用于將弓絲與牙耦合的正牙支架本申請是2009年8月13日提交的發(fā)明名稱為“美觀正牙支架及其制造方法”的200980105523.X號中國發(fā)明專利申請的分案申請。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明大體上涉及正牙支架，并且尤其涉及具有諸如滑動裝置或插銷的可移動閉合部件的美觀正牙支架。

背景技術(shù)：
正牙支架是用于改善患者咬合的矯正正牙治療的基本部件。在常規(guī)正牙治療中，正牙醫(yī)生或助手將支架固定至患者牙齒，并且將弓絲嚙合在每個支架的槽中。弓絲施加矯正力，其強迫牙齒移動至正牙學(xué)上正確位置。采用諸如小彈性O(shè)－環(huán)或細(xì)金屬絲的傳統(tǒng)綁扎線，以將弓絲保持在每個支架槽中。由于在將獨立綁扎線應(yīng)用于每個支架中時遇到的困難，已經(jīng)開發(fā)了自綁扎正牙支架，依賴于用于將弓絲抓握在支架槽中的可移動插銷或滑動裝置，而不再需要綁扎線。常規(guī)正牙支架通常由不銹鋼制成，其堅固、不可吸收、可焊接，并且相對易于形成和加工。然而，經(jīng)歷使用金屬正牙支架的正牙治療的患者，可能由于金屬的可見性而感到尷尬，這在美容方面是令人不快的。為了改善美容外觀，一些常規(guī)正牙支架包括透明或半透明非金屬材料制成的支架體，諸如聚合樹脂或陶瓷，其呈現(xiàn)或酷似下層牙的顏色或色度。這種正牙支架可能依賴于加襯弓絲槽的金屬插入物，用于增強和加固弓絲槽附近的支架體。結(jié)果，患者嘴中金屬的外觀雖然在一定程度上仍然存在，但是一般看來不引人注目，并且因而特征在于非金屬支架體的支架從美學(xué)上更令人愉快。由于美學(xué)上改進，由例如陶瓷材料的透明/半透明材料形成支架體，已經(jīng)變得令人滿意。然而，陶瓷材料易碎，并且在使用中更可能破裂。因此，需要陶瓷支架，其能抵抗將牙齒移動至正牙學(xué)上正確的位置所需的壓力。雖然使用透明或半透明材料形成傳統(tǒng)的非自綁扎支架體已經(jīng)普遍地改善了這些支架的美感，但是改進自綁扎支架的美感迄今仍存在問題。作為實例，當(dāng)前美學(xué)自綁扎正牙支架可以使用透明或半透明支架體，但是繼續(xù)使用金屬制成的閉合部件(例如，綁扎滑動裝置)。這種設(shè)置的一個這種實例公開在美國專利公開號No.2004/0072117中，所述文獻的公開內(nèi)容在此全文引入作為參考。這些金屬閉合部件可能可見的降低了大部分患者所需的美學(xué)外觀，尤其是對于連接至位于口腔前部的門齒和犬齒的支架。這些自綁扎支架已經(jīng)維持使用金屬閉合部件，大體上是因為這種部件所需的強度、延展性和韌性。因而，仍然需要實現(xiàn)完全的自綁扎支架的美觀性。因而，需要一種改進的、更完全美觀的自綁扎正牙支架，其克服了常規(guī)自綁扎正牙支架的這些和其它不足。

技術(shù)實現(xiàn)要素：
為此，一種用于將弓絲與牙耦合的正牙支架包括配置成安裝至牙的支架體。支架體包括適于在其中接收弓絲的弓絲槽和與支架體嚙合的可移動部件。可移動部件相對于支架體可在打開位置和閉合位置之間移動，在打開位置可以將弓絲插入弓絲槽中，而在閉合位置可移動部件將弓絲保持在弓絲槽中。支架體和可移動部件由透明或半透明陶瓷材料制成。在一個實施例中，正牙支架包括用于限制可移動部件朝向打開位置移動的保持機構(gòu)，以及與用于限制可移動部件朝向打開位置移動的保持機構(gòu)分離的第一停止結(jié)構(gòu)。保持機構(gòu)包括位于保持機構(gòu)與可移動部件和支架體中之一之間的表觀接觸區(qū)域。第一停止結(jié)構(gòu)包括位于可移動部件和支架體之間的第一接觸區(qū)域，其大于表觀接觸區(qū)域。在一個實施例中，支架體包括支撐表面，其至少局部地限定滑動嚙合軌道。可移動部件嚙合滑動嚙合軌道。至少一部分支撐表面定位在弓絲槽的唇緣舌側(cè)。在一個實施例中，支架體包括多晶陶瓷，其粒度分布特征在于其平均粒度的范圍為大于3.4μm至約6μm。在一個實施例中，正牙支架還包括綁扎滑動裝置，其包括多晶陶瓷。在又一實施例中，正牙支架包括配置成安裝至牙的支架體，其包括配置成在其中接收弓絲的弓絲槽，支架體包括多晶陶瓷，其粒度分布特征在于其平均粒度的范圍為約3.5μm至約5μm，其高達約50％的顆粒尺寸小于3μm，其高達約90％的顆粒尺寸小于10μm，尺寸大于10μm的顆粒占支架體體積的約50％。多晶陶瓷的斷裂韌度至少為4.0MPa·m1/2。在本發(fā)明的又一實施例中，一種制造正牙支架的方法包括由陶瓷粉末模制支架體，并且燒結(jié)模制體以形成粒度分布特征在于其平均粒度的范圍為大于3.4μm至約6μm的燒結(jié)體。附圖說明包括在本說明書中并且構(gòu)成其一部分的隨附附圖，示出了本發(fā)明的實施例，并且與上述給出的基本描述和下文給出的詳細(xì)描述一同，用于說明本發(fā)明的各個方面。圖1是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的自綁扎正牙支架的透視圖，其中綁扎滑動裝置示為處于打開位置；圖2是圖1中所示的自綁扎正牙支架的透視圖，其中綁扎滑動裝置示為處于閉合位置；圖3是圖1所示的自綁扎正牙支架的正視圖；圖4是圖1中所示的自綁扎正牙支架的透視圖，其中移除了滑動裝置；圖5是圖1中所示的綁扎滑動裝置的后視圖；圖6是圖2中所示的自綁扎正牙支架大體上沿著線6－6獲取的橫截面視圖；圖7是圖1中所示的自綁扎正牙支架大體上沿著線7－7獲取的橫截面視圖；圖8是圖2中所示的自綁扎正牙支架大體上沿著線8－8獲取的橫截面視圖；圖9是圖1中所示的綁扎滑動裝置的側(cè)視圖；圖10是圖1中所示的自綁扎正牙支架的后視圖；圖11是圖6中所示的已環(huán)繞部分11的放大視圖；圖12是根據(jù)備選實施例的自綁扎正牙支架的后視透視圖；圖13是圖1中所示的自綁扎正牙支架的前視圖；圖14是圖1中所示的自綁扎正牙支架大體上沿著線7－7獲取的類似于圖7的橫截面視圖；圖15是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的自綁扎正牙支架的透視圖；圖16是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的自綁扎正牙支架的透視圖，其中綁扎滑動裝置示為處于閉合位置；圖17是圖16中所示的自綁扎正牙支架的透視圖，其中綁扎滑動裝置示為與支架體分離；圖18是圖16中所示的自綁扎正牙支架大體上沿著線18－18獲取的橫截面視圖；圖19是圖16和17中所示的綁扎滑動裝置的后視圖；圖19A是圖19中的綁扎滑動裝置沿著線19A－19A的橫截面視圖；圖20是圖16中所示的自綁扎正牙支架大體上沿著線20－20獲取的橫截面視圖；圖21是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的自綁扎正牙支架的透視圖，其中綁扎滑動裝置示為處于閉合位置；圖22是圖21中所示的自綁扎正牙支架的透視圖，其中綁扎滑動裝置示為與支架體分離；圖23是圖21中所示的自綁扎正牙支架大體上沿著線23－23獲取的橫截面視圖；圖24是圖21和22中所示綁扎滑動裝置的后視圖；圖24A是圖24中所示的綁扎滑動裝置沿著線24A－24A獲取的橫截面視圖；圖25是示出表面裂紋對多晶氧化鋁的撓曲強度的影響的圖表；圖26A、26B和26C是根據(jù)本發(fā)明的實施例在440×的放大倍率獲取的多晶氧化鋁支架材料的顯微圖；圖26D是在110×放大倍率獲取的多晶氧化鋁支架材料的顯微圖；圖27A、27B、27C和27D是根據(jù)本發(fā)明的實施例在440×的放大倍率獲取的多晶氧化鋁支架材料的顯微圖；圖28A、28B、28C和28D分別是示出圖27A、27B、27C和27D中所示的顯微結(jié)構(gòu)的粒度分布的圖表；圖29是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的，對于圖27B中所示的顯微結(jié)構(gòu)的三種粒度范圍所計算的體積分?jǐn)?shù)的圖表；以及圖30是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的，對于圖27C中所示的顯微結(jié)構(gòu)的三種粒度范圍所計算的體積分?jǐn)?shù)的圖表。具體實施方式雖然下面將結(jié)合特定實施例描述本發(fā)明，但是本發(fā)明不局限于任一特定類型的正牙支架。本發(fā)明實施例的描述意于覆蓋可能包括在由隨附權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)的所有備選、修改和等效設(shè)置。尤其，本領(lǐng)域技術(shù)人員將意識到，本文所述的本發(fā)明的實施例的部件可以以多種不同方式設(shè)置?，F(xiàn)在參考附圖，尤其參考圖1和2，正牙支架10包括支架體12和耦合至支架體12的可移動閉合部件。在一個實施例中，可移動閉合部件可以包括可滑動地與支架體12耦合的綁扎滑動裝置14。支架體12包括形成于其中的弓絲槽16，其適于接收對牙施加矯正力的弓絲18(以虛線所示)。綁扎滑動裝置14可以在打開位置(圖1)和閉合位置(圖2)之間移動，在打開位置可以將弓絲18插入弓絲槽16中，而在閉合位置將弓絲18保持在弓絲槽16中。支架體12和可綁扎滑動裝置14共同形成用于矯正正牙治療的自綁扎正牙支架10。而且，雖然本文描述可移動閉合部件為綁扎滑動裝置，但本發(fā)明不局限于此，因為可移動閉合部件可以包括其它可移動結(jié)構(gòu)(例如，插銷、彈性鎖片、門等)，其能夠以任何合適的方式在打開和閉合位置之間移動。除非特別指出，本文使用連接至上頜牙的唇面上的支架10的參考系而描述正牙支架10。因此，如本文中所使用的，用于描述支架10的術(shù)語，諸如唇的、舌的、近中的、遠(yuǎn)端的、咬合面的以及齒齦的，是相對于所選的參考系。然而，本發(fā)明的實施例不局限于所選的參考系和說明性術(shù)語，因為正牙支架10可以用于其它牙上并且在口腔中處于其它方向。例如，支架10還可以耦合至牙的舌面，或者位于下頜上并且也在本發(fā)明的范圍內(nèi)。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將意識到，當(dāng)參考系存在變化時，本文所用的描述性術(shù)語可能不直接適用。然而，本發(fā)明意于不依賴于在口腔中的定位和定向，并且用于描述正牙支架的實施例的相對術(shù)語僅提供了對附圖中實例的清楚描述。同樣地，相對術(shù)語唇的、舌的、近中的、遠(yuǎn)端的、咬合面的和齒齦的并不將本發(fā)明限制于特定位置或方向。當(dāng)安裝至患者上頜上的牙的唇面時，支架體12具有舌側(cè)20、咬合側(cè)22、齒齦側(cè)24、近中側(cè)26、遠(yuǎn)端側(cè)28和唇側(cè)30。支架體12的舌側(cè)20配置成任意常規(guī)方式固定至牙，諸如舉例而言，借助于合適的正牙粘固粉或粘合劑或者借助于圍繞鄰近牙(未示出)的帶。舌側(cè)20還可以設(shè)置有墊32，其限定了適于固定至牙表面的連接基底33。墊32可以作為獨立工件或元件耦合至支架體12，或者作為選擇地，墊32可以與支架體12集成形成。支架體12包括基底面34和從基底面34唇向突出的一對相對槽表面36、38，其共同限定了在近中－遠(yuǎn)方向上從近中側(cè)26延伸至遠(yuǎn)端側(cè)28的弓絲槽16。槽表面36、38和基底面38大體上密封或嵌入在支架體12的材料中。支架體12的弓絲槽16可以設(shè)計成任何合適的方式接收正牙弓絲18。參考圖4，支架體12還包括從槽表面38在大體上齒齦－咬合方向上延伸的支撐表面40。一對相對的引導(dǎo)部42、44由支撐表面40承載，并且分別定位在其近中側(cè)26和遠(yuǎn)側(cè)28上。引導(dǎo)部42、44大體上是L－形的，并且各自包括從支撐表面40在唇向上突出的第一支柱42a、44a。引導(dǎo)部42具有在遠(yuǎn)端方向上突出的第二支柱42b或耳狀部，而引導(dǎo)部44具有在近中方向上突出的第二支柱44b或耳狀部，從而引導(dǎo)部42、44共同地局部位于支撐表面40上方。支撐表面40和引導(dǎo)部42、44共同限定了用于在支架體12中支撐和引導(dǎo)綁扎滑動裝置14的滑動嚙合軌道46。支撐表面40包括近中部分48、遠(yuǎn)端部分50以及位于近中部分48和遠(yuǎn)端部分50之間的中央部分52。引導(dǎo)部42、44配置成分別位于近中部分48和遠(yuǎn)端部分50上，但與其分離，以接收綁扎滑動裝置14。中央部分52包括凸起的凸出部54，其大體上在唇向上突出，下文將更詳細(xì)討論其目的。這種結(jié)構(gòu)大體上在支撐表面40中限定了齒齦－咬合方向的導(dǎo)軌或凹槽56、58。另外，支撐表面40的中央部分52包括位于其咬合端的凹進或切口60，其限定了止動表面。如下文更詳細(xì)所述的，止動表面配置成與綁扎滑動裝置14協(xié)作，以改進的方式適應(yīng)施加在支架10上的力(例如，咀嚼力)。如上所述，為了改進正牙支架10的美觀性，支架體12由半透明或透明非金屬材料制成。例如，支架體12可以由透明或半透明陶瓷材料制成。另外，支架體12可以是牙色的。在一個實施例中，陶瓷材料可以是多晶氧化鋁或鋁氧化物。然而，作為實例而非限制，可以使用其它多晶陶瓷材料，諸如多晶氧化鋯或鋯氧化物。因此，在一個實施例中，支架體12可以通過陶瓷噴射模塑法(CIM)、隨后燒結(jié)和/或熱等靜壓(HIPing)而形成。在又一實施例中可以處理支架體12的一部分或其整個表面，以增加支架體12的轉(zhuǎn)矩強度。作為實例，支架體12可以具有沉積或以別的方式形成于其上的涂層。例如，涂層可以通過物理氣相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)沉積，厚度高達15μm。此外，涂層可以是非結(jié)晶的、納米晶，或者其微結(jié)構(gòu)所含的顆粒比支架體12的顆粒更精細(xì)。在一個實施例中，不是研磨和/或拋光表面，支架體12的表面的一部分或全部可以進行離子碾磨或酸蝕刻，以移除表面瑕疵并且在其中產(chǎn)生壓縮表面應(yīng)力，由此加固支架體12。另外，或者作為選擇的，表面可以進行金屬離子轟擊、混合金屬離子轟擊或者激光融化，以改善斷裂韌性。將意識到，可以使用一種或多種表面處理的組合，以增加支架體12的轉(zhuǎn)矩強度。如圖3中所示，綁扎滑動裝置14包括近中部分62、遠(yuǎn)端部分64以及位于近中部分62和遠(yuǎn)端部分64之間的中央部分66。引導(dǎo)部42、44配置成分別位于近中部分62和遠(yuǎn)端部分64之上，并且中央部分66配置使得中央部分66的唇側(cè)大體上與引導(dǎo)部42、44的唇側(cè)齊平(圖2)。這種結(jié)構(gòu)大體上在綁扎滑動裝置14的唇側(cè)中限定了齒齦－咬合方向的軌道或凹槽68、70，隨著綁扎滑動裝置14在打開位置和閉合位置之間移動，所述綁扎滑動裝置14沿著引導(dǎo)部42、44移動。近中部分62和遠(yuǎn)端部分64不延長綁扎滑動裝置14的完整齒齦－咬合范圍，但是作為代替，其突然停止齒齦側(cè)72以分別限定兩個大體上平面的平坦表面74、76。如圖2中所示，并且如下文更詳細(xì)討論的，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時，平坦表面74、76可以鄰近或形成弓絲槽16的一部分，并且更特別地，形成槽表面38的一部分，其捆綁了弓絲18的一側(cè)。與許多美學(xué)自綁扎支架不同，綁扎滑動裝置14還可以由半透明或透明材料形成。例如，綁扎滑動裝置14可以由透明或半透明陶瓷材料制成。在一個實施例中，陶瓷材料可以與用于形成支架體12的材料相同。然而，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將意識到，還有其它合適的材料，將提供美觀的綁扎滑動裝置14。另外，為了改進強度和美觀性，綁扎滑動裝置14可以以類似于上述對支架體12所述的類似方式進行表面處理。有利地是，由透明或半透明材料形成的支架體12和綁扎滑動裝置14將減少正牙支架固定至患者牙時的可見性。如圖4和5中所示，正牙支架10包括固定機構(gòu)，其將綁扎滑動裝置14固定在至少閉合位置。為此，固定機構(gòu)包括位于支架體12或綁扎滑動裝置14之一中的突出部分，以及位于支架體12或綁扎滑動裝置14另一者中的接收部分，兩者協(xié)作以將綁扎滑動裝置14保持在至少閉合位置。固定機構(gòu)還可以防止綁扎滑動裝置14與支架體12脫離。在一個典型實施例中，固定機構(gòu)包括耦合至支架體12的彈性嚙合部件，諸如大體上細(xì)長的、圓柱形、管形彈簧銷78(圖4)，還包括形成在綁扎滑動裝置14中的保持槽80(圖5)。雖然使用與支架體12相關(guān)的彈簧銷78和與綁扎滑動裝置14相關(guān)的保持槽80描述了該實施例，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將意識到本發(fā)明不局限于此。例如，彈簧銷可以耦合至綁扎滑動裝置，而可以在支架體中形成合適的保持槽。如圖4、6和7所示，彈簧銷78包括第一部分和第二部分。彈簧銷78的第一部分配置成接收在形成于支撐表面40中的孔82中。彈簧銷78的第二部分以大體上唇向突出遠(yuǎn)離支撐表面40，以延伸進入滑動嚙合軌道46。彈簧銷78包括切口或裂口84，下文將描述其目的，其形成在側(cè)壁上，并且沿著彈簧銷78的至少長度的一部分延伸。彈簧銷78例如可以通過卷起處理形成以限定裂口84，或者作為選擇，可以通過切割管形部件以形成裂口84而形成。另外，彈簧銷78可以由包括不銹鋼、鈦合金、鎳鈦型超彈性材料或其它合適的材料制成?？?2定位在弓絲槽16的咬合方向上，并且從齒齦側(cè)20延伸至支架體12的支撐表面40。另外，孔82可以形成在中央部分52的凸起凸出部54中。將彈簧銷78定位在凸起凸出部54中向彈簧銷78提供了附加支撐，以防止或減少彈簧銷78的懸臂彎曲或折曲?？?2包括通向支撐表面40并且適于在其中接收彈簧銷78的第一部分86，以及在支架體12的齒齦側(cè)20處打開并且適于接收配置成將彈簧銷78固定在孔82中的閉塞部件的第二部分88。在一個實施例中，閉塞部件可以是球90。然而，閉塞部件不局限于此，因為還可以使用其它閉塞部件將彈簧銷78固定在孔82中。可以將大體上錐形的過渡區(qū)域92設(shè)置在第一和第二孔部分86、88之間。在組裝期間，將彈簧銷78從齒齦側(cè)20插入孔82(并且使綁扎滑動裝置與支架體12嚙合)，以將其定位在第一孔部分86中。將球90插入第二孔部分88中，并且固定至孔82。作為實例，球90可以粘合地與孔82耦合。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將意識到其它方法將球90固定在孔82中。第二孔部分88的橫截面尺寸可能大于第一孔部分的橫截面尺寸，而有助于將彈簧銷78插入孔82中。尤其，錐形過渡區(qū)域92可能有助于在組裝處理期間將彈簧銷78插入孔82中。在一個實施例中，球90可以由鋯制成，但是還可以使用諸如PMMA、聚碳酸酯、玻璃等的其它合適材料形成球90。雖然彈簧銷78可以由金屬制成，但是彈簧銷78(以及球90假設(shè)以非美觀材料制成)定位在正牙支架10中相對較深，以減小對支架體10的美觀的影響。如圖5中所示，綁扎滑動裝置14的舌側(cè)94包括腔96，其具有基底面98、齒齦端100和咬合端102。齒齦端100敞開以隨著綁扎滑動裝置14在打開和閉合位置之間移動時在其中接收凸起的凸出部54。腔96的咬合端102由突鍵部件104閉鎖，其從舌側(cè)94向外延伸(例如，舌向的)，并且具有面向腔96的接觸表面106，下文將更詳細(xì)的討論其目的。保持槽80形成在腔96的基底面98中，并且大體上在齒齦－咬合方向(例如，在綁扎滑動裝置14的移動方向上)延伸。保持槽80可以形成使得在唇側(cè)－舌側(cè)方向上完全延伸通過滑動裝置14(未示出)，或者以使得僅局部延伸通過滑動裝置14，并且因而從滑動裝置14的唇側(cè)108不可見(例如，盲槽)，如圖3和5所示。這種盲槽結(jié)構(gòu)減少了口腔中食物或其它材料可能聚集在支架10的唇側(cè)上的位置，由此改進了整體衛(wèi)生。在一個實施例中，保持槽80在槽80的咬合端112上具有放大部分110，其與具有閉合齒齦端116的筆直段部分114。放大部分110可以是圓形的，如圖所示，或者具有其它合適的形狀。圓形部分110的橫截面尺寸大于筆直段部分114的橫截面尺寸，以在其間的過渡區(qū)域限定一對相對的突出部分118。當(dāng)將綁扎滑動裝置14耦合至支架體12時，彈簧銷78接收在保持槽80中，其隨著滑動裝置14在打開和閉合位置之間移動而相對于彈簧銷78移動。彈簧銷/保持槽結(jié)構(gòu)用于將綁扎滑動裝置14固定在至少閉合位置。為此，彈簧銷78的裂口84允許將至少裂口部分相對于其中心軸69大體上徑向彎曲或彈性變形。正如本文中所使用的，徑向彎曲不僅包括均勻的徑向改變，還包括不均勻或局部徑向改變，諸如在彈性C夾的擠壓期間產(chǎn)生的。換句話說，至少一部分彈簧銷78具有第一有效曲率直徑或半徑(諸如在未偏壓狀態(tài))，但是能夠彎曲，諸如通過擠壓彈簧銷78，以使得具有小于第一有效曲率直徑或半徑的第二有效曲率直徑或半徑。雖然彈簧銷78中的裂口84允許徑向收縮/擴張，但是可以以其它方式實現(xiàn)這種運動。在操作中，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置(圖2)時，彈簧銷78設(shè)置在保持槽80的放大部分110中，并且允許徑向擴張，從而彈簧銷78嚙合放大部分110的壁。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將意識到彈簧銷78無需嚙合放大部分110的壁，但是必須其至少橫截面尺寸(例如，直徑)當(dāng)徑向擴張時大于筆直段部分114的橫截面尺寸。當(dāng)這樣設(shè)置在放大部分110，突出部分118提供了對綁扎滑動裝置14移動遠(yuǎn)離閉合位置和朝向打開位置的抵抗力的閾值水平。然而，例如，如果在咬合方向上將足夠大的開啟力施加在綁扎滑動裝置14上，那么保持槽80和彈簧銷78之間的相互作用使銷78徑向收縮(由于槽80施加的擠壓)，從而彈簧銷78移動通過突出部分118，并且進入保持槽80的筆直段部分114。一旦定位在筆直段部分114中，彈簧銷78承載其側(cè)部，從而必須施加小于并且可能顯著小于開啟力的閾值滑動力，以克服拖拉力，并且隨著彈簧銷78穿過筆直段部分114而相對支架體12移動綁扎滑動裝置14。因而，一旦打開，綁扎滑動裝置14并不僅自由滑動或下降至完全打開位置，而必須有目的地朝向打開位置移動。如果綁扎滑動裝置14僅局部打開，滑動裝置14可以配置成維持其相對于支架體12的位置(由于，例如，彈簧銷78和滑動裝置14之間的摩擦力)，直到施加閾值滑動力以繼續(xù)朝向打開位置移動滑動裝置14。這種結(jié)構(gòu)減少了在例如正牙治療期間非故意閉合滑動裝置14的可能性。當(dāng)綁扎滑動裝置14朝向閉合位置移動時，隨著彈簧銷78進入放大部分110，彈簧銷78恢復(fù)或迅速恢復(fù)至其徑向擴展位置，以再一次將綁扎滑動裝置固定在閉合位置。正如上述介紹的，在綁扎滑動裝置14打開和閉合期間，凸起凸出部54支撐彈簧銷78。在這點上，當(dāng)綁扎滑動裝置14朝向打開位置移動時，由彈簧銷78接觸保持槽80而產(chǎn)生的拖拉力可以在銷78上形成剪切型的力。凸起凸出部54減少了當(dāng)綁扎滑動裝置14移動通過銷78時銷78將彈性形變或斷裂的可能性，因為其支撐銷78從表面40延伸出的距離。作為對比，沒有凸起凸出部54并且銷78的長度唇向從支撐表面40突出，銷78將更可能經(jīng)歷懸梁式或轉(zhuǎn)矩力，其當(dāng)滑動裝置14在任意方向上移動時，足以圍繞孔82的邊沿彎曲或斷裂銷78。在未決美國專利申請序列號No.12/127877(‘877申請)中更完整地公開了包括彈簧銷78和保持槽80的固定機構(gòu)，所述文獻的公開內(nèi)容在此全文引入作為參考。另外，‘877申請中公開的其它固定機構(gòu)還可以用于本文中公開的美觀正牙支架10。因而，固定機構(gòu)不局限于附圖所示和上述的彈簧銷/保持槽結(jié)構(gòu)。除了足以將綁扎滑動裝置14固定在至少閉合位置，固定結(jié)構(gòu)還可以作為保持機構(gòu)，以在使用期間，諸如當(dāng)綁扎滑動裝置14處于打開位置時，防止或減少綁扎滑動裝置14意外或非故意地與支架體12分離。為此，保持槽80的長度可以限制綁扎滑動裝置14相對于支架體12的齒齦－咬合行進。例如，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于完全打開位置時，彈簧銷78可以鄰接保持槽80的齒齦端116。由于齒齦端116閉合保持槽80，禁止了綁扎滑動裝置14在咬合方向上相對于支架體12的進一步移動，并且綁扎滑動裝置14不可能與支架體12分離或脫離。相似地，在綁扎滑動裝置14的完全閉合位置，彈簧銷78定位在保持槽80的咬合端112處的放大部分110中，這可以禁止綁扎滑動裝置14相對于支架體12在齒齦方向上的進一步移動。如下文更詳細(xì)討論的，正牙支架可以包括其它特征，代替固定機構(gòu)或作為除其之外，防止綁扎滑動裝置14相對于支架體12在齒齦方向上的移動。在這點上，僅使用彈簧銷78限制或停止綁扎滑動裝置14相對于支架體12的齒齦移動的設(shè)計，可能受到固定機構(gòu)的過早破壞的影響。在這些設(shè)計中，諸如在咀嚼期間施加在綁扎滑動裝置14上的所有力，經(jīng)由彈簧銷78傳送至支架體12。由于彈簧銷78和綁扎滑動裝置14之間的接觸區(qū)域較小，通過彈簧銷78傳送至支架體12的力可能足以剪切、開槽或以另外方式損壞彈簧銷78。因而，如下更完整描述的，可能需要使用綁扎滑動裝置14和支架體12之間的接觸區(qū)域增大的止動表面，以限制綁扎滑動裝置14的齒齦向移動。增大的接觸區(qū)域大體上將施加在綁扎滑動裝置14上的負(fù)荷散布在支架體12的更大區(qū)域上。這種結(jié)構(gòu)將防止或減少固定機構(gòu)過早破壞的風(fēng)險。在這點上，止動表面可以減少或防止彈簧銷78在保持槽80的咬合端112上降到最低點。另外，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時，止動表面限定的接觸區(qū)域大于沒有止動表面時彈簧銷78和保持槽80之間的表觀接觸區(qū)域。為此，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時，綁扎滑動裝置14的齒齦側(cè)72可以配置成嚙合支架體的第一接觸或止動表面。在這點上，如圖6和7所示，正牙支架10可以包括超越特征，其配置為形成在鄰接槽表面36的支架體12的唇側(cè)30中的切口120。切口120限定了凸緣122，其延伸在槽表面36上，并且配置成當(dāng)滑動裝置14處于閉合位置時嚙合或鄰接綁扎滑動裝置14的舌側(cè)94。提供了這種超越特征減弱了耦合綁扎滑動裝置14和支架體12時可接受公差，以當(dāng)處于閉合位置時覆蓋弓絲槽16。切口120還限定了齒齦壁124，當(dāng)處于閉合位置時懸垂在綁扎滑動裝置14的齒齦側(cè)72之上，如圖6所示。該懸垂防止或減少了口腔中的食物或其它材料接觸滑動裝置14的齒齦側(cè)72和無意地將滑動裝置14移向打開位置。切口120的齒齦壁124還可以提供第一接觸表面。在這點上，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時，滑動裝置14的齒齦側(cè)72可以配置成在彈簧銷78在保持槽80的咬合端112上降至最低點之前嚙合切口120的齒齦壁124。綁扎滑動裝置14的齒齦側(cè)72和支架體12的齒齦壁124之間的接觸增加了從其上將施加在綁扎滑動裝置14上的力傳送至支架體12的區(qū)域。而且，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時，可以將一部分保持槽80暴露至弓絲槽16，如圖6中所示。如圖中所示，正牙支架10可以包括工具容器126，其與用于移動綁扎滑動裝置14遠(yuǎn)離閉合位置和朝向打開位置的工具(未示出)協(xié)作。參考圖4、6和7，支架體12的唇側(cè)30包括工具容器126，其限定了齒齦壁128、近中壁130、遠(yuǎn)端壁132和唇壁134。然而，容器126沿著其咬合端打開，以使得可接觸至少一部分綁扎滑動裝置14。在美國專利申請序列號No.12/124854中更完整地公開了使用工具容器126的各種工具和方法，所述文獻的公開內(nèi)容在此全文引入作為參考。如這些圖中所示的，工具容器126和切口120的交叉點減少了綁扎滑動裝置14的齒齦側(cè)72和切口120的齒齦壁124之間的第一接觸表面的區(qū)域。例如，通過在支架體12中形成工具容器126，第一接觸表面可以是分別沿著近中壁130、遠(yuǎn)端壁132和唇壁134的咬合邊緣的條帶。正牙支架10還可以包括位于綁扎滑動裝置14和支架體12之間的第二接觸或止動表面，其限制或停止綁扎滑動裝置14相對于支架體12的齒齦向移動。第二接觸表面可以獨自或如上所述與第一接觸表面協(xié)同運作。在這點上，并且如圖6和7所示，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時，突鍵部件104的接觸表面106可以配置在彈簧銷78在保持槽80的咬合端112上降至最低點之前嚙合支架體12。更特別地，支架體12的咬合側(cè)22可以提供第二接觸表面。為此，突鍵部件104的接觸表面106包括第一嚙合部分136和第二嚙合部分138，分別嚙合支架體12的第一嚙合部分140和第二嚙合部分142。綁扎滑動裝置14的突鍵104部件和支架體12之間的接觸增加了從其上將施加在綁扎滑動裝置14上的力傳送至支架體12的區(qū)域。因而，可以減少固定機構(gòu)過早破壞的可能性。突鍵部件104和支架體12之間的關(guān)系可以具有其它優(yōu)點。例如，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時，突鍵部件104定位在支撐表面40的凹口60中，并且至少局部地填充鄰近支架體12的咬合側(cè)22的引導(dǎo)部件42、44之間的空間。使用突鍵部件104填充這種空間減少了牙斑和/或食物集結(jié)的部位。而且，如圖6和7所示，第二嚙合部分138、142可以與第一嚙合部分136、140成角度或成斜面。綁扎滑動裝置14上的斜面構(gòu)造允許增加滑動裝置14的部分的壁厚。例如，如圖6中所示，綁扎滑動裝置14在齒齦－咬合方向上的厚度t1和綁扎滑動裝置14在唇－舌方向上的厚度t2可以相對于更傳統(tǒng)的非斜面構(gòu)造而增加。增加的厚度向綁扎滑動裝置14提供了額外的強度和硬度。除了上述各個特征之外，正牙支架10可以包括許多其它結(jié)構(gòu)，其向支架和/或向在正牙治療期間支架的實施過程提供了有利之處。作為實例，一個特征是綁扎滑動裝置14相對于支架體12的位置，并且尤其是相對于弓絲槽16的位置。在這點上，常規(guī)自綁扎支架通常具有形成弓絲槽并且在其一側(cè)包住弓絲槽的支架體。隨后，由可移動閉合部件閉合弓絲槽未受限側(cè)。如果不是全部，將閉合部件的主要部分大體上定位在弓絲槽的唇側(cè)，并且結(jié)果支架體可鄙許包括在弓絲槽唇向延伸的結(jié)構(gòu)，以諸如在打開和閉合位置之間移動期間容納閉合部件。結(jié)果，自綁扎正牙支架的唇－舌寬度大體上相對較大。增加的唇－舌寬度不僅使得支架更顯而易見，而且因而美觀上更令人不悅，而且還可以降低患者的舒適度。此外，由于例如咀嚼力，相對較大的唇－舌寬度增加了連接故障的發(fā)生。為了解決常規(guī)自綁扎支架的這種缺點，設(shè)計正牙支架10以提供唇－舌寬度減少的自綁扎特征，因而改進了美觀和患者舒適度。在這點上，已經(jīng)綁扎滑動裝置14已經(jīng)在支架體12內(nèi)相對于常規(guī)自綁扎支架設(shè)計而舌向移動。因而，如圖8中所示，限定滑動嚙合軌道46(圖4)的支撐表面40不再是弓絲槽16的唇側(cè)，而是包括現(xiàn)在位于弓絲槽16的唇緣143的舌向的一部分。在一個實施例中，滑動嚙合軌道46在中間位置與槽表面38交叉，如圖8中所示(即，在基底面34和唇緣143之間)。然而，作為選擇，滑動嚙合軌道46可以借助中間壁(圖16中所示，并且將在下文描述)而相對于弓絲槽16局部閉合，但是仍然定位在弓絲槽16的唇緣143的舌向。在支架體12中舌向地移動滑動嚙合軌道46，在綁扎滑動裝置14中產(chǎn)生了大量設(shè)計，以適應(yīng)這種移動。如圖2和9中所示，綁扎滑動裝置14包括與支架體12相對的支架嚙合部分144，以及當(dāng)處于閉合位置時與弓絲槽16相對的槽覆蓋部分146。兩個部分之間的過渡區(qū)域發(fā)生在平坦表面74、76附近。參考圖9，除了停止缺乏齒齦側(cè)72的近中部分62和遠(yuǎn)端部分64形成平坦表面74、76(圖3和5)之外，槽覆蓋部分146的舌側(cè)94a在例如大體上唇向上與支架嚙合部分144的舌側(cè)94b偏離。以148所示的偏離提供了綁扎滑動裝置14沿著滑動嚙合軌道46的移動，其已經(jīng)在支架體12中舌向移動并且允許槽覆蓋部分146覆蓋弓絲槽16，以使得不干擾弓絲槽18，如果沒有偏離148，其可能會干擾弓絲槽18。而且，在槽覆蓋部分146的舌側(cè)和平坦表面74、76之間形成的拐角149不鋒利，而是彎曲或圓角的，以減少綁扎滑動裝置14在轉(zhuǎn)角149的應(yīng)力集中。作為實例，轉(zhuǎn)角149的曲率半徑可以大于約0.003英寸。在所示的特定實施例中，當(dāng)處于閉合位置時，綁扎滑動裝置14面對和大體上在唇向(例如，如圖6中所示的弓絲18的一側(cè))上限制弓絲18。另外，并且作為綁扎滑動裝置14在支架體12中舌向移動的結(jié)果，平坦表面74、76還與弓絲18相對，并且例如也可以通過形成槽表面38的一部分而限制弓絲18(例如圖8中所示的弓絲18的第二側(cè))。在這點上，平坦表面74、76可以配置成與槽表面38齊平，或者可以稍低于槽表面38(例如，與其在咬合方向上間隔開)。將平坦表面74、76定位稍低于槽表面38可以減少弓絲18和弓絲槽16之間的摩擦嚙合。在正牙支架10的支架體12中舌向移動綁扎滑動裝置14減少了支架10的唇－舌寬度。在該方向上寬度減小，通過使得支架不顯著而改進了美觀，提高了患者對支架的舒適度，并且還進一步減少了連接故障的發(fā)生。在另一方面，正牙支架10的功能和用途可以通過在墊32的連接基底33上包括附加特征而增強。在這點上，常規(guī)支架相對于與牙的連接過程具有許多缺點。例如，其對于用于將支架連接至牙的過多粘合劑以至于泄漏超出支架的連接基底的外周，并無非凡之處，因而需要監(jiān)視和清理。在一些支架設(shè)計中，支架未能在連接過程期間包含對相關(guān)區(qū)域的粘合，因而也需要監(jiān)視和清理。另外，在許多常規(guī)支架中，支架的連接基底可能未設(shè)計成相對易于從牙移除支架。在這點上，支架可能未包括與松解工具協(xié)作用于從牙移除支架的便利特征。而且，一些設(shè)計未能包括有助于支架和牙之間連接以在其間產(chǎn)生更可靠連接的任何特征。圖6、7和10示出了設(shè)計以解決常規(guī)支架的這些和其它缺點的正牙支架10的連接基底33。在一方面，連接基底33包括沿著連接基底33的周邊152的至少一部分的舌向延伸邊緣150。在一個實施例中，邊緣150大體上沿著連接基底33的整個周邊延伸。如圖6和7中所示，邊緣150限定了開口井或腔156的內(nèi)側(cè)壁154。當(dāng)支架10將連接至牙時，連接粘合劑適于設(shè)置在腔156內(nèi)。側(cè)壁154限制粘合劑，并且防止或減少粘合劑從連接基底33的周邊152漏出的可能性。因而，消除或減少清理粘合劑的時間、費用和令人不悅。除了在連接基底33的周邊152包含連接粘合劑之外，邊緣150的構(gòu)造可以提供其它優(yōu)點。例如，如圖11中所示，連接基底33的外側(cè)壁160和墊32的外側(cè)壁162(例如咬合、齒齦、近中和/或遠(yuǎn)端側(cè))之間的轉(zhuǎn)角158可以配置成有利于從牙上移除正牙支架10。在這點上，轉(zhuǎn)角158是輻射式的或者成斜面，以提沿著連接基底33的周邊152在牙和支架10之間形成小縫隙164。在一個實施例中，例如，轉(zhuǎn)角158是輻射式的，其曲率半徑在約0.005英寸和約0.010英寸之間。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將意識到，根據(jù)特地應(yīng)用，曲率半徑可以小于或大于該范圍?？p隙164不僅作為松解過程中的裂縫引發(fā)器，還提供了松解過程期間提供示意性由166指示的工具的支點。除上述之外，連接基底33上包括邊緣150還可以用于適應(yīng)從牙上松解支架10的松解強度。在這點上，特定邊緣幾何形狀可能以可預(yù)測方式影響連接強度，從而邊緣幾何形狀可以特定地配置成提供所需的松解強度。尤其，邊緣150的高度、邊緣150的厚度和/或內(nèi)側(cè)壁154的構(gòu)造(例如，光滑、波狀、開槽等)可以影響松解強度。另外，轉(zhuǎn)角158的構(gòu)造(例如曲率半徑)可以影響正牙醫(yī)師施加在工具上用于從牙移除支架10的力的大小。而且，連接基底33可以包括用于增強支架10和牙之間連接的附加特征。在這點上，并且如圖10中所示，連接基底33可以包括用于提高連接強度的多個栓或柱168。柱168增加了粘合劑和支架的接觸區(qū)域，并且由此增加連接強度。另外，柱168還配置成增加連接強度。例如，柱168在其外端可以是平坦或變形的，以創(chuàng)建底切(未示出)。粘合劑填充底切以從實質(zhì)上創(chuàng)建連接基底33和粘合劑之間的機械鎖定。在一個實施例中，柱168可以與連接基底33集成形成。例如，正牙支架10可以由陶瓷材料形成，如上討論的使用陶瓷噴射模塑法(CIM)過程。形成這種柱168的一種技術(shù)包括在CIM過程的綠色和棕色狀態(tài)期間激光成形連接基底33。在美國公開號No.2006/0163774和2006/0166159中更完整地公開了典型的激光成形技術(shù)，所述文獻在此全文公開作為參考。除了激光成形連接基底33以形成柱168之外，本領(lǐng)域技術(shù)人員將意識到用于形成柱168的其它技術(shù)。可以包括除了柱168之外或者作為其代替的其它特征，以增強經(jīng)由合適的粘合劑在支架10和牙之間的連接強度。這種特征可以包括在連接基底33中形成突起、凹進、底切等。例如，另一種技術(shù)包括基于連接基底33的球。球基使用連接基底上的單層小、大體上球形微粒，以有效地形成底切。如美國專利號No.5071344更完整公開地，所述文獻在此全文引入作為參考，通過例如沖刷或噴涂技術(shù)而將一層粘合劑施加至連接基底。其后，將小、大體上球形微粒(圖12中以虛線所示)噴灑在連接基底33上，或者將支架10填充一堆微粒，從而提供了相對濃厚的微粒單層。隨后在熔爐中加熱支架，以將微粒擴散結(jié)合至連接基底33。如圖12中所示，用于接收彈簧銷78的孔82通向連接基底33。如上所述，在組裝期間，彈簧銷78經(jīng)由開口插入孔82。制造工藝在將彈簧銷78插入孔82之前在連接基底33上大體上形成連接增強特征。因此，可能需要防止粘合劑或其它材料進入孔82，諸如球基技術(shù)中使用的微粒。在這點上，連接基底33可以包括圍繞孔82的開口的舌向延伸的邊緣170。例如，邊緣170可以沿著孔82的外周定位，或者與其徑向地具有相對小的間隔。邊緣170防止或者至少減少了粘合劑和/或微粒進入孔82的可能性，并且可能使得將彈簧銷78插入孔82成為問題。在另一方面，并且如圖13中所示，正牙支架10可以包括單一齒齦系翼172和兩個咬合系翼182，其有助于使用縛線、彈性帶或本領(lǐng)域中已知的其它連接部件而將支架耦合至其它鄰接正牙裝置。與更傳統(tǒng)的兩個系翼設(shè)計相比，可能更需要單一系翼172，因為其提供了食物和口腔中其它材料可以承載于其上的更少表面區(qū)域。結(jié)果，連接可靠性可以得以改善。系翼172可以在近中－遠(yuǎn)端方向上位于支架體12中央。結(jié)果，翼172的近中和遠(yuǎn)端側(cè)174、176可以具有斜面或圓齒構(gòu)造，并且因而以緩和光滑的方式傾斜。系翼172的這種成形增強了正牙支架10的舒適度。此外在這一點上，正牙支架的廠商不斷尋找對支架設(shè)計的改進，其對患者提供更好的舒適度。例如，許多常規(guī)正牙支架包括不規(guī)則或不連續(xù)的唇側(cè)。在一些情況下，這些不規(guī)則可以引起患者的不適感，因為例如軟的口腔組織重復(fù)地嚙合支架的唇表面。正牙支架10通過以光滑和持續(xù)方式配置支架10的表面，解決了這些缺點。因而，支架的相鄰側(cè)之間的邊緣或過渡區(qū)域的特征在于一個或多個彎曲各自具有大體上較大的曲率半徑。例如，大體上以178所示的唇側(cè)30以及近中和遠(yuǎn)端側(cè)26、28之間的過渡區(qū)域可以大體上是弓形的，并且曲率半徑在約0.015英寸和約0.025英寸之間。另外，唇側(cè)30和咬合側(cè)22之間的過渡區(qū)域180的曲率半徑也可以在上述提供的范圍內(nèi)。而且，通過使用其相對較大的曲率半徑，還可以使系翼172的邊緣光滑。支架的相鄰側(cè)之間的光滑過渡區(qū)域產(chǎn)生了對正牙支架10的舒適度的整體改進。如圖14中所示，另一特征包括配置正牙支架10使得綁扎滑動裝置14相對于弓絲槽16的基底面34成角度地沿著滑動嚙合軌道46移動。在這點上，嚙合軌道46大體上沿著過渡平面46a延伸，其相對于與基底面34相關(guān)的底平面34a呈銳角。這種角度特征公開在臼齒自綁扎支架的美國專利No.7267545中。在臼齒應(yīng)用中，角度特征有助于避免綁扎部件和周圍齒齦的接觸。如圖14中所示，正牙支架10中的滑動嚙合軌道46的角度特征提供了咬合系翼182(示出一個)的壁厚t3相對于更傳統(tǒng)平行嚙合構(gòu)造(以虛線184所示)的增加。因此，增加了咬合系翼182的強度。調(diào)節(jié)滑動裝置14的角度以實現(xiàn)系翼厚度的增加可以特別與高轉(zhuǎn)矩支架相關(guān)。而且，在高轉(zhuǎn)矩應(yīng)用中，滑動嚙合軌道46的角度特征還提供了系翼182下的間隔的增加。因而，各種連接部件(例如，縛線、O－環(huán)、動力鏈等)可以更牢固地耦合至支架10。在圖15中相同的附圖標(biāo)記指示與圖1－14中相同的特征，其示出了根據(jù)備選實施例的正牙支架210。正牙支架210類似于正牙支架10，而將僅詳細(xì)討論其區(qū)別。首先，如圖所示，還參考應(yīng)用于上頜牙的坐標(biāo)系配置和描述支架210。然而，如上所討論的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將意識到本發(fā)明不局限于此。在許多應(yīng)用中，需要包括具有牙科支架的吊鉤，用于耦合至相鄰正牙裝置。通常，吊鉤是獨立元件，其永久地固定在支架體上。作為選擇，吊鉤可以是輔助設(shè)備，其暫時或可釋放地耦合至支架體。例如，這可以通過使用形成在支架體中、在其中接收吊鉤的軸(未示出)的輔助槽(例如，垂直槽)而實現(xiàn)。如圖15中所示，在一個實施例中，正牙支架210可以包括大體上以212所示的吊鉤，其與支架體12集成形成。更特別地，在一個實施例中，吊鉤212可以包括桿214，其從系翼172上在大體上齒齦方向上延伸，并且終止于放大頭部216。組合系翼/吊鉤特征允許正牙支架210以更有效地方式保持兩者的能力，其消除了需要分離的部件或者形成于穿過支架體12的輔助槽。然而，本發(fā)明不局限于此，因為吊鉤212可以與支架體12集成形成在與系翼172(未示出)不同的位置，這取決于正牙醫(yī)師的特定應(yīng)用和/或需求。例如，吊鉤212可以與不具有系翼的支架體(例如臼齒支架)集成形成。圖16和17中相同的附圖標(biāo)記指示與圖1－14中相同的特征，其示出了根據(jù)備選實施例的正牙支架220。正牙支架220類似于正牙支架10，并且將僅詳細(xì)討論其區(qū)別。與支架10和210相同，也參考應(yīng)用于上頜牙的坐標(biāo)系配置和描述支架220。如上所述，僅使用銷78限制或停止綁扎滑動裝置14相對于支架體的齒齦向移動的支架設(shè)計，易于受到過早破壞的影響，因為施加在綁扎滑動裝置14上的大部分負(fù)荷將主要通過銷14傳遞至支架體12。由于銷78和綁扎滑動裝置14之間的接觸區(qū)域較小，這些負(fù)荷的幅度可能足以剪切、開槽或以其它方式損壞銷78、綁扎滑動裝置14和/或支架體12。通過增加綁扎滑動裝置14和支架體12之間的接觸區(qū)域，將所施加的負(fù)荷分散在更大的區(qū)域上。換句話說，所施加的負(fù)荷從滑動裝置14直接分配至支架體12，而不是經(jīng)由銷78分配至支架體12。如上參考正牙支架10所述，通過使得突鍵104接觸切口60，可以增加接觸區(qū)域。在其它實施例中，由附加或備選特征可以增加綁扎滑動裝置14和支架體12之間的接觸區(qū)域。例如，并且參考圖16和17中所示的典型實施例，正牙支架220包括與支架體12集成形成的中間壁222、224。如圖17中最佳所示，支撐表面40承載中間壁222、224，中間壁222、224定位成鄰近表面40的近中側(cè)26和遠(yuǎn)端側(cè)28上的引導(dǎo)部42、44。因而，大體上，中間壁222、224局部地封鎖鄰近弓絲槽16的滑動嚙合軌道46的近中和遠(yuǎn)端側(cè)。尤其，在所示實施例中，近中中間壁222從引導(dǎo)部42的第一支柱42a向遠(yuǎn)端突出，而遠(yuǎn)端中間壁224從引導(dǎo)部44的第一支柱44a向近中突出。因而，中間壁222、224在滑動嚙合軌道46中形成接觸或止動表面。止動表面與上述的止動表面相同，限制了綁扎滑動裝置14在齒齦方向上的移動，并且當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時(如圖16中所示)，增加了綁扎滑動裝置14和支架體12之間的接觸區(qū)域。尤其，各個中間壁222、224在滑動嚙合軌道46的近中側(cè)26和遠(yuǎn)端側(cè)28上形成了接觸表面或肩狀部226、228。如上所述，肩狀部226、228鄰接綁扎滑動裝置14的一部分。而且，這些接觸表面可以獨自起作用，或者與上述或下述的任意接觸表面協(xié)作，以將滑動裝置14上的負(fù)荷分散在支架體12上。而且，關(guān)于分散由弓絲施加的負(fù)荷并且參考圖17，中間壁222、224從支撐表面40延伸至各個引導(dǎo)部42、44的第二支柱42b、44b，或者換句話說，中間壁222、224形成了角撐板，其將弓絲施加在引導(dǎo)部42、44上的負(fù)荷分散到支架體12。特別地，角撐板減少了每個引導(dǎo)部42、44的耳狀部所承受的轉(zhuǎn)矩。這一構(gòu)造提高了各個引導(dǎo)部42、44的強度和剛性。雖然中間壁222、224示為在各個第二支柱42b、44b的整個近中－遠(yuǎn)端寬度上延伸，但是壁222、224不需要延伸引導(dǎo)部42、44的整個近中－遠(yuǎn)端寬度，并且仍然在滑動裝置14和支架體12之間傳遞負(fù)荷。例如，近中中間壁222可從近中引導(dǎo)部42的第一支柱42a上向遠(yuǎn)端突出的距離，小于引導(dǎo)部42的第二支柱42b的整個遠(yuǎn)端突出部。類似地，遠(yuǎn)端中間壁224突出的距離可以小于引導(dǎo)部44的第二支柱44b的整個近中－遠(yuǎn)端距離。在一個實施例中，如圖17中所示，中間壁222、224鄰近或形成弓絲槽16的一部分，并且更特別地形成槽表面38的一部分。然而，中間壁222、224可以設(shè)置在弓絲槽16的咬合向上。在這點上，中間壁222、224可以配置一與槽表面38齊平，或者與槽表面38在咬合向上間隔開。結(jié)果，并且如圖17中所示，中間壁222、224可以補充或替換支架10和210中的特征。例如，凸起凸出部54(例如，如圖4中所示)可以不存在。然而，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將觀察到，支架體12可以配置同時具有中間壁222、224和凸起凸出部54。該實施例中，即，沒有凸出部54，滑動嚙合軌道46可以包括單一凹槽230，而不是凸出部54分隔開的兩個凹槽56、58。那么，綁扎滑動裝置14可以具有對單一凹槽230的補充特征，如下所述。與沒有凸起凸出部54類似，同樣在上所述和圖4中所示的切口60也可以不存在。如圖4中所示，切口60在支架體12中形成止動表面。切口60與例如在圖5中所示的綁扎滑動裝置14上的突鍵部件104協(xié)作。然而，如圖17中所示，在支架體12包括中間壁222、224時，支架體12可以不具有切口60，因為中間壁222、224提供了至少部分止動表面。因此，綁扎滑動裝置14可以不包括突鍵104，如下文更完整所述。參考圖18，在一個實施例中，通過延長支架體12約0.010英寸(例如，由虛線或支架10的墊32’和支架220的墊32之間的距離所示)并且與支架10的支架體12的咬合側(cè)22’相比在咬合側(cè)22上提供錐形側(cè)230、232，孔82可以移離弓絲槽16。尤其，支架220的孔82可以從弓絲槽16在咬合向上移離。圖1的支架10的相關(guān)孔標(biāo)注為82’。類似地，支架10和支架220的咬合側(cè)的相對位置通過分別比較咬合側(cè)22’和22而示出。另外，當(dāng)不存在切口60時，支架體12具有單一咬合系翼234，而不是由切口60間隔開的近中和遠(yuǎn)端咬合系翼182。單一咬合系翼234可以延伸接近支架體12的完整寬度。該構(gòu)造可能易于將連接部件(未示出)連接在其中，可能增加支架體12的強度以及減少牙斑和/或食物可集結(jié)的位置。與圖1和2中所示的綁扎滑動裝置14類似，圖16、17和19中所示的綁扎滑動裝置14包括近中和遠(yuǎn)端部分62、64，其不延伸綁扎滑動裝置14的整個齒齦－咬合范圍。然而，參考圖19，近中部分62和遠(yuǎn)端部分64限定了肩狀部236、238，其配置成在彈簧銷78在保持槽80的咬合端112上降至最低點之前嚙合支架體12。特別地，當(dāng)綁扎滑動裝置14移動至閉合位置時，近中部分62和遠(yuǎn)端部分64的肩狀部236、238鄰接中間壁222、224的一部分，諸如肩狀部226、228。為此，近中部分62和遠(yuǎn)端部分64的肩狀部236、238或接觸表面包括遠(yuǎn)端嚙合部分240和近中嚙合部分242，其分別嚙合支架體12的部分，并且尤其嚙合壁222、224的部分，例如肩狀部226、228。如上所述并且參考圖17，綁扎滑動裝置14的嚙合部分和支架體12的嚙合部分之間的表面接觸增加了支架體12和滑動裝置14之間的接觸區(qū)域，由此將更多的負(fù)荷直接分散在滑動裝置14和支架12之間。而且，雖然近中部分62或遠(yuǎn)端部分64的部分可能均未延伸超過中間壁222、224或者形成槽表面38的一部分(如圖16所示)，近中部分62和遠(yuǎn)端部分64中之一或兩者的一部分可以鄰接或形成槽表面48的一部分，類似于上述和圖2、5中所示的平坦表面74、76。例如，局部平坦表面(未示出)可以存在于中間壁222、224沿著引導(dǎo)部42、44的近中－遠(yuǎn)端范圍的僅一部分延伸之處。該構(gòu)造相當(dāng)于具有肩狀部234、236和平坦表面74、76(圖5中所示)的綁扎滑動裝置的組合。參考圖19和19A中所示的綁扎滑動裝置14，綁扎滑動裝置14具有大體上平面的舌側(cè)94b，其可滑動地與上述的單一凹槽230協(xié)作。具體地，當(dāng)不存在凸出凸出部54時，綁扎滑動裝置14不包括例如圖5中所示的腔96。換句話說，保持槽80可以直接形成在舌側(cè)94a、94b中，而不是形成在腔96中。另外，并且參考圖18、19和19A，當(dāng)如上所述將孔82移動更靠近支架體12的咬合側(cè)22時，保持槽80同樣可以形成更靠近綁扎滑動裝置14的咬合側(cè)。有利地是，并不將保持槽80形成在槽覆蓋部分146，如圖6中所示，而是將保持槽80完全形成在支架嚙合部分144中。在一個實施例中，保持槽80的齒齦端116定位在轉(zhuǎn)角149的咬合方向。因此，沿著大體上在舌－唇方向上定向通過槽覆蓋部分146的平面獲得的近中－遠(yuǎn)端橫截面與保持槽80不相交。由于滑動裝置14的該部分中的材料的增益，定位保持槽遠(yuǎn)離槽覆蓋部分146可以提高滑動裝置14的負(fù)荷承載能力或剛性。而且，將保持槽80移動到支架嚙合部分144具有其它優(yōu)點。例如，參考圖20，在這點上，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時，保持槽80未暴露至弓絲槽16。進一步關(guān)于圖19和19A中所示的典型綁扎滑動裝置14，在綁扎滑動裝置14的中央部分66中形成中央平坦表面244。例如，分別如圖4、5中所示，不存在凸出凸出部54和腔96時，中央平坦表面244可以包括朝向齒齦向并且可以形成在轉(zhuǎn)角149和舌側(cè)94b之間的表面。參考圖20，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時，中央平坦表面244可以鄰近或形成弓絲槽16的一部分，并且尤其形成槽表面38的一部分。在另一典型實施例中，并且參考圖21和22，其中相同的附圖標(biāo)記指示與圖1－14中相同的特征，正牙支架250包括支架體12，其具有連接相對耳狀部或引導(dǎo)部42、44的橋狀部252。與支架10、210和220相同，還參考應(yīng)用于上頜牙的坐標(biāo)系配置和描述支架250。如圖22中最佳所示，在一個實施例中，橋狀部252連接相對的引導(dǎo)部42、44，從而支撐表面40、引導(dǎo)部42、44和橋狀部252共同地限定了D－形嚙合軌道254，用于支撐和在打開和閉合位置之間引導(dǎo)綁扎滑動裝置14。一般地，通過在滑動嚙合軌道46唇向的支架體12的相對近中和遠(yuǎn)端部分之間延伸，可以提高支架體12的剛性和/或強度。而且，橋狀部252可以圍繞或封裝滑動裝置14的支架嚙合部分144的至少一部分，并且可以因此使綁扎滑動裝置14的該側(cè)(即唇側(cè)108)的一部分與頰粘膜分離。不僅支架嚙合部分144的舌側(cè)108與頰粘膜表面分離，槽嚙合部分146的舌側(cè)108也與頰粘膜分離。例如，并且參考圖23，當(dāng)滑動裝置14處于閉合位置，滑動嚙合部分146的唇側(cè)108可以定位在支架體12的唇側(cè)30的舌向上(例如，更接近墊32)。兩側(cè)(30和108)之間的相對位置差形成了懸垂256。懸垂256還可以防止或減少槽覆蓋部分146的唇側(cè)108和頰粘膜或?qū)②呄蛴趯Ⅱ?qū)動綁扎滑動裝置14朝向打開位置的食物之間的接觸。例如，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時(如圖21和23中所示)，趨向于牽拉弓絲槽16中的弓絲(未示出)的負(fù)荷，諸如牙齒移動所必須的正常矯正負(fù)荷，向外推動支架嚙合部分144的一部分，在此處其被橋狀部252抓握。由于橋狀部252在引導(dǎo)部42、44之間延伸，其將負(fù)荷從綁扎滑動裝置14直接分散至支架體12。參考圖22、23、24和24A，在一個實施例中，綁扎滑動裝置14具有大體上D－形橫截面或者配置成可滑動地嚙合由橋狀部252、引導(dǎo)部42、44和支撐表面40限定的嚙合軌道254的另一橫截面。支架嚙合部分144的舌側(cè)94b大體上是平面的，并且配置成可滑動地與支撐表面40協(xié)作。通過轉(zhuǎn)角149，槽覆蓋部分146的舌側(cè)94a與舌側(cè)94b偏移。轉(zhuǎn)角149延伸綁扎滑動裝置14的近中－遠(yuǎn)端寬度，并且因而可以形成邊緣或平坦表面256，類似中央平坦表面240。然而，平坦表面256延伸綁扎滑動裝置14的近中－遠(yuǎn)端寬度。而且，平坦表面256可以鄰近或形成弓絲槽16的一部分，并且更特別地，形成槽表面38的一部分。由于具有關(guān)于支架220所述的綁扎滑動裝置14，保持槽80的齒齦端116可以完全形成在支架嚙合部分144中。例如，槽80的齒齦端116可以形成在槽覆蓋部分146的咬合向上?；蛘?，在另一實例中，如圖24A中所示的槽80的齒齦端116可以形成在轉(zhuǎn)角149的咬合向。因此，沿著大體上在舌－唇方向上定向通過槽覆蓋部分146的平面獲得的近中－遠(yuǎn)端橫截面與保持槽80不相交。如上所述，當(dāng)保持槽80完全形成在支架嚙合部分144中時，滑動裝置14可以展現(xiàn)提高的強度。而且，當(dāng)綁扎滑動裝置14處于閉合位置時(如圖23中所示)，槽80可以不暴露至弓絲槽16。因而，進入弓絲槽16的任何食物或其它碎片將存在保持槽80中，其將可能阻礙滑動裝置14移動至打開位置。一般地參考圖1－22中所示的任何正牙支架，但是特別參考正牙支架10，正牙支架12包括多晶陶瓷，例如氧化鋁或鋁氧化物(Al2O3)。并且，在另一實施例中，支架體12和綁扎滑動裝置14包括多晶陶瓷。包括多晶陶瓷的支架體12以及任選地綁扎滑動裝置14，當(dāng)承載張力和彎曲應(yīng)力時，更易于抵抗斷裂，所述應(yīng)力諸如由與弓絲18嚙合產(chǎn)生的或者在正牙治療期間常常發(fā)生的。作為實例但不局限于，圖1－22所示的正牙支架可以由本文所述的多晶陶瓷形成。將意識到，雖然本文示出和描述的自綁扎支架，但是本發(fā)明的實施例不局限于自綁扎支架。如本領(lǐng)域中已知的是，陶瓷支架易碎，并且在正牙治療期間過于常常出現(xiàn)故障。當(dāng)然，支架故障是有問題的。例如，斷裂的支架致使牙齒移動無效。更令人煩惱的問題是，如果當(dāng)支架在患者嘴中時發(fā)生斷裂，可能咽下或呼吸入支架碎片。正如下文結(jié)合實例更完整描述的是，本發(fā)明已經(jīng)發(fā)現(xiàn)部分地平均粒度范圍大于3.4μm至約6μm的粒度分布的多晶陶瓷，具有料想不到的高斷裂韌度。例如，平均粒度范圍大于3.4μm至約6μm的多晶陶瓷，平均斷裂韌度至少約3.85MPa·m1/2，并且在又一實例中，平均粒度在約4μm至約4.3μm的多晶陶瓷，其平均斷裂韌度超過約5.0MPa·m1/2。比較而言，平均粒度43μm的多晶氧化鋁的平均斷裂韌度約3.28MPa·m1/2。例如并且參考圖1，包括本文所述的多晶陶瓷的正牙支架10有利地減少了患者攝入和呼吸入部分?jǐn)嗔阎Ъ艿娘L(fēng)險，并且即使要進行支架替換，患者忍耐地較少。全面地，包括多晶陶瓷的正牙支架10允許更快速地進行正牙治療。另外，正牙支架10是半透明的，從而在治療期間患者不太有自我意識。在一個實施例中，通過噴射模塑陶瓷粉末和粘合劑混合物以形成支架體，而制造正牙支架10。隨后，通過將噴射模塑支架體加熱至例如200℃和700℃之間的溫度，可以從噴射模塑支架體移除粘合劑。在移除粘合劑之后，隨后噴射模塑支架體可以預(yù)燒結(jié)，隨后燒結(jié)。作為實例，陶瓷粉末可以是氧化鋁粉末。可以以900℃和1200℃之間的溫度將高純度氧化鋁粉末(約99.95wt.％氧化鋁)預(yù)燒結(jié)，隨后以1400℃和1800℃之間的溫度燒結(jié)。在其它實施例中，預(yù)燒結(jié)噴射模塑支架體可以進行熱均衡受壓(HIPed)。例如，氧化鋁的預(yù)燒結(jié)噴射模塑支架體可以進行熱均衡受壓，其溫度在1300℃和1600℃之間，施加的壓力約68至約207MPa。在其它實施例中，在燒結(jié)或HIP之后，支架體12進行退火，即加熱至一定溫度并保持一定時間，足以進一步改變粒度分布。對氧化鋁，可以在約1300℃或更高的溫度進行對粒度分布的修改。然而，比1300℃更高或更低的溫度可以根據(jù)支架體保持在特定溫度的時間而修改粒度分布。作為實例，支架體可以保持在約1300℃約1小時。另外，支架體12可以在各種氣體環(huán)境中加熱，包括例如氫氣(H2)、氮氣(N2)、氧氣(O2)或氬氣(Ar)。為了評估陶瓷材料的性能，使用三點彎曲機構(gòu)測量材料的撓曲強度。三點彎曲測試的實例大體上是長方形桿的形式。在三點彎曲機構(gòu)中，該材料的桿支撐在沿著桿長度的兩個位置上的一側(cè)。每個支撐位置鄰近桿的一端。相對支撐裝置的距離稱為支撐跨距。在與支撐裝置之間相對并且在其中央的表面上的桿施加負(fù)荷。負(fù)荷逐漸增加，直到桿斷裂。該設(shè)置(即，兩個支撐裝置位于一側(cè)上，而施加在支撐裝置上的負(fù)荷位于另一側(cè)上)在桿的一面上產(chǎn)生張應(yīng)力?？梢愿鶕?jù)已知公式，基于桿的尺寸和斷裂時的負(fù)荷，計算撓曲強度：其中σ是撓曲強度，P是斷裂時的負(fù)荷，S是支撐跨距，w是桿寬度，而t是桿厚度。發(fā)明者已經(jīng)注意到，存在許多變量影響材料樣本的撓曲強度。例如，制造、制造或處理測試樣本或其組合的方法可以相當(dāng)?shù)赜绊憮锨鷱姸?，因為每一個都在樣本表面中形成裂紋。已知表面裂紋(例如，微裂紋、孔隙、表面損傷、異常顆粒或另一局部微結(jié)構(gòu)不均勻性或者外來夾雜物等)集中或放大應(yīng)力。應(yīng)力放大發(fā)生在每個裂紋尖端處。同樣地，每個裂紋尖端的局部張應(yīng)力大于所施加的張力負(fù)荷。當(dāng)聚集在一個裂紋尖端的應(yīng)力超過材料的理論強度，從裂紋發(fā)生的裂縫將快速傳播通過材料。因而，撓曲強度測量固然受樣本的表面狀況的影響。例如，發(fā)明者測量了平均粒度4.5μm的多晶氧化鋁在不同裂縫尺寸下的撓曲強度，其人為地引入金剛石壓痕計。多晶氧化鋁的撓曲強隊對增加裂縫尺寸的靈敏度示出在圖5中。另外，撓曲強度數(shù)據(jù)還可以受到大量其它因素中任一個的影響，包括例如樣本結(jié)構(gòu)、所執(zhí)行測試的數(shù)量，以及與樣本中應(yīng)力狀態(tài)相比實際支架中的應(yīng)力狀態(tài)等?？傊?，撓曲強度數(shù)據(jù)并非必須提供陶瓷正牙支架在臨床環(huán)境中性能的準(zhǔn)確預(yù)測。意識到上述撓曲強度測量的不可靠行，還確定本文所述的多晶陶瓷的斷裂韌度。斷裂韌度是材料屬性，其指示包含表面裂紋(例如，在有槽口的樣本中的槽口)的材料將如何響應(yīng)張應(yīng)力，并且尤其材料塊如何抵抗裂縫從表面裂紋延伸。因而，與上述的撓曲強度測量不同，斷裂韌度測量是測量當(dāng)發(fā)生表面瑕疵時大塊材料將如何響應(yīng)應(yīng)力?？紤]影響斷裂的已知因素，斷裂韌度測量提供了對多晶陶瓷支架在臨床環(huán)境中性能的更準(zhǔn)確預(yù)測。斷裂韌度可以由至少兩種方法確定。使用用于撓曲強度測量的三點彎曲機構(gòu)，可以根據(jù)從破壞包含裂紋或具有受控或已知尺寸裂縫的材料制成的桿而獲得的斷裂時的負(fù)荷，而計算斷裂韌度?？梢愿鶕?jù)以下等式從斷裂時的負(fù)荷計算斷裂韌度：其中KIC是樣本在定向垂直裂紋的張應(yīng)力下的斷裂韌度，P是斷裂時的負(fù)荷，S是支撐跨距，w是桿寬度，t是桿厚度，以及其中a是三次裂縫長度測量的平均，a1、a2和a3是已知裂紋的深度。根據(jù)另一方法，可以從維氏硬度測量計算斷裂韌度。在該情況下，可以根據(jù)下列等式計算斷裂韌度，其中Kc是斷裂韌度，P是壓力負(fù)荷，E是模量，HV是測得的維氏硬度，而c是維氏硬度壓痕計產(chǎn)生的裂縫長度平均值的一半。在一個實施例中，多晶陶瓷的所述粒度分布部分地平均粒度范圍大于3.4μm至約6μm。根據(jù)樣線截取法可以確定平均粒度。根據(jù)該方法，在材料的拋光橫截面的顯微圖上繪制已知長度的線。統(tǒng)計所繪制的線與每個顆粒的邊界的交叉數(shù)。顆粒長度的平均長度通過將線長度分成所統(tǒng)計的交叉數(shù)而確定。根據(jù)等式D＝1.56(L)計算平均粒度，其中L是顆粒的平均長度。不意于受到理論的束縛，多晶陶瓷對裂縫傳播的抵抗力，即其斷裂韌度，可能受到其微結(jié)構(gòu)的影響，但是多晶微結(jié)構(gòu)對裂縫傳播的影響不能完全可預(yù)測。與例如藍寶石的單晶陶瓷或例如玻璃的各向同性材料制成的支架體不同，多晶陶瓷的斷裂韌度可以取決于大量因素，包括例如粒度、粒度分布、密度和在單晶或玻璃中不存在的其它因素。尤其，顆粒邊界的存在可能影響裂縫傳播方向和/或裂縫傳播的模式。方向的改變和/或模式的改變所消耗的能量可能相當(dāng)大于沿著筆直路徑傳播裂縫所需的能量。在多晶陶瓷中裂縫傳播的模式是在晶粒間的或者是晶內(nèi)的或兩者。晶粒間的裂縫傳播沿著顆粒邊界(即，在顆粒之間)，而晶內(nèi)裂縫傳播通過顆粒。因此，當(dāng)正傳播的裂縫遇到顆粒邊界或顆粒，可能迫使裂縫改變方向，改變其傳播模式(即，從晶粒間至晶內(nèi)或者反之亦然)或者既改變方向又改變傳播模式。通過迫使形成方向和/或裂縫傳播模式的改變，裂縫通路的長度增加，這消耗了更多能量，并且因此斷裂韌度可能增加。在本發(fā)明一個實施例中，具有由平均粒度范圍大于3.4μm至約6μm所描述的粒度分布的多晶陶瓷，可以迫使裂縫沿著相對于現(xiàn)有技術(shù)的多晶陶瓷而言更長的路徑行進。因而，如本文所述，可能需要更大的應(yīng)力以傳播裂縫通過多晶陶瓷，從而多晶陶瓷制成的正牙支架特征在于意料不到的斷裂抵抗性。在另一實施例中，組合具有平均粒度的大小顆粒的混合物可能進一步延長了通過多經(jīng)陶瓷的裂縫路徑，并且還提高了多晶陶瓷的斷裂韌度。作為實例，具有由平均粒度范圍大于3.4μm至約6μm所描述的粒度分布的多晶陶瓷還可能具有尺寸大于6μm的顆粒和尺寸小于3.4μm的顆粒。在一個實施例中，借助并非對數(shù)正態(tài)分布的粒度分布，可以獲得多晶陶瓷的斷裂韌度的進一步提高。作為定義，對數(shù)正態(tài)分布特征在于隨機變量，其對數(shù)圍繞平均值正態(tài)分布。作為實例，根據(jù)一個實施例的粒度分布是多峰分布。尤其，粒度分布可以是雙峰分布。在一個實施例中，雙峰分布具有粒度在約1μm和約5μm之間的第一峰或模式以及粒度大于約5μm的第二峰或模式。作為實例，第二峰可以在約5.5μm和約7μm之間。然而，將意識到，第二峰或附加峰可以發(fā)生在大于7μm的粒度。還將意識到，雙峰粒度分布并不是描述雙微結(jié)構(gòu)。在一個實施例中，平均粒度范圍大于3.4μm至約6μm以及至少雙峰粒度峰部的多晶陶瓷的平均斷裂韌度大于4.0MPa·m1/2。另外，發(fā)明者已經(jīng)確定，特征在于具有小于約3μm的顆粒和較大顆粒之間的特定比例的粒度分布，可能進一步增強了對裂縫傳播的抵抗性。作為實例，多晶陶瓷的粒度分布中，尺寸小于約3μm的顆粒數(shù)量高達約50％。作為又一實例，多晶陶瓷的粒度分布中，尺寸小于3μm的顆粒數(shù)量至少10％，從而在一個實施例中，例如尺寸小于3μm的顆粒數(shù)量在顆?？倲?shù)量的約10％和約50％之間。在又一實例中，多晶陶瓷特征在于其粒度分布中，尺寸小于約10μm的顆粒總數(shù)量高達90％。在另一實例中，尺寸小于約10μm的顆?？倲?shù)量至少70％。因而，在一個實施例中，尺寸小于約10μm的顆?？倲?shù)量在顆?？倲?shù)量的約70％和約90％之間。根據(jù)一個實施例，在體積分?jǐn)?shù)方面，多晶陶瓷特征在于其粒度分布中，尺寸大于10μm的顆?？赡苷剂丝傮w積高達50％。作為實例，在一個實施例中，尺寸大于10μm的顆粒占了總體積的至少10％，并且在另一實例中，尺寸大于10μm的顆?？赡苷伎傮w積的約10％至高達50％。大于10μm的顆粒的體積分?jǐn)?shù)，可以通過確定特定尺寸范圍的顆粒的體積、將該體積乘以該尺寸范圍內(nèi)的顆?？倲?shù)，并且隨后除以所有顆粒的總體積而計算獲得。關(guān)于大于10μm的顆粒所占的體積分?jǐn)?shù)，發(fā)明者認(rèn)為，由于上述的體積分?jǐn)?shù)比例，通過包括多晶陶瓷的正牙支架的實施例的裂縫傳播可以是混合模式。即，如果裂縫傳播進入多晶陶瓷，隨著其進行通過多晶陶瓷，根據(jù)其遇到顆粒的尺寸，多晶陶瓷可以迫使裂縫改變其傳播模式一次或多次。例如，存在尺寸小于10μm的顆?？梢源龠M晶粒間裂縫傳播。然而，尺寸10μm或更大的顆粒可以迫使裂縫改變成晶內(nèi)傳播。因而，如上所述，顆粒尺寸的混合可以迫使裂縫在模式之間改變，并且因而還可以延長傳播路徑。因此，所述的顆粒的體積分?jǐn)?shù)可以增加多晶陶瓷的斷裂韌度。如前所述，正牙支架10美觀上令人愉悅，并且在這點上是半透明的。正如本領(lǐng)域中已知的，例如氧化鋁的多晶陶瓷的透明度受其微結(jié)構(gòu)的影響。例如，粒度分布、任何孔隙的量和位置以及起始粉末的純度，可以影響正牙支架10的透明度以及透射光的顏色。一般地，隨著密度、粒度以及多晶陶瓷的純度增加，透明度增加。因而，100％密度、高純度和大平均粒度的多晶陶瓷正牙支架將允許更多的光通過，從而正牙支架10摻入下層牙的顏色。通過測量透射通過多晶陶瓷的特定波長的光量，可以量化透明度。在本發(fā)明一個實施例中，將預(yù)期，包括平均粒度約3.5μm或更大的多晶氧化鋁的正牙支架10，其透光率大于45％但是小于85％。實例為了有助于更完整地理解本發(fā)明的實施例，提供了下列非限制性實例。從日本東京的TosohCorporation購買尺寸為約25.4mm×約38.1mm×約1mm的兩批不同的(標(biāo)注為批#1和批#2)多晶氧化鋁樣品。通過將批#1樣品切割成所需尺寸，以接近支架體的厚度和寬度的薄板形式用批#1準(zhǔn)備24個樣本。類似地，通過將批#2樣品切割成所需尺寸，用批#2準(zhǔn)備8個樣本。由批#1和批#2樣品切割的每個樣本，厚度約1.00±0.1mm，寬度約3.00±0.01mm，而長度約12.00±0.01mm。將批#1樣本分成三組，標(biāo)注為批#1A、批#1B和批#1C。批#1A和批#2的樣本不經(jīng)受進一步熱處理。圖26A和26B中分別示出了批#1A和批#2樣本的典型顯微圖。批#1B樣本還進一步在氬氣中進行熱處理至約1400℃的溫度，并且維持在該溫度約1小時，以改變粒度分布。在圖26C中示出批#1B樣本的典型顯微圖。批#1C樣本還進一步在氬氣中進行熱處理至約1800℃的溫度，并且維持在該溫度約1小時，以改變粒度分布。在圖26D中示出批#1C樣本的典型顯微圖。拋光各組的四個樣本進行撓曲強度測試，并且機械加工另四個以在其中形成跨越寬度的槽口，用于斷裂韌度測試。槽口設(shè)計以模擬正牙支架中弓絲槽的幾何形狀，諸如圖1中所示的正牙支架10的弓絲槽16。每個槽口的尺寸的寬度小于0.57mm，并且深度在約0.050mm和約0.100mm之間。機械加工在槽的底部沿著相對的邊緣形成0.08mm半徑。通過使用240/320目金剛石砂輪對樣本進行機械加工，形成槽口。如上所述，使用三點彎曲機構(gòu)破壞每組中的已開槽和已拋光樣本。支撐跨距測得約9mm。以每分鐘約1mm的速率向每個樣本施加負(fù)荷，直到樣本斷裂。使用斷裂時的負(fù)荷計算已開槽和未開槽或已拋光樣本的撓曲強度，并且根據(jù)斷裂時的負(fù)荷計算已開槽樣本的斷裂韌度。為了計算斷裂韌度，假設(shè)測得的凹槽深度(測得從約0.050mm至約0.100mm)時裂縫長度或a，并且與斷裂時的三點彎曲負(fù)荷或P一同用于根據(jù)上述等式計算KIC。表1提供了每組的已計算得的平均值。表1如上所述，表1還提供了每組樣本的平均粒度。為了測量粒度，通過本領(lǐng)域中已知的標(biāo)準(zhǔn)拋光和蝕刻技術(shù)準(zhǔn)備樣本。每個樣本以約110×至約440×的放大率獲取5個典型顯微圖。對每條線和顆粒邊界的交叉計數(shù)。將每條線的長度分成顆粒邊界交叉的數(shù)量，并且對該放大進行調(diào)整，以獲得每條線的顆粒平均長度。根據(jù)上述的樣線截取法，通過將顆粒的平均長度乘以1.56，計算每條線的粒度。依次平均化每條線的粒度，以提供每組的平均粒度，其提供在表1中。表中提供的標(biāo)準(zhǔn)偏差表示一個標(biāo)準(zhǔn)偏差。參考表1，雖然預(yù)期隨著平均粒度減少，平均斷裂韌度和平均撓曲強度均增加，但是觀察到斷裂韌度在近似3.4μm或以下的平均粒度，下降相當(dāng)大。在約4.5μm以及在斷裂韌度開始下降的一些尺寸，觀察到最大斷裂韌度。換句話說，認(rèn)為在3.4μm以上以及在約6μm處或以下之處，并且最可能在約3.5μm至約5μm的范圍內(nèi)，平均斷裂韌度到達最高點。例如，批#1B中的樣本(平均粒度4.5μm)的平均斷裂韌度超過4.0MPa·m1/2，與其相比，批#1A(平均粒度3.4μm)和批#1C中的樣本(平均粒度43.0μm)的平均斷裂韌度分別大約是2.9MPa·m1/2和3.3MPa·m1/2。即，批#1B樣本示出了大于批#1C樣本約30％的平均斷裂韌度的增加。使用每個ASTME1348－02的漫射可見光測量批#1A和批#1B(平均粒度分別3.4μm和4.5μm)的每一個中的一個樣本的透光率。使用10°獲得的D56漫射光在BYK－Gardner、TCSPlus、Model8870測量透光率。樣本是直徑20mm的圓盤。通過研磨圓盤的相對側(cè)以獲得1mm的厚度，而準(zhǔn)備圓盤，并且隨后使用600目砂紙、隨后使用3微米金剛石研膏、以及1微米金剛石研膏拋光圓盤的底側(cè)，直到以200×放大率在已拋光表面上不可見任何劃痕。批#1A的樣本(平均粒度3.4μm)具有45％的透光率，而批#1C的樣本(平均粒度43.0μm)具有高于50％的透光率。為了參考目的，使用漫射可見光通過單晶氧化鋁的透光率是85％。另外，從日本東京的TosohCorporation獲得來自兩個不同模子(模子A和模子C)的多晶氧化鋁的支架體。來自兩個模子的支架體是自綁扎支架設(shè)計。下文參考表2，來自模子A和模子C的每一個的5個支架的硬度和平均粒度在表2中標(biāo)注為模子A(*)和模子C(*)。在圖27A中示出了如已接收的模子C(*)微結(jié)構(gòu)(即，如已接收的支架)的典型顯微圖。模子C的其余支架分成3組，每組經(jīng)受附加熱處理以修改它們的微結(jié)構(gòu)，如下所述。模子C的五個支架在氬氣(Ar)中在約1300℃的溫度經(jīng)受附加熱處理約1小時。該組支架在表2中標(biāo)注為模子C(Ar)。在圖27B中示出模子C(Ar)微結(jié)構(gòu)的典型顯微圖。五個支架還在氫氣(H2)中在約1300℃的溫度進一步熱處理約1小時。該組支架在表2中標(biāo)注為模子C(H2)。在圖27C中示出模子C(H2)微結(jié)構(gòu)的典型顯微圖。五個支架還在氧氣(O2)中在約1300℃的溫度進一步熱處理約1小時。該組支架在表2中標(biāo)注為模子C(O2)。在圖27D中示出模子C(O2)微結(jié)構(gòu)的典型顯微圖。根據(jù)上述程序測量每組的每個支架的硬度和平均粒度。根據(jù)上述等式基于維氏硬度測量計算平均斷裂韌度。表2列出了通過上述熱處理而分離的所有模子A和模子C支架的平均維氏硬度、平均斷裂韌度和平均粒度。平均斷裂韌度和平均粒度的每一個的偏差示出了一個標(biāo)準(zhǔn)偏差。表2如表2中所示，支架的平均斷裂韌度與表1中的多晶氧化鋁樣本中所示，具有相似的趨勢，其中在約4.0μm和約4.3μm之間的平均粒度觀察到最高硬度和斷裂韌度。作為實例，根據(jù)硬度方法計算的平均斷裂韌度，在約4.0μm(模子C(O2))的平均粒度達到近似5.6MPa·m1/2的平均值。另外，并且參考圖27A－27D，多晶陶瓷的微結(jié)構(gòu)是非常小的顆粒和大顆粒的混合物。使用粒度模塊，從賓夕法尼亞州森特瓦利的奧林巴斯美國有限公司可獲得的分析軟件，測量圖27A－27D的每個微結(jié)構(gòu)的粒度分布。使用分析軟件測得的圖27A－27D中所述的微結(jié)構(gòu)的粒度分布，分別示出在圖28A－28D的圖中。如圖28A－28D所示，粒度分布包括尺寸小于3.4μm的顆粒和大于6μm的顆粒。例如，圖28A示出了平均粒度約3.5并且顆粒總數(shù)的31％小于約3μm的粒度分布，并且在又一實例中，圖28B示出的粒度分布具有約3.6μm的平均粒度，并且小于3μm的顆粒總數(shù)約39％。特別參考圖28B，已經(jīng)提供了兩條曲線以更清楚地示出雙峰粒度分布。這些模式中的一種位于約3.4μm。另一或第二模式位于約6.0μm。圖29和30是示出分別基于圖27B和27C所示的粒度分布而進行的計算的顆粒的體積分?jǐn)?shù)。參考圖29，作為實例，尺寸大于10μm的顆粒占顆?？傮w積的約37％。參考圖30，作為另一實例，尺寸大于10μm的顆粒占總體積的約50％。雖然通過描述各個優(yōu)選實施例已經(jīng)描述了本發(fā)明，而且雖然已經(jīng)相當(dāng)詳細(xì)地描述了這些實施例，但是發(fā)明者的目的并不是將隨附權(quán)利要求限制或以任何方式限制于這種細(xì)節(jié)。因而，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，其它優(yōu)點和修改方式將易于顯現(xiàn)。可以根據(jù)用戶的需求和喜好，單獨或以任意組合使用本發(fā)明的各種特征。