技術特征：

1.一種用于微創(chuàng)手術的穿刺器的密封膜，所述密封膜包括近端開口和遠端孔以及從遠端孔延伸至近端開口的密封壁，所述密封壁具有近端面和遠端面；所述遠端孔由密封唇形成，用于容量插入的器械并形成氣密封；所述密封唇包含中心軸線和大致與所述軸線垂直的橫平面；其特征在于：

a)所述密封壁包含凸緣，主體回轉壁和多個反向凹槽；

b)所述主體回轉壁包括從密封唇向凸緣延伸的第一回轉壁和從凸緣向密封唇延伸的第二密封壁；所述第一密封壁與橫平面形成第一角度，而所述第二回轉壁與橫平面形成第二角度，所述第一角度小于第二角度且小于90度；

c)所述反向凹槽從所述主體回轉壁的遠端面向近端面凹陷且所述反向凹槽的開口朝向遠端面，而從近端面的視角所述反向凹槽的外形表現(xiàn)為從近端面上隆起的筋。

2.如權利要求1所述的密封膜，其特征在于，每一個所述反向凹槽包含兩個側壁，且所述側壁是兩邊限定的從密封唇開始橫向向外延伸的且寬度逐漸增大的面域。

3.如權利要求2所述的密封膜，其特征在于，所述反向凹槽的截面形狀是U型或者V型或者其中一部分是U型而另一部分是V型。

4.如權利要求2所述的密封膜，其特征在于，所述反向凹槽側壁的兩邊之間夾角的幾何關系符合下述公式：

$\mathrm{\θ}\≥arctan\frac{9\mathrm{\π}R(R_i-R)cos\mathrm{\α}}{P(R_i+9R)(R-R_0)}$

且α+θ≤90°；

其中：

θ＝在密封唇臨近區(qū)域的反向凹槽的側壁的兩條邊之間的夾角

α＝密封唇臨近區(qū)域的主體回轉壁的母線與橫平面的夾角(導向角)

arctan＝反正切函數(shù)

cos＝余弦函數(shù)

π＝圓周率

R＝半徑

R_i＝設計通過密封膜的手術器械的最大半徑

R₀＝密封唇的半徑

P＝反向凹槽的數(shù)目。

5.如權利要求4所述的密封膜，其特征在于，所述夾角α取值范圍：0°≤α≤30°。

6.如權利要求4所述的密封膜，其特征在于，所述半徑R的取值范圍：2.5mm≤R≤(R_i+R₀)/2。

7.如權利要求2所述的密封膜，其特征在于，其中所述第一主體回轉壁具有多個褶皺，所述褶皺與密封唇外切并橫向向外延伸。

8.如權利要求3所述的密封膜，其特征在于，其中所述密封唇是圓環(huán)形的或圓柱形的。

9.如權利要求4所述的密封膜，其特征在于，還包括從所述凸緣延伸至近端開口的具有多個橫向褶皺的外部浮動部分。

10.一種穿刺器密封組件，其特征在于包括如權利要求1-8中任一項所述的密封膜，所述密封組件還包含下固定環(huán)，上固定環(huán)，保護裝置，上殼體和上蓋；所述密封膜還包括從凸緣延伸至近端開口的具有多個橫向褶皺的外部浮動部分；所述密封膜和保護裝置被夾在上固定環(huán)和下固定環(huán)之間；所述密封膜的近端開口被夾在上殼體和上蓋之間。