1.富氫足浴盆，包括足浴盆本體，所述足浴盆本體用于盛裝液體，其特征在于，
還包括設(shè)于所述足浴盆本體中的制氫裝置；
所述制氫裝置包括電解容腔和設(shè)于所述電解容腔中的發(fā)光單元；
所述電解容腔為絕緣體，所述電解容腔上設(shè)有多個(gè)與外界連通的鏤空。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的富氫足浴盆，其特征在于，所述制氫裝置包括設(shè)于所述電解容腔中的電解陰極和電解陽極，制氫裝置的電解液為水。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的富氫足浴盆，其特征在于，所述足浴盆本體包括外殼體和內(nèi)殼體；
所述外殼體套設(shè)于所述內(nèi)殼體外，所述內(nèi)殼體上設(shè)有與所述外殼體的內(nèi)腔連通的連通口；
所述制氫裝置設(shè)于所述內(nèi)殼體和所述外殼體之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的富氫足浴盆，其特征在于，所述電解容腔包括上蓋和下蓋，所述上蓋設(shè)于所述內(nèi)殼體內(nèi)側(cè)，所述下蓋設(shè)于所述內(nèi)殼體和所述外殼體之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的富氫足浴盆，其特征在于，所述內(nèi)殼體上帶有定位孔，所述上蓋上帶有螺紋孔，所述下蓋上帶有安裝孔；
螺釘依次穿過所述安裝孔、所述定位孔擰入所述螺紋孔中。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的富氫足浴盆，其特征在于，所述發(fā)光單元設(shè)于所述上蓋和所述內(nèi)殼體之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的富氫足浴盆，其特征在于，所述內(nèi)殼體的底部設(shè)有多個(gè)凸起，所述內(nèi)殼體的側(cè)壁上設(shè)有按摩滾輪。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的富氫足浴盆，其特征在于，所述外殼體外側(cè)環(huán)設(shè)有發(fā)光單元。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的富氫足浴盆，其特征在于，還包括控制器，所述控制器控制向所述制氫裝置和所述發(fā)光單元供電。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的富氫足浴盆，其特征在于，還包括與所述控制器電性連接的控制面板，所述控制面板設(shè)于所述足浴盆本體的表面；
所述控制面板控制所述控制器控制所述制氫裝置和所述發(fā)光單元工作。