一種兼具排齊牙齒與促進(jìn)頜骨生長(zhǎng)作用的矯治器及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于矯治器技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種矯治器及其制作方法，具體涉及一種兼具排齊牙齒與促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)作用的矯治器及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在牙頒畸形的矯治領(lǐng)域，常用的矯治器大體分為兩種，一種是精細(xì)調(diào)整牙齒位置的矯治器，以由托槽和帶環(huán)組成的固定矯治器為代表，近年來也出現(xiàn)了無托槽的隱形矯治器(如invisalign等)，該類矯治器的治療目標(biāo)是移動(dòng)牙齒的位置把牙齒排列整齊。另一種是促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)的矯治器，即功能矯治器，該類矯治器的治療目標(biāo)是協(xié)調(diào)上下頒骨的相對(duì)關(guān)系，如上頒骨發(fā)育不足時(shí)，會(huì)形成俗稱“地包天”的臉型，就需要用促進(jìn)上頒骨發(fā)育的功能矯治器促進(jìn)上頒骨的生長(zhǎng)，使得上、下頒骨協(xié)調(diào)，面型美觀；而對(duì)于下頒骨發(fā)育不足導(dǎo)致的小下頒臉型，需要用促進(jìn)下頒骨發(fā)育的功能矯治器促進(jìn)下頒骨的生長(zhǎng)。
[0003]由于矯治技術(shù)和制作工藝的限制，以上兩種類型的治療無法同時(shí)進(jìn)行，對(duì)于既有牙齒排列不整齊，又合并有頒骨發(fā)育不足的患者，只能采取分階段治療的方法，即先進(jìn)行功能矯治器治療，療程平均為I年左右，再進(jìn)行精細(xì)的排列牙齒的治療，療程一般為2年左右，而且在第二階段治療時(shí)很難可靠的維持第一階段的治療效果，容易出現(xiàn)頒骨位置不調(diào)復(fù)發(fā)的問題。
[0004]對(duì)功能矯治器而言，目前現(xiàn)有的制作方法都是基于石膏牙頒模型進(jìn)行手工制作。即先通過取得患者牙頒結(jié)構(gòu)的陰模，翻制成石膏陽模，再用牙科用蠟取得患者上下頒骨之間的相對(duì)位置關(guān)系，然后將石膏模型固定到專用的合架上，保證頒骨之間的位置關(guān)系，在此石膏模型的基礎(chǔ)上進(jìn)行手工制作矯治器。該制作方法存在明顯的缺點(diǎn)和局限性:首先，灌制、修整石膏模型以及將模型按照咬合關(guān)系固定在合架上，這個(gè)過程費(fèi)時(shí)、費(fèi)力，需要經(jīng)過特殊培訓(xùn)的技師操作完成，人工和時(shí)間成本較高。其次，在石膏模型上制作矯治器要手工完成，無論是通過手工彎制鋼絲做支架，用自凝塑膠做基板，還是通過真空壓膜來成型基板，都需要技師手工制作，在制作過程中可能存在苯污染，粉塵污染等問題，對(duì)操作者造成危害。第三，傳統(tǒng)的方法中，矯治器制作完成時(shí)，石膏模型將被毀壞，不能重復(fù)利用。一旦患者將矯治器丟失或者損壞，需要重新制作矯治器時(shí)，就必須再次取模型，重復(fù)以上的制作過程，增加患者的不適，就診次數(shù)，也要耗費(fèi)醫(yī)師及技師較多的時(shí)間，效率較低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，本發(fā)明的目的在于提供一種兼具排齊牙齒與促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)作用的矯治器及其制作方法，該矯治器設(shè)計(jì)合理，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用便捷，能夠縮短治療療程；該方法能夠有效提高矯治器的制作效率。
[0006]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):
[0007]一種兼具排齊牙齒與促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)作用的矯治器，包括上頒模板和下頒模板，上頒模板和下頒模板間留有空隙，空隙中填充有高分子樹脂，填充的高分子樹脂將上頒模板和下頒模板間的空隙分為上、下兩個(gè)部分，上、下兩部分高分子樹脂的分界面為一個(gè)反“Z”型間隙，該反“Z”型間隙的斜邊位于上頒第二前磨牙上方且與水平方向呈45°角；在距離該反“Z”型間隙的斜邊左、右兩2mm處各設(shè)有一個(gè)磁體塊，且兩側(cè)的磁體塊相對(duì)的面為同性。
[0008]上頒模板由上頒外側(cè)頰側(cè)模板和上頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板組成，上頒外側(cè)頰側(cè)模板延伸至牙頸緣下2_處，上頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板延伸至牙頸緣下8_處；下頒模板由下頒外側(cè)頰側(cè)模板和下頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板組成，下頒外側(cè)頰側(cè)模板緊貼于上頒牙冠且延伸至牙頸緣下2mm處，下頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板延伸至口底黏膜轉(zhuǎn)折處。
[0009]上頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板和下頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板的厚度為2?3mm，上頒外側(cè)頰側(cè)模板和下頒外側(cè)頰側(cè)模板的厚度為1mm。
[0010]填充的高分子樹脂長(zhǎng)5?8mm，寬2?4mm。
[0011]所述磁體塊由釹鐵硼永磁體制成。
[0012]上頒模板和下頒模板中包裹牙冠的部分選用彈性樹脂材料制作。
[0013]本發(fā)明公開的兼具排齊牙齒與促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)作用的矯治器的制造方法，包括以下步驟:
[0014]I)采集患者口腔結(jié)構(gòu)的三維數(shù)據(jù)；
[0015]2)獲取包含患者上頒骨與下頒骨位置關(guān)系的蠟合，并掃描采集蠟合的三維數(shù)據(jù)；
[0016]3)應(yīng)用計(jì)算機(jī)軟件將步驟I)和步驟2)中獲得的三維數(shù)據(jù)進(jìn)行整合，得到含有相對(duì)位置關(guān)系的上下頒牙列和牙槽骨的位置關(guān)系的一體化的數(shù)字模型；
[0017]4)將步驟I)采集的口腔數(shù)據(jù)輸入正畸治療排牙軟件中，根據(jù)牙齒排列的矯治目標(biāo)進(jìn)行設(shè)計(jì)，得到階段性牙列排齊矯治的牙列部分的模型；
[0018]5)在步驟3)得到的一體化的數(shù)字模型上設(shè)計(jì)功能矯治器部分，并設(shè)計(jì)磁體塊的位置和數(shù)量；
[0019]6)將步驟4)得到的階段性牙列排齊矯治的牙列部分的模型與步驟5)設(shè)計(jì)的帶有磁體塊的功能矯治器部分進(jìn)行整合，得到分階段的完整的兼具排列牙齒與功能矯形效應(yīng)的三維模型；
[0020]7)采用計(jì)算機(jī)輔助快速成型法，利用高分子樹脂材料制作得到兼具排齊牙齒與促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)作用的矯治器。
[0021]步驟I)通過口內(nèi)掃描儀直接掃描，或者取得口腔結(jié)構(gòu)的陰模后，掃描陰模獲取數(shù)據(jù)；或者通過口腔陰模灌注石膏模型后用激光掃描儀掃描石膏模型來采集患者口腔結(jié)構(gòu)的三維數(shù)據(jù)。
[0022]步驟2)是根據(jù)矯治目標(biāo)設(shè)計(jì)，將加熱后的牙科用蠟放入患者的上下牙列之間，獲取適合的包含患者上頒骨與下頒骨之間的位置關(guān)系的蠟合。
[0023]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下有益的技術(shù)效果:
[0024]本發(fā)明的兼具排齊牙齒與促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)作用的矯治器，一方面，在上頒模板和下頒模板中留有空隙，在該空隙中填充高分子樹脂，與現(xiàn)有的矯治器相比，模板的范圍得以擴(kuò)大，從而能夠增加固位作用，可同時(shí)進(jìn)行排齊牙齒和促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)的治療。另一方面，本發(fā)明的矯治器嵌入了磁體塊，傳統(tǒng)的功能矯治器都是通過調(diào)整頒骨的位置，改變口腔周圍肌肉力量的分布來達(dá)到矯治目的，而本發(fā)明嵌入了磁體塊，通過磁力來加強(qiáng)促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)的作用，能夠有效提升功能矯形作用。
[0025]進(jìn)一步地，本發(fā)明的矯治器上頒外側(cè)頰側(cè)模板的延伸至牙頸緣下2mm處，上頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板延伸至牙頸緣下8mm處；下頒外側(cè)頰側(cè)模板緊貼于上頒牙冠且延伸至牙頸緣下2_處，下頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板延伸至口底黏膜轉(zhuǎn)折處。通過比較可知，本發(fā)明將僅用于排列牙齒的無托槽矯治器的模板范圍進(jìn)行了調(diào)整，使其具有更強(qiáng)的固位力，而且增加了咬合面的特殊設(shè)計(jì)，使其包含有上頒、下頒的位置關(guān)系。
[0026]本發(fā)明公開的矯治器的制造方法，應(yīng)用數(shù)字化模型、計(jì)算機(jī)快速成型技術(shù)制作，可簡(jiǎn)化制作工序，避免苯污染、粉塵污染，可將患者的數(shù)據(jù)儲(chǔ)存，需要重復(fù)制作時(shí)，更加便捷，從而有效提尚了制作、矯治效率。
【附圖說明】
[0027]圖1為本發(fā)明矯治器的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖2為本發(fā)明矯治器在牙列就位后的側(cè)面觀；
[0029]圖3為本發(fā)明矯治器在牙列就位后的剖面觀；
[0030]圖4為應(yīng)用本發(fā)明矯治器上頒部分在牙列就位后的咬合面觀；
[0031]圖5為本發(fā)明所應(yīng)用的釹鐵硼永磁體小塊；
[0032]圖6為應(yīng)用本發(fā)明所生成的包含相對(duì)位置關(guān)系的數(shù)字化上下牙頒模型；
[0033]圖7為本發(fā)明矯治器的制作工藝流程圖。
[0034]其中，I為上頒外側(cè)頰側(cè)模板；2為上頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板；3為下頒外側(cè)頰側(cè)模板；4為下頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板；5為磁體塊；6為反“Z”型間隙；7為上頒模型；8為下頒模型；9為蠟合；10為不齊的牙齒。
【具體實(shí)施方式】
[0035]下面結(jié)合具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說明，所述是對(duì)本發(fā)明的解釋而不是限定。
[0036]參見圖1?5，本發(fā)明的兼具排齊牙齒與促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)作用的矯治器，包括上頒模板和下頒模板，上頒模板由上頒外側(cè)頰側(cè)模板I和上頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板2組成，上頒外側(cè)頰側(cè)模板I延伸至牙頸緣下2_處，上頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板2延伸至牙頸緣下8_處；下頒模板由下頒外側(cè)頰側(cè)模板3和下頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板4組成，下頒外側(cè)頰側(cè)模板3緊貼于上頒牙冠且延伸至牙頸緣下2_處，下頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板4延伸至口底黏膜轉(zhuǎn)折處。上頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板2和下頒內(nèi)側(cè)腭側(cè)模板4的厚度為2?3mm，上頒外側(cè)頰側(cè)模板I和下頒外側(cè)頰側(cè)模板3的厚度為1mm。上頒模板和下頒模板中包裹牙冠的部分選用彈性樹脂材料制作。上頒模板和下頒模板間留有空隙，空隙中填充有尚分子樹脂，填充的尚分子樹脂的長(zhǎng)5?8mm，寬2?4mm ；填充的高分子樹脂將上頒模板和下頒模板間的空隙分為上、下兩個(gè)部分，上、下兩部分高分子樹脂的分界面為一個(gè)反“Z”型間隙6，該反“Z”型間隙6的斜邊位于上頒第二前磨牙上方且與水平方向呈45°角；在距離該反“Z”型間隙6的斜邊左、右兩2mm處各設(shè)有一個(gè)磁體塊5，且兩側(cè)的磁體塊5相對(duì)的面為同性，磁體塊5由釹鐵硼永磁體制成，設(shè)計(jì)產(chǎn)生500g的推力?？衫么帕ν葡骂C骨向前，發(fā)揮促進(jìn)下頒骨生長(zhǎng)的作用。
[0037]本實(shí)施例給出的兼具排齊牙齒與促進(jìn)頒骨生長(zhǎng)的矯治器，其矯治原理同經(jīng)典的無托槽矯治器矯治器(如invisalign)相同點(diǎn)是:都用樹脂材料包繞牙冠部分，可逐漸排齊牙齒；不同點(diǎn)是:irwisalign矯治器只包繞牙冠部分，且上頒、下頒矯治器之間無相互位置關(guān)系的約束。而本發(fā)明中的矯治器模板超越了牙冠長(zhǎng)度，延伸更長(zhǎng)，固位更好；矯治器牙齒的咬合面部分厚度增加至4mm，且在制作過程中考慮了上頒、下頒矯治器之間的位置關(guān)系。該發(fā)明中的矯治器與傳統(tǒng)的功能矯治器相同點(diǎn)是:都分為上頒、下頒兩部分，都可以促進(jìn)頒骨發(fā)育；不同點(diǎn)是:該矯治器應(yīng)用了釹鐵硼磁力小塊，利用磁力推動(dòng)下頒骨向前，達(dá)到促進(jìn)下頒骨發(fā)育的目的；傳統(tǒng)的功能矯治器是手工制作，費(fèi)時(shí)、費(fèi)力、存在粉塵、苯污染等問題，而本發(fā)明中的矯治器應(yīng)用數(shù)字化模型、計(jì)算機(jī)快速成型技術(shù)制作，