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一種利用PID控制的溫室集群臭氧智能消毒方法以及消毒裝置與流程

文檔序號(hào):11901120閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種利用PID控制的溫室集群臭氧智能消毒方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:

(1)設(shè)定待消毒溫室環(huán)境中的適宜臭氧濃度;

(2)向所述待消毒溫室環(huán)境中通入臭氧;

(3)自所述通入臭氧時(shí)起,間歇采集環(huán)境參數(shù),獲得實(shí)際臭氧濃度;

(4)比較所述實(shí)際臭氧濃度與適宜臭氧濃度的數(shù)值大小,采用PID控制方法控制臭氧的通入,具體為:

當(dāng)所述實(shí)際臭氧濃度大于適宜臭氧濃度時(shí),停止通入臭氧;

當(dāng)所述實(shí)際臭氧濃度小于適宜臭氧濃度時(shí),繼續(xù)通入t分鐘臭氧后,停止通入臭氧;所述t由公式:C=343×t0.0166-345.6計(jì)算得到,其中,C為所述適宜臭氧濃度與實(shí)際臭氧濃度的差值,單位為mg/m3。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:

(1)設(shè)定待消毒溫室環(huán)境中的適宜臭氧濃度,所述適宜臭氧濃度不小于3mg/m3;

(2)以0.1~0.4mg·m-3·min-1、優(yōu)選以0.2~0.3mg·m-3·min-1的速度向所述待消毒溫室環(huán)境中通入臭氧;

(3)自所述通入臭氧時(shí)起,以3~7min為間隔采集環(huán)境參數(shù),獲得實(shí)際臭氧濃度;

(4)比較所述實(shí)際臭氧濃度與適宜臭氧濃度的數(shù)值大小,采用PID控制方法控制臭氧的通入,具體為:

當(dāng)所述實(shí)際臭氧濃度大于適宜臭氧濃度時(shí),停止通入臭氧;

當(dāng)所述實(shí)際臭氧濃度小于適宜臭氧濃度時(shí),繼續(xù)通入t分鐘臭氧后,停止通入臭氧;所述t由公式:C=343×t0.0166-345.6計(jì)算得到,其中,C為所述適宜臭氧濃度與實(shí)際臭氧濃度的差值,單位為mg/m3。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,步驟(3)所述采集的環(huán)境參數(shù)為溫度T和濕度RH,實(shí)際臭氧濃度通過(guò)以下公式計(jì)算得到:C2=-0.059T-0.047RH+15.701;其中,C2代表實(shí)際臭氧濃度,單位為mg/m3

或,步驟(3)所述采集的環(huán)境參數(shù)為臭氧濃度C0,實(shí)際臭氧濃度即等于C0。

4.一種具有PID控制功能的溫室集群臭氧智能消毒裝置,其特征在于,包括外源供氣系統(tǒng)、臭氧發(fā)生系統(tǒng)、傳感數(shù)據(jù)采集模塊以及臭氧消毒PID控制模塊;

所述傳感數(shù)據(jù)采集模塊用于實(shí)時(shí)采集環(huán)境參數(shù);

所述臭氧消毒PID控制模塊接收由所述傳感數(shù)據(jù)采集模塊傳出的環(huán)境參數(shù),采用PID控制方法控制臭氧的通入,并驅(qū)動(dòng)所述外源氣體供氣系統(tǒng)為臭氧發(fā)生系統(tǒng)提供氣源。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置,其特征在于,所述傳感數(shù)據(jù)采集模塊包括溫度傳感器和濕度傳感器,或包括臭氧濃度傳感器。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的裝置,其特征在于,所述臭氧消毒PID控制模塊配置有RJ45接口和無(wú)線通信接口,主控程序集成有TCP/IP協(xié)議和HTTP協(xié)議,用于支持遠(yuǎn)程通信、遠(yuǎn)程管理的控制模式。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置,其特征在于,所述臭氧發(fā)生系統(tǒng)內(nèi)設(shè)置臭氧放電室;

優(yōu)選地,所述臭氧發(fā)生系統(tǒng)內(nèi)還設(shè)有內(nèi)循環(huán)水冷散熱系統(tǒng);所述內(nèi)循環(huán)水冷散熱系統(tǒng)與冷卻水系統(tǒng)相連。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置,其特征在于,所述臭氧發(fā)生系統(tǒng)的出口端與尾氣破壞系統(tǒng)相連,用于將尾氣中殘留的臭氧快速分解為氧氣。

9.根據(jù)權(quán)利要求4~8任意一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,所述各系統(tǒng)和模塊均設(shè)置于密封箱體中;

所述箱體隔熱、防潮且可移動(dòng),其表面設(shè)有控制所述各系統(tǒng)和模塊的開(kāi)關(guān)和/或觸摸屏。

10.權(quán)利要求1~3任意一項(xiàng)所述方法或權(quán)利要求4~9任意一項(xiàng)所述裝置在日光溫室集群中的應(yīng)用。

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