專利名稱：治療部位強度調(diào)制的最優(yōu)化方法和系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種射線發(fā)送方法和裝置，尤其是涉及一種確定放射治療的有效過程的系統(tǒng)和方法。
眾所周知，射線發(fā)射裝置是用做諸如治療患者的放射治療裝置。放射治療裝置通常包括橋架(gantry)，在治療處理過程中它可以繞旋轉(zhuǎn)的水平軸旋轉(zhuǎn)。在橋架中設(shè)置有產(chǎn)生用于治療的高能射線束的線性加速器，這種高能射線束可以是電子射線或者光子束(X射線)。在治療中，此射線束對準位于橋架旋轉(zhuǎn)的等角點的患者的治療區(qū)域。
為了控制向目標發(fā)射的射線，在放射源與目標之間的射線軌跡中通常設(shè)置射線束屏蔽裝置，例如平板裝置和/或準直器。平板裝置的一個例子是可以用來限定射線束的通孔的一組四塊板。射線束屏蔽裝置在目標上限定待以預(yù)定量的射線輻照的治療部位。準直器是包括多個葉片(如5個葉片)的射線束屏蔽裝置。這些葉片定位成使射線束準確地指向待放射治療的部位。在這些葉片提供準確方向的同時，還可泄漏少量不需要的射線。此泄漏發(fā)生于葉片之間。
由放射治療裝置發(fā)送的射線由腫瘤學(xué)家規(guī)定及認可。但是，在正常情況下，放射設(shè)備的實際操作是由治療師來進行的。當治療師執(zhí)行由腫瘤學(xué)家規(guī)定的放射治療的實際操作時，射線發(fā)射裝置被編程而進行具體的治療。當對治療編程時，治療師必須考慮實際的射線輸出，并必須根據(jù)平板裝置區(qū)通孔把發(fā)送劑量調(diào)節(jié)至目標的靶深度，以達到規(guī)定的放射治療?？梢愿鶕?jù)已知的計算來做此種調(diào)節(jié)，但是通常治療師必須手動調(diào)節(jié)，而這會導(dǎo)致誤差。在放射治療方面，計算錯誤會導(dǎo)致劑量過低而無效，或者過高而產(chǎn)生危險，大的誤差(如小數(shù)點的錯位)會導(dǎo)致死亡。
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種有效和準確地實施放射治療的方法和相應(yīng)系統(tǒng)。同時，還提供有一種可減小放射治療時間和降低射線泄漏的系統(tǒng)。
根據(jù)本發(fā)明，控制從放射源發(fā)送至目標的射線輸出。本發(fā)明從限定在目標上輻照的治療部位開始。該治療部位分為多段。每段具有確定的參數(shù)。每段按如下方式單獨地進行放射治療(1)在放射源與目標之間限定通孔；(2)產(chǎn)生射線束。通孔位于這些段其中之一的上方。此通孔可把射線束限定到該段的確定參數(shù)。射線束具有從放射源至目標的基本無損耗的束通路。此射線束用來輻照各段之一。對每段進行這種治療，直至要治療的部位被輻照。


圖1是包括根據(jù)本發(fā)明構(gòu)成的治療控制臺的放射治療裝置的示意圖。
圖2是更詳細地表示放射治療裝置各部分和治療單元各部分的框圖。
圖3是待放射治療部位的三維示意圖。
圖4是待放射治療部位的另一個三維示意圖。
圖5是本發(fā)明的處理流程圖。
圖6是段最優(yōu)化的處理流程圖。
圖7A-C是用于各段最優(yōu)化處理的矩陣。
以下主要參照一種系統(tǒng)說明本發(fā)明，該系統(tǒng)用于把X射線輻射發(fā)送至患者身上的待治療部位，并利用位于來自放射源的束通路中的至少一個可動平板或夾板來限定該治療部位。本發(fā)明可以用于控制任何類型能量的例如電子(非X射線)發(fā)送至任何類型的目標(不僅僅是病人)，只要發(fā)送至該治療部位的能量劑量可以檢測或測算。
圖1示出了普通類型的放射治療裝置2，其中采用了平板4、在機殼9內(nèi)的控制單元和治療單元100。放射治療裝置2包括橋架6，在治療過程中它能繞旋轉(zhuǎn)的水平軸8旋轉(zhuǎn)。平板4固定在橋架6的凸塊(如輔助夾具)上。為了產(chǎn)生治療所需的高能射線，在橋架6上安裝了線性加速器。從線性加速器和橋架6發(fā)射的射線束的軸指定為10。電子、光子或任何可檢測到射線均可以用于治療。在治療過程中，射線束對準目標13(如待治療的患者，該患者位于橋架旋轉(zhuǎn)的等角點)的待治療部位12。橋架6的旋轉(zhuǎn)軸8、目標上待治療區(qū)域的旋轉(zhuǎn)軸14和束軸10最好都相交于等角點。
被輻照的患者的區(qū)域通稱為治療部位。在監(jiān)視單元(MU)中規(guī)定用于治療部位的射線量。平板4基本上不透過發(fā)送的射線。它們安裝在放射源與患者之間，把射線束適當?shù)叵薅橹委煵课坏男螤?。人體的部位(如健康的細胞組織)因而受到盡可能小的輻射，最好一點也不受到輻射。在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，橋架可以旋轉(zhuǎn)，從而可以形成不同的射線束角和射線分布，而不必移動患者。根據(jù)本發(fā)明此特征是必須的。本發(fā)明還可按恒定的射線發(fā)送率和固定角度的射線束(不可旋轉(zhuǎn)的橋架)來使用。
放射治療裝置2還包括中央治療處理或控制單元100，該單元通常遠離放射治療裝置2而設(shè)置。放射治療裝置2通常位于另外的房間中以保護治療師不受輻射。治療單元100包括輸出裝置，例如至少一個圖像顯示單元或監(jiān)視器70，和輸入裝置，例如鍵盤19。也可以通過數(shù)據(jù)載體例如數(shù)據(jù)存儲裝置、或者校驗和記錄或自動設(shè)定(set-up)系統(tǒng)102來輸入數(shù)據(jù)，以下將說明。治療處理單元100一般由治療師操縱，治療師實施由腫瘤學(xué)家規(guī)定的放射治療的實際操作。利用鍵盤19或其它輸入裝置，治療師向治療單元100的控制單元76輸入用于限定待向患者發(fā)送的射線的數(shù)據(jù)(例如根據(jù)腫瘤學(xué)家的處方)。程序也可通過其它輸入裝置例如數(shù)據(jù)存儲裝置、通過數(shù)據(jù)傳輸或者利用自動設(shè)定系統(tǒng)102輸入?？梢栽诒O(jiān)視器70的屏幕上在治療之前、之中和之后顯示各種數(shù)據(jù)。
圖2更詳細地示出了放射治療裝置2的各部分和治療單元100的各部分。射線束1產(chǎn)生于加速器20。加速器20包括電子槍21、波導(dǎo)22和真空管殼或?qū)虼朋w23。起動系統(tǒng)3產(chǎn)生注入器起動信號并供給注入器5。根據(jù)這些注入器起動信號，注入器5產(chǎn)生注入器脈沖，這些脈沖被提供給加速器20內(nèi)的電子槍21，用于產(chǎn)生X射線束1。用于產(chǎn)生X射線束1的電子被波導(dǎo)22加速及導(dǎo)向。為此目的，設(shè)置了高頻源，用于產(chǎn)生提供給波導(dǎo)22的電磁場的射頻信號。由注入器5注入并由電子槍21發(fā)射的電子由在波導(dǎo)22內(nèi)的該電磁場加速，并做為將產(chǎn)生X射線束1的電子存在于與電子槍21相對的一端。然后，這些電子進入導(dǎo)向磁體23，并從這里被引導(dǎo)從而沿軸10通過窗口7。通過靶15之后，這些電子產(chǎn)生X射線束1，并且此射線束1穿過屏蔽塊50的通道51，與平整濾過器(flattening filter)17相遇。接著，X射線束1被送入測量室60，并在其中確定輻照劑量。最后，在射線束1的通路設(shè)置孔板裝置4?？装逖b置4包括一對夾板41和42。如上所述，這只是可用于本發(fā)明的射線束屏蔽裝置的一個例子。本發(fā)明也可采用其它類型的裝置，只要存在限定輻照的治療部位形狀的孔板裝置即可。
平板裝置4包括一對孔夾板41和42以及與夾板41和42垂直設(shè)置的另一對孔夾板(未示出)。為了與待輻照的治療部位尺寸匹配，每塊孔夾板可以在驅(qū)動單元43的驅(qū)動下相對于軸10移動，如圖2所示。驅(qū)動單元43包括與夾板41和42連接的電機，該電機由電機控制器40控制。位置傳感器44和45也分別與夾板41和42連接，用于檢測其位置。這只是這種系統(tǒng)的一個例子。本發(fā)明也可采用其它類型的系統(tǒng)，只要存在限定輻照治療部位形狀的射線束屏蔽裝置而且設(shè)置有探測治療部位尺寸的傳感器即可。例如，可以用包含許多(如60)輻射保護葉片的多葉片準直器來代替平板。在優(yōu)選實施例中，采用準直器作為束屏蔽裝置。
電機控制器40與劑量控制單元61連接，劑量控制單元61包括劑量控制器，而且與用于為射線束提供設(shè)定值以實現(xiàn)給定的等劑量曲線的中央處理器18連接。通過測量室60來測量射線束的輸出。對應(yīng)于設(shè)定值與實際值之間的偏差，劑量控制單元61向起動系統(tǒng)3提供信號，這樣就改變了脈沖重復(fù)頻率，以使射線束輸出的設(shè)定值與實際值之間的偏差最小。
在這種放射治療裝置中，通常希望在不輻照健康細胞組織的情況下使作為治療目標的治療部位盡可能地多。圖3是待放射治療部位的三維示意圖。三維強度圖200代表患者身上一個可能的治療部位。本發(fā)明把強度圖200分成多段強度。每段可獨立進行放射治療。為了有效地處理強度圖200，在靠近強度圖200的輪廓區(qū)域設(shè)置了更多更小的段。例如，一個大段(或者本例中的長方形)210可用做覆蓋中間大段的基段。圍繞大段210的區(qū)域被分成各種尺寸的小段?？刹捎密浖绦虬阎委煵课环殖梢唤M能被有效地放射治療的段。例如，當該強度圖被分成多段時，可考慮平板的移動。如果考慮到平板旋轉(zhuǎn)(或者現(xiàn)有的平板移動)，將能更有效地把各段暴露于射線中。也可以考慮強度圖的三維狀態(tài)。因此，該軟件程序?qū)Ω鞫蔚某叽绾筒贾靡约皩⒈环派渲委煹母鞫蔚捻樞蜻M行優(yōu)化。
在一個實施例中，如圖3所示的強度圖可以通過切開該圖被分成等數(shù)量的監(jiān)視器單元。然后可以對這些靜態(tài)段修整及組合，以使監(jiān)視器單元的總和不變，并進行有效的治療。在這種情況下，可采用矩陣幫助把治療部位分成多段。除了分割和優(yōu)化，圖3的簡單的強度圖也可以采用多葉片準直器作為一個完整區(qū)域而得到有效的治療。這種分割和優(yōu)化使得強度圖200的處理可采用(1)平板；或(2)平板和多葉片準直器的組合。
圖4是待放射治療部位的另一三維示意圖。表1中的數(shù)字是位于由x和y坐標系統(tǒng)標記的空間(在治療部位之內(nèi))的各強度值。各矩形塊220-230用來表示在空間的這些位置處的不同強度。通過在圖中設(shè)置這些不同的矩形段220-230，可獲得象圖4結(jié)構(gòu)一樣的條形圖。每個矩形段220-230的高度等于相應(yīng)段的強度。同樣，各矩形段220-230的位置表示在治療部位之內(nèi)的對應(yīng)位置。
表1是標記在放射治療部位內(nèi)各段的矩陣。以下各表的所有數(shù)字均是監(jiān)視器單元(MU)。矩陣左上角的四(4)(見表1)表示圖4的段222。同樣，矩陣右下角的十(10)表示圖4的段230。因此，表1的矩陣中的每個數(shù)字表示各段220-230其中之一。
表1
軟件程序采用表1來準備治療。此例中，表1中的矩陣開始分成兩個分立的矩陣。第一矩陣是表2所示部分。這是可以從表1的矩陣獲得的最大可能的部分。
表2第二矩陣如表3所示。
表3
當疊加表2和3的矩陣時，得到表1矩陣。然后把表3的矩陣細分成七個矩陣，如表4-10所示。這些矩陣僅含有“1”和“0”。
表4
表5
表6
表7
表8
表9
表10
當各矩陣已經(jīng)如上所述地細分之后，由軟件程序移動某些“1”，以使某些矩陣可以組合。例如，如果表6矩陣的上行的“1”移至另一矩陣，則表6和7的矩陣可以組合成如表11所示的矩陣。
表11
因此，可以移動“1”并組合各矩陣以提供更有效的治療。在優(yōu)選實施例中，軟件程序產(chǎn)生一組矩陣數(shù)最少的靜態(tài)段。然后把各矩陣組織成特定的順序。這種特定順序考慮了平板(或葉片)的移動。
圖5示出了本發(fā)明的處理流程圖。在步驟240軟件程序開始。待輻照的治療部位的各參數(shù)在步驟242輸入。然后，在步驟243把治療部位分成強度段。如上所述，進行復(fù)雜的計算從而有效地把治療部位分成各段。此時，治療部位準備接受放射治療。在步驟244，平板定位于第一段之上，并且在步驟246對第一段進行放射治療。在步驟248，軟件程序檢查是否所有各段均已治療。若所有各段尚未全部治療，則程序返回步驟244。在步驟246，平板位于下一段之上，對該段進行放射治療。重復(fù)此操作直到所有各段均已輻照。軟件程序在步驟250結(jié)束。
圖6表示段最優(yōu)化的處理流程圖。圖6提供最優(yōu)化操作的細節(jié)。在步驟260，軟件程序確定最小射線束強度、待輻照的治療部位的形狀和在多葉片準直器中的葉片位置。最小射線束強度將限定待輻照的一個段(如見表2的矩陣)。限定段形狀需要最小強度的葉片位置。在步驟262，將強度圖作為矩陣處理。從初始強度圖中減去均勻填充的最小強度矩陣(例如，參見表2的矩陣)。這導(dǎo)致了變化矩陣(例如，參見表3的矩陣)。在步驟264，把變化矩陣水平地切成具有等數(shù)量的監(jiān)視器單元的矩陣(例如，參見表4-10的矩陣)。該變化矩陣不具有整體均勻數(shù)量的監(jiān)視器單元。在該矩陣內(nèi)的這種變化稱作調(diào)制。當強度圖有低的調(diào)制時，治療部位形狀隨強度提高的變化極小。例如，(1)當存在高的調(diào)制時，應(yīng)采用1個監(jiān)視器單元；(2)當存在中度調(diào)制時，應(yīng)采用3個監(jiān)視器單元；(3)當存在低的調(diào)制時，應(yīng)采用5個監(jiān)視器單元。
在步驟266，把從分割而得到的每個矩陣變換為二進制表達式。此二進制表達式包括表示射線存在的“1”和表示射線不存在的“0”。在步驟268，對處理初始二進制矩陣所需的不同平板或葉片位置的數(shù)量進行計算。對此計算而言，將多個共同形狀的治療部位僅作為一個治療部位來治療。在步驟270，軟件程序檢查用于平板/葉片位置的初始計算的理論最小值是否已經(jīng)確定。若未確定，則在步驟272確定理論最小值。若已確定，則軟件程序移至步驟274。在步驟274，對在步驟268所計算出的數(shù)與步驟272確定的數(shù)進行比較，如果不同的平板/葉片位置的數(shù)量大于理論最小值，而且在后10次重復(fù)期間不同的平板/葉片位置的數(shù)量已經(jīng)減少，則程序移至步驟276。如果不同的平板/葉片位置的數(shù)量等于理論最小值，則程序移至步驟278。此外，如果在后10次重復(fù)期間，不同的平板/葉片位置的數(shù)量未減少，則程序移至步驟278。
在步驟276，產(chǎn)生矩陣中的“1”和“0”的移置。根據(jù)由軟件程序的最優(yōu)化過程所選擇的流程進行這些移置。最優(yōu)化過程的一個例子是模擬退火。模擬退火是已知的最優(yōu)化過程，記載在Press，Teukolsky，Vetterling和Flannery編著，“C語言中的數(shù)字方法(Numerical Recipes in C)”，劍橋大學(xué)出版社，1992，444-451頁。模擬退火可能要較長時間(當與其它最優(yōu)化過程比較時)，但是此結(jié)果是矩陣的最佳構(gòu)型。
除了模擬退火之后，還可以采用如下方式，其特征在于根據(jù)平板/準直器旋轉(zhuǎn)、“島”、相同的形狀部分，和/或強度最小值對強度圖分割。平板/準直器旋轉(zhuǎn)考慮橋架的旋轉(zhuǎn)位置?！皪u”是在二進制矩陣中的隔離形狀(即無任何沿葉片運動方向之間混合的“0”的“1”)。例如，圖7A中，矩陣288被分成矩陣294和296，以致每個矩陣294和296中僅含一個“島”。當“ 1”和“0”重新分布以使各矩陣變得相同并可組合時產(chǎn)生相同形狀部分(如表11所示)。強度最小值是變化矩陣中監(jiān)視器單元的最小數(shù)量。例如，圖7A中，矩陣284的左上角和右下角的“1”是強度最小值。在此方式中，強度圖部分(或初始矩陣)表征之后，移動強度最小值(如至圖7A中的矩陣296)直至發(fā)現(xiàn)共同形狀的島。然后，移動下一個較高的強度組，重復(fù)處理直至發(fā)現(xiàn)最大數(shù)量的共同形狀的島。在此方式快速產(chǎn)生另一矩陣構(gòu)型的同時，這些所得出的矩陣不會是最優(yōu)化構(gòu)型的矩陣。
步驟276之后，軟件程序返回到步驟268，在此，計算目前矩陣構(gòu)型所需的平板位置數(shù)量。然后軟件程序繼續(xù)至步驟270等。在步驟278，確定每段的平板/葉片位置和多段治療的順序。做此確定是為了使平板/葉片移動最小。
圖7A-C示出了用于段最優(yōu)化處理的矩陣。首先由圖7A開始，矩陣280是代表待放射治療的部位的矩陣。在此段最優(yōu)化處理的例子中，矩陣280開始分成兩個分立的矩陣282和284。最小強度矩陣282是最大可能的立方狀矩陣。變化矩陣284是第二矩陣，其包括從矩陣280中移走矩陣282之后剩余的值。矩陣284隨后分成三個矩陣288、290和292。這些矩陣288、290和292僅含“1”和“0”。為了開始簡化處理，矩陣288分成矩陣294和296。
圖7B中，矩陣292和296組合產(chǎn)生矩陣300，矩陣288由矩陣294置換。此時，矩陣284等于矩陣294、290和300的總和。圖7C中，矩陣294(見圖7B)的左上位移至矩陣300(見圖7B)的左上位從而產(chǎn)生矩陣302和304。此時，矩陣284等于矩陣302、290和304的總和。然后，矩陣302和290組合產(chǎn)生矩陣306。矩陣284此時被分成僅有兩個矩陣306和304?？偟膩碚f，原始矩陣280可分成三個矩陣282、306和304。這三個矩陣282、306和304的每個代表治療部位的一段。因此，此例的治療部位分成三個分立的段。
在此優(yōu)選實施例中，利用平板位置、放射劑量率和射線輻照時間來對每段進行放射治療。在每段治療期間，平板定位于每段之上。也可采用多葉片準直器代替平板或者除平板之外還采用準直器。如果采用多葉片準直器，則可容易用射線束覆蓋奇特形狀的矩陣。在多葉片準直器中可采用十個1cm寬的葉片。但不幸的是，多葉片準直器通常具有產(chǎn)生于葉片之間的某種射線泄漏。若采用平板，則可避免此種射線泄漏。因此，盡可能多使用平板而不使用葉片是有利的。某種段布置可使大量使用平板和盡量少使用準直器葉片，這可用于多數(shù)段是矩形形狀的情況下。此外，在治療過程中，移動葉片時的射線泄漏較大。本發(fā)明中，由于這些葉片治療的是治療部位的小靜態(tài)段，所以不移動。在段的治療期間，即使不改變橋架位置也可完全覆蓋治療部位。靜止的葉片和橋架，(1)由于提高了治療的可靠性，所以無需動態(tài)控制線路；(2)可使非共面強度調(diào)制治療部位作為待治療部位。這種非共面強度調(diào)制治療部位不必位于同一平面，其特征在于可改變輻照區(qū)域上的監(jiān)視器單元數(shù)量。通過使這些治療部位為非共面并使強度橫跨治療部位變化，健康細胞組織將接收較少的輻射，從而可以保護敏感器官。
發(fā)送至目標的射線可分解為主要成分和散射成分。主射線由從放射源發(fā)送的初始或原始光子組成，而散射射線是被由平板設(shè)置本身散射的光子引起的。由于在主射線束上增加的板/準直器散射器，所以在自由空間的射線束的射線輸出增大。換言之，治療部位中的一點不僅要受到直接輻射(它是主要成分)，而且還要受到從平板裝置散射出的輻射。較小的部位具有較少的射線散射。因此，當采用多段來由放射治療部位時，散射減少很多。
權(quán)利要求
1.一種對從放射源發(fā)送至目標的射線輸出進行控制的方法，包括如下步驟
確定在目標上輻照的治療部位；
把該治療部位分成多段，多段中的每一段具有確定的參數(shù)；
對每段單獨地放射治療，這種治療包括如下步驟
在放射源與目標之間限定一個通孔，該通孔置于各段之一上，該通孔能把射線束限定為各段之一的確定參數(shù)；和
產(chǎn)生射線束，該射線束在從放射源至目標的射線束通路上基本無損耗，用該射線束輻照各段之一；
其中，重復(fù)治療直至每段均已被輻照過。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括改變來自射線束的射線輸出的步驟。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中利用至少一塊平板來限定通孔，該平板能阻擋來自放射源的射線。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中多段是靜態(tài)段。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括采用矩陣把治療部位分成多段的步驟。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，還包括將矩陣組織成特定順序的步驟。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中利用多葉片準直器限定通孔，該多葉片準直器能阻擋來自放射源的射線。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中采用最優(yōu)化過程來分割治療部位。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其中至少各段之一是矩形。
10.一種對從放射源發(fā)送至目標的射線輸出進行控制的方法，該放射源能產(chǎn)生射線束，該方法包括如下步驟
輸入用于輻照目標上的治療部位的參數(shù)；
把輸入的治療部位分成多段，各段具有確定的參數(shù)；
把通孔定位于各段之一上，該通孔位于放射源與目標之間，該通孔能把射線束限定到每段的確定參數(shù)；和
獨立地放射治療多段中的每一段。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，還包括限定在每段的等角點的放射劑量的步驟。
12.如權(quán)利要求10所述的方法，其中采用最優(yōu)化過程來分割輸入的治療部位。
13.如權(quán)利要求10所述的方法，其中采用至少一塊平板限定通孔，該平板能阻擋來自放射源的射線。
14.一種對發(fā)送至待輻照的治療部位的射線輸出進行控制的系統(tǒng)，包括
放射源，用于產(chǎn)生射線束；
射線束屏蔽裝置，用于將輸出射線束限定到預(yù)定參數(shù)；
劑量控制器，用于改變來自該放射源的射線輸出量；和
處理裝置，用于將待輻照的治療部位分成多段，每段具有確定的參數(shù)；
其中單獨地放射治療多段中的每一段。
15.如權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其中該處理裝置采用矩陣把治療部位分成多段。
16.如權(quán)利要求15所述的系統(tǒng)，其中該矩陣被組織成特定順序，該順序取決于該射線束屏蔽裝置的移動。
17.如權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其中該射線束屏蔽裝置是至少一塊平板和一準直器。
18.如權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其中至少一段是矩形。
19.如權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其中通過該處理裝置進行最優(yōu)化過程。
全文摘要
一種對發(fā)送至待輻照的治療部位的射線輸出進行控制的方法和系統(tǒng),其中,在射線發(fā)射裝置,尤其是放射治療裝置中,確定通過射線束對目標進行放射治療。輸入目標上待輻照的治療部位,然后分成多段。在放射源與目標之間布置平板或一準直器以在多段之一上提供通孔。產(chǎn)生和使用射線束來放射治療一段。重復(fù)此操作直至每段均被放射治療過。
文檔編號A61N5/10GK1174088SQ9711483
公開日1998年2月25日 申請日期1997年6月28日 優(yōu)先權(quán)日1996年6月28日
發(fā)明者拉蒙·A·C·賽奧奇 申請人:西門子醫(yī)療系統(tǒng)公司