhì)碳酸鈣、輕質(zhì)碳酸鈣、沸石、及二氧化硅中的1種或2種以上，進一步優(yōu)選為重質(zhì)碳酸 鈣。
[0147] [19]如上述[1]至[18]中任一項的潔齒劑，其中，無機粘合劑(B)包含選自硅酸鈉 及膠體二氧化硅中的1種或2種，且配合后的顆粒中所含的無機粘合劑(B)中選自硅酸鈉(固 形物成分)及膠體二氧化硅中的1種或2種的含量優(yōu)選為60質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為80質(zhì) 量％以上，更加優(yōu)選為90質(zhì)量％以上，且優(yōu)選為100質(zhì)量％以下。
[0148] [20]如上述[1 ]至[19]中任一項的潔齒劑，其中，作為選自硅酸鈉（固形物成分)及 膠體二氧化硅中的1種或2種的成分(B)的含量在配合后顆粒中在干燥狀態(tài)下優(yōu)選為1質(zhì) 量％以上，進一步優(yōu)選為2質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為5質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為10質(zhì)量％以 上，且優(yōu)選為30質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為20質(zhì)量％以下，更加優(yōu)選為18質(zhì)量％以下。
[0149] [ 21 ]如上述[1 ]至[20 ]中任一項的潔齒劑，其中，配合后的顆粒優(yōu)選含有選自硅酸 鈣、氧化鎂、氧化鈦及氧化鋅中的1種或2種以上的粘合助劑(C )，進一步，成分(C)的含量在 干燥狀態(tài)下優(yōu)選為〇. 2質(zhì)量％以上，進一步優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為0.8質(zhì)量％以 上，且優(yōu)選為5質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為3質(zhì)量％以下，更加優(yōu)選為2質(zhì)量％以下，更進一步 優(yōu)選為1.2質(zhì)量％以下。
[0150] [22]如上述[1]至[21]中任一項的潔齒劑，其中，配合后的顆粒的量優(yōu)選為1質(zhì) 量％以上，進一步優(yōu)選為3質(zhì)量％以上，更加優(yōu)選為5質(zhì)量％以上，且優(yōu)選為50質(zhì)量％以下， 進一步優(yōu)選為30質(zhì)量％以下，更加優(yōu)選為20質(zhì)量％以下。
[0151] [23]如上述[1]至[22]中任一項的潔齒劑，其中，配合后的顆粒優(yōu)選為通過滾動造 粒法而獲得的，另外，優(yōu)選為添加配合前的顆粒后以攪拌速度lOrpm以上且250rpm以下攪拌 潔齒劑而獲得的。
[0152] [24]如[1]至[23]中任一項的潔齒劑，其中，優(yōu)選含有粘結(jié)劑，進一步優(yōu)選含有選 自羧甲基纖維素鈉、黃原膠、及卡拉膠中的1種或2種以上的粘結(jié)劑。
[0153] [25]如上述[1]至[24]中任一項的潔齒劑，其中，關(guān)于用于獲得配合后的顆粒的配 合前的顆粒，在由激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒度分布中的以下的顆粒(b'）~ (e-Γ )中，顆粒(b'）的量與顆粒(c'）的量的體積比（b'/c'）優(yōu)選為0.6以上且1.25以下，顆 粒(d'）的量與顆粒(c'）的量的體積比（d'/c'）優(yōu)選為0.7以上且1.2以下，顆粒(e-Γ)的量 與顆粒(c'）的量的體積比（e-l'/c'）優(yōu)選為0.4以上且1.1以下，
[0154] (b'）粒徑為100μπι以上且小于150μηι的顆粒；
[0155] (c'）粒徑為150μηι以上且小于200μηι的顆粒；
[0156] (d'）粒徑為200μπι以上且小于250μπι的顆粒；
[0157] (e-Γ )粒徑為250μπι以上且小于300μπι的顆粒。
[0158] [26]如上述[25]的潔齒劑，其中，配合前的顆粒的崩解強度優(yōu)選為lgf/個以上，進 一步優(yōu)選為2gf/個以上，更加優(yōu)選為3gf/個以上，且優(yōu)選為20gf/個以下，進一步優(yōu)選為 15gf /個以下，更加優(yōu)選為1 Ogf /個以下。
[0159] [27] -種潔齒劑的制造方法，其中，是制造上述[1]至[26]中任一項的潔齒劑的方 法，具備:配合粘結(jié)劑之后，添加顆粒的工序;及以攪拌速度lOrpm以上且250rpm以下攪拌添 加有顆粒的潔齒劑的工序。
[0160] 實施例
[0161] 以下，基于實施例對本發(fā)明進行具體地說明。另外，表中只要沒有特別表示，則各 成分的配合量表示潔齒劑中所存在的各成分的總量(質(zhì)量％)。另外，各物性值的測定通過 以下的方法來進行。
[0162] 《1:水不溶性粉末的平均粒徑的測定方法》
[0163] 水不溶性粉末的平均粒徑利用激光衍射/散射式粒度分布測定裝置（LA-920， H0RIBA公司制造），在溶劑:離子交換水、折射率：1.2、循環(huán)速度(刻度:4)、攪拌速度(刻度： 3)的條件下進行測定。
[0164] 《2:硅酸鈉的固形物成分》
[0165] 使用滴管將2.5g試樣以1滴成為直徑5~10_左右的液滴的方式（以使液滴彼此盡 可能不重疊的方式）滴加散布至鋁制的直徑為11.5cm的容器上，其后，使用紅外線水分計 (KETT科學研究所株式會社制造，F(xiàn)D240)，以濕量基準水分測定模式在溫度105°C、Auto的條 件(將測定值的變化量在30秒鐘內(nèi)成為0.05%以內(nèi)時視為最終測定值而結(jié)束測定）下進行 測定，除去所測得的揮發(fā)自由水分，由此算出。
[0166] 《3:配合前顆粒的粒度分布及平均粒徑的測定方法》
[0167] 使用通過離子交換水將配合前顆粒稀釋成5質(zhì)量％的水溶液進行測定。針對通過 離子交換水將配合前顆粒稀釋成5質(zhì)量％的水溶液，通過混合機(ROTARY MIXER NPC-20， NISSIN公司制造），在75轉(zhuǎn)/分鐘、水平方向旋轉(zhuǎn)、2小時的條件下使顆粒分散。接著，將分散 有顆粒的水溶液在室溫(25°C)下保存1天。再次通過上述混合機使該保存后的水溶液分散 10分鐘，然后，使用該水溶液，利用激光衍射/散射式粒度分布測定裝置（Partica LA- 950V2，H0RIBA公司制造），在折射率：1.58、循環(huán)速度(刻度:5)、攪拌速度(刻度:5)的條件下 進行測定。另外，使用離子交換水作為溶劑。
[0168] 《4:配合后顆粒的投影面的面積（SA)、最大直徑(Dl)、以Dl為直徑的外接圓的面積 (Ss)及最小直徑(Ds)》
[0169] (i)配合后顆粒的投影面的面積使用JISZ8801-1標準的150μπι的篩網(wǎng)通過純水將 利用純水稀釋成10質(zhì)量％的潔齒劑的水溶液洗浄之后，將殘留于篩網(wǎng)上的顆粒在室溫(25 °C)下干燥1天，使用所獲得的顆粒進行測定。
[0170] (i i)投影面的面積(SA)、最大直徑(Dl)及最小直徑(Ds)的測定是使用KEENCE VH- 5500(倍率100倍)進行攝影，使用解析軟件(WinROOF(三谷商事株式會社））由攝影所得到的 數(shù)字圖像獲得各個顆粒的一個投影面的面積(SA)、最大直徑(以）、最小直徑(Ds)。將通過測 定而獲得的5~10個顆粒的數(shù)據(jù)平均，作為各顆粒的一個投影面的面積(SA)、最大直徑(DO、 最小直徑(Ds)?；谶@些數(shù)據(jù)，進一步求出顆粒的一個投影面的面積(Sa)與以最大直徑(DL) 為直徑的外接圓的面積(Ss)的比（Sa/Ss)、最大直徑(Dl)與最小直徑(Ds)的比(Dl/Ds)。
[0171] 《5:存在于潔齒劑中的配合后顆粒的粒度分布、平均粒徑及量的測定方法》
[0172] (i)測定用的水溶液中的顆粒的分散處理:對通過離子交換水將潔齒劑稀釋成10 質(zhì)量％而得到的水溶液，通過混合機(ROTARY MIXER NPC-20，NISSIN公司制造)在75轉(zhuǎn)/分 鐘、水平方向旋轉(zhuǎn)、2小時的條件下使顆粒分散。接著，將對分散后的潔齒劑進行稀釋而獲得 的水溶液在室溫(25°C)下保存1天。再次通過上述混合機使該保存后的水溶液分散10分鐘 之后，以激光衍射/散射式粒徑分布裝置進行處理。
[0173]按照與《4》的（i)相同的方法提取顆粒。
[0174] (ii)粒度分布、平均粒徑及量的測定：使用激光衍射/散射式粒徑分布測定裝置 (Partica LA-950V2，H0RIBA公司制造），在折射率：1.58、循環(huán)速度(刻度:5)、攪拌速度(刻 度:5)的條件下對所獲得的粉體及配合后顆粒進行測定。使用離子交換水作為溶劑。
[0175]另外，在本發(fā)明中，根據(jù)通過激光衍射/散射式顆粒分布測定裝置測得的粒度分布 計算各粒徑范圍的顆粒(a)~(e)((a'）~(e'））的量(體積％)。具體而言，針對通過激光衍 射測定的各粒徑的范圍，將各粒徑的范圍的含量乘以粒徑范圍的比率來計算顆粒(a)~(e) 的量。例如，在利用激光衍射獲得的粒徑為45μηι以上且小于5Ιμπι的顆粒為0.2體積％、5Ιμπι 以上且小于ΙΟΙμπι的顆粒為7.5體積％的情況下，顆粒(a)的含量為0.2體積％ X 1/(51 - 45) +7 · 5 體積 ％X(100 - 51)/(101 - 51)，計算結(jié)果為 7.4 體積 ％。
[0176][制造例1:配合前顆粒A'~F'的制造]
[0177] 以成為表1所示的含量的顆粒的方式將重質(zhì)碳酸鈣(CALFINE C0.，LTD.制造，商品 名:ACE-25,平均粒徑約3μπι)與各種粘合助劑(C)的混合物投入至具有隔板的75L轉(zhuǎn)鼓式造 粒機（(p40cm X L60cm)中，一邊在轉(zhuǎn)鼓轉(zhuǎn)速30r.p .m/弗勞德數(shù)0.2/轉(zhuǎn)鼓角度12.6°的條 件下混合一邊使用1個外部混合型二流體噴嘴(Atomax株式會社制造)噴霧添加硅酸鈉（富 士化學工業(yè)株式會社制造，商品名：3號硅酸鈉:Na2 · 3Si02溶液，固形物成分38.5%，利用3 倍量以下的水稀釋，25°C )來進行造粒。另外，批次大小為8kg。硅酸鈉水溶液的添加速度為 3.3ml/分鐘。
[0178] 噴霧硅酸鈉水溶液后，繼續(xù)混合1分鐘，然后，自轉(zhuǎn)鼓式造粒機中排出，使用電棚干 燥機在80°C下干燥90分鐘后，獲得配合前顆粒A'~F'。
[0179]將各配合前顆粒A '~F '的粒度分布示于表2中，并且將配合前顆粒B '的粒度分布 的曲線圖示于圖1中。
[0180] [表 1]
[0181]
[0182] [表 2]
[0183]
[0184] [實施例1~10、比較例1]
[0185] 按照表3所示的配方，添加所獲得的配合前顆粒A'~F'和各成分，使用萬能混合裝 置(5乂01\^10-1"，0311:〇11公司制造)在公轉(zhuǎn)的攪拌速度75印111、自轉(zhuǎn)的攪拌速度200印1]1下攪拌 10分鐘，獲得分別存在由配合前顆粒A'~F'獲得的配合后顆粒A~F的潔齒劑。
[0186] 接著，使用各潔齒劑，按照下述方法進行各評價。
[0187] 將結(jié)果示于表3中。
[0188] 另外，將存在于各潔齒劑中的配合后顆粒A~F的粒度分布示于表4中，將實施例1 的潔齒劑中所存在的配合后顆粒B的粒度分布的曲線圖示于圖1中，并且該顆粒B的SEM(電 子顯微鏡：日立S-4800)的照片示于圖2中。進一步，將比較例1的潔齒劑中所存在的配合后 顆粒F的粒度分布的曲線圖示于圖3中。
[0189] [試驗例1:牙垢去除能力(污垢去除率)的評價]
[0190] 使用以下的凹凸模型及污垢模型，按照以下的方法進行刷洗試驗，并算出污垢去 除率。將結(jié)果示于表3中。
[0191] (凹凸模型）
[0192] 準備在長15mmX寬15mmX厚度3mm的不銹鋼上以620μπι間隔平行地設(shè)置有角度為 90 °C的直線狀的寬度1 ΟΟμπι、深度1 ΟΟμπι的溝槽的凹凸模型。
[0193] (污垢模型）
[0194] 作為污垢模型，使用紅色蠟筆(Pentel公司制造 ，CRAYON RED)，擦入上述凹凸模型 的溝槽的整體進行填充，通過使刮刀的水平面沿著凹凸模型的表面滑動而將在凹凸模型的 表面突出的污垢模型或附著于表面的污垢模型去除。
[0195] (刷洗試驗）
[0196] 將上述的凹凸模型嵌入至設(shè)置于錯板(30_X 80_X 5mm)的中央的15_X 15_X 3mm的正方形的凹部，在各潔齒劑2g、牙刷(Deep Clean Compact，花王制造）、刷掃條件:載 荷200g，速度80rpm，振幅30mm，1分鐘，刷掃方向：平行于凹凸模型的溝槽的方向的方向的條 件下進行刷洗試驗。另外，在鋁板的正方形的所述凹部的角上，在正方形的外側(cè)設(shè)置有使凹 凸模型容易取出的掏出用凹部。
[0197] (污垢去除率的算出方法）
[0198] 刷洗后，自鋁板上取出凹凸模型，水洗后，附著于凹凸模型的表面的潔齒劑通過一 邊將凹凸模型的表面按壓于紙(PPC用紙A4尺寸，K0KUY0) -邊使之滑動而除去。
[0199] 利用數(shù)字相機對刷洗前的凹凸模型及去除了潔齒劑的凹凸模型進行攝影，將刷洗 前的凹凸模型中通過蠟筆著色的區(qū)域的面積設(shè)定為著色區(qū)域面積(mm2)。另外，將著色區(qū)域 中通過牙刷進行了刷洗的區(qū)域的面積設(shè)定為評價區(qū)域面積(mm2)，將該評價區(qū)域中蠟筆除 掉而凹部的底面露出（變白）的部分的面積(mm2)設(shè)定為污垢去除面積。接著，通過下述式 (1)算出相對于評價區(qū)域面積整體的污垢去除面積作為污垢去除率（％)。另外，著色區(qū)域面 積是在利用數(shù)字相機進行攝影時檢測到由假污垢物質(zhì)產(chǎn)生的著色的區(qū)域的面積，將該區(qū)域 中經(jīng)牙刷刷掃的區(qū)域設(shè)定為評價區(qū)域。
[0200] 污垢去除率（％ )=(污垢去除面積/評價區(qū)域面積整體）X 100 (1)
[0201] 另外，擦入至試驗板的凹部的蠟筆即便在平坦的面僅利用牙刷進行刷掃的情況 下，也只要施加特定的載荷，蠟筆就脫落而露出試驗板的面。另外，在利用數(shù)字相機的攝影 中，使用閃光燈，為了消除表面反射光而使用偏振濾光鏡。
[0202][試驗例2:使用感的評價]
[0203] 利用實施例1~10及比較例1中所獲得的各種潔齒劑1 g，使用牙刷（Ch e c k standard，花王制造)進行刷洗，按照下述所示的基準對起泡性、泡質(zhì)(泡沫的細膩度）、刷牙 過程中的泡持續(xù)性、刷牙初期的顆粒感、剛刷牙后的光滑感、刷牙過程中的顆粒感的持續(xù)性 進行評價，對起泡性、泡質(zhì)、刷牙初期的顆粒感、剛刷牙后的光滑感進行1~5的5等級的評 價。由5名專業(yè)評價人員進行上述評價，根據(jù)所獲得的結(jié)果求出其平均值。
[0204] 另外，上述評價中，針對刷牙過程中的泡持續(xù)性、刷牙過程中的顆粒感的持續(xù)性， 計數(shù)5名專業(yè)評價人員中回答持續(xù)的人數(shù)。將結(jié)果示于表2中。
[0205] 《起泡性》
[0206] 5:非常良好地起泡
[0207] 4:良好地起泡
[0208] 3:起泡
[0209] 2:難以起泡
[0210] 1:不起泡
[0211]《泡質(zhì)(泡沫的細膩度)》
[0212] 5:感覺泡沫非常細膩
[0213] 4:感覺泡沫細膩
[0214] 3:感覺泡沫有點細膩
[0215] 2:感覺泡沫有點粗糙
[0216] 1:感覺泡沫粗糙 [0217]《刷牙初期的顆粒感》
[0218] 5:感覺到適度的顆粒的存在感
[0219] 4:感覺到顆粒的存在感
[0220] 3:顆粒的存在感小
[0221] 2:顆粒的存在感極小
[0222] 1:完全感覺不到顆粒的存在
[0223] 《剛刷牙后的光滑感》
[0224] 在剛刷牙后(利用水漱去潔齒劑后)的牙面滑動舌頭時的觸感。
[0225] 5:非常光滑，感覺不到污垢的存在
[0226] 4:光滑，幾乎感覺不到污垢的存在
[0227] 3:有點光滑，但略微感覺到污垢的存在
[0228] 2:稍微發(fā)現(xiàn)凹凸，稍微感覺到污垢的存在
[0229] 1:感覺到牙齒表面存在由污垢所致的凹凸
[0230] ?
[0231] [表 4]
[0232]
[0233] 根據(jù)上述結(jié)果可知，實施例1~10的潔齒劑與比較例1的潔齒劑相比具有優(yōu)異的使 用感。
【主權(quán)項】
1. 一種潔齒劑，其中， 所述潔齒劑是配合有顆粒而成的，所述顆粒含有水不溶性粉末材料(A)、及無機粘合劑 ⑶， 關(guān)于存在于該潔齒劑中的配合后的顆粒，該顆粒的投影面的面積Sa與以該投影面中的 最大直徑Dl作為直徑的外接圓的面積Ss的比Sa/Ss的平均值為0.5以上且0.9以下，并且配合 后的顆粒的崩解強度為lgf/個以上且20gf/個以下。2. 如權(quán)利要求1所述的潔齒劑，其中， 關(guān)于存在于潔齒劑中的配合后的顆粒，該顆粒的投影面中的最大直徑IX與最小直徑Ds 的比Dl/Ds的平均值為1.2以上且1.8以下。3. -種潔齒劑，其中， 所述潔齒劑是配合有顆粒而成的，所述顆粒含有水不溶性粉末材料(A)、及無機粘合劑 ⑶， 關(guān)于存在于該潔齒劑中的配合后的顆粒，通過激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的 粒度分布中的以下的顆粒(a)~(d)中，顆粒(b)的量與顆粒(c)的量的體積比b/c為0.7以上 且1.2以下，顆粒(d)與顆粒(c)的體積比d/c為0.2以上且1以下，顆粒(b)的量與顆粒(d)的 量的體積比b/d大于1且為5以下，配合后的顆粒中的顆粒（c)的量為15體積％以上且55體 積％以下，并且配合后的顆粒的崩解強度為lgf/個以上且20gf/個以下， (a) 粒徑為50μηι以上且小于100μπι的顆粒； (b) 粒徑為100μπι以上且小于150μηι的顆粒； (c) 粒徑為150μπι以上且小于200μπι的顆粒； (d) 粒徑為200μπι以上且小于250μπι的顆粒。4. 如權(quán)利要求3所述的潔齒劑，其中， 關(guān)于存在于潔齒劑中的配合后的顆粒，通過激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒 度分布中的顆粒(a)及顆粒(b)的合計量與以下的顆粒(e)的量的體積比(a+b)/e大于1且為 20以下， (e) 粒徑為250μπι以上且小于350μπι的顆粒。5. 如權(quán)利要求3或4所述的潔齒劑，其中， 關(guān)于存在于潔齒劑中的配合后的顆粒，通過激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得的粒 度分布中的顆粒(a)及顆粒(b)的合計量與顆粒(c)及顆粒(d)的合計量的體積比(a+b)/(c+ d)為0.5以上且1以下。6. 如權(quán)利要求1~5中任一項所述的潔齒劑，其中， 存在于潔齒劑中的配合后的顆粒的量為1質(zhì)量％以上且50質(zhì)量％以下。7. 如權(quán)利要求1~6中任一項所述的潔齒劑，其中， 存在于潔齒劑中的配合后的顆粒為通過滾動造粒法而獲得的。8. 如權(quán)利要求1~7中任一項所述的潔齒劑，其中， 存在于潔齒劑中的配合后的顆粒含有選自硅酸鈣、氧化鎂、氧化鈦及氧化鋅中的1種或 2種以上的粘合助劑(C)。9. 如權(quán)利要求8所述的潔齒劑，其中， 存在于潔齒劑中的配合后的顆粒中，成分(C)與成分(B)的質(zhì)量比C/B為0.02以上且1以 下。10. 如權(quán)利要求1~9中任一項所述的潔齒劑，其中， 關(guān)于添加至潔齒劑中使用的配合前的顆粒，通過激光衍射/散射式粒徑分布測定獲得 的粒度分布中的以下的顆粒(b'）~(e-Γ)中，顆粒(b'）的量與顆粒(c'）的量的體積比b'/ c'為0.6以上且1.25以下，顆粒(d'）的量與顆粒(c'）的量的體積比d'/c'為0.7以上且1.2以 下，顆粒(e-Γ)的量與顆粒(c'）的量的體積比e-l'/c'為0.4以上且1.1以下，并且配合前的 顆粒的崩解強度為lgf/個以上且20gf/個以下，所述配合前的顆粒用于獲得存在于潔齒劑 中的配合后的顆粒， (b'）粒徑為100μπι以上且小于150μηι的顆粒； (c'）粒徑為150μπι以上且小于200μπι的顆粒； (d '）粒徑為200μπι以上且小于250μπι的顆粒； (e-Γ )粒徑為250μπι以上且小于300μπι的顆粒。11. 如權(quán)利要求1~10中任一項所述的潔齒劑，其中， 存在于潔齒劑中的配合后的顆粒為添加配合前的顆粒之后，以攪拌速度lOrpm以上且 250rpm以下對潔齒劑進行攪拌而獲得的。
【文檔編號】A61K8/29GK105828781SQ201380081774
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2013年12月18日
【發(fā)明人】吉田秀德, 松元樹, 辻優(yōu)希, 小野田惠, 小野田惠一
【申請人】花王株式會社