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技術(shù)特征:

1.平衡足壓矯正鞋墊,其特征在于,所述平衡足壓矯正鞋墊包括定型支撐結(jié)構(gòu)、后跟內(nèi)置減震墊、涌泉穴穴位凸點、足弓位置凸起、外包墻;

其中,所述定型支撐結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述平衡足壓矯正鞋墊的足弓位置;

所述后跟內(nèi)置減震墊內(nèi)置于所述定型支撐結(jié)構(gòu)上的后跟鏤空處;

所述涌泉穴穴位凸點位于足前部凹陷處第2、3趾趾縫紋頭端與足跟連線的前三分之一處;

所述足弓位置凸起為設(shè)置于足弓凹陷位置的加厚材料;

所述外包墻沿足弓兩側(cè)并向上延伸至后跟處,呈U型包裹足部。

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