專利名稱：空隙式穩(wěn)定咬合板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種口腔醫(yī)療中使用的穩(wěn)定咬合板，適用于顳下頜關(guān)節(jié)紊亂病和磨牙癥等疾病的治療，特別是一種在一次壓膜的同時(shí)完成咬合面成形、整個(gè)咬合面由均質(zhì)性樹脂膜片材料構(gòu)成、前牙區(qū)組織面局部有少量空隙的空隙式穩(wěn)定咬合板。
背景技術(shù)：
制作穩(wěn)定咬合板的關(guān)鍵是在正中關(guān)系位形成正確的咬合面形態(tài)，包括正中咬合時(shí)穩(wěn)定咬合板與對(duì)牙切緣、后牙功能尖呈廣泛、均勻的點(diǎn)面接觸，尖牙頰側(cè)形成30° — 45°的尖牙引導(dǎo)區(qū)(密西根型)，下頜側(cè)向或前伸運(yùn)動(dòng)時(shí)起分離后牙的作用。穩(wěn)定咬合板可以做在上頜，也可以做在下頜，一般多數(shù)做在上頜。制作穩(wěn)定咬合板的方法很多，常見的有1.熱凝樹脂間接法，是最經(jīng)典耐用的制作方法。制作步驟是取精確的上下頜印模、面弓轉(zhuǎn)移、正中關(guān)系記錄、上全可調(diào)或半可調(diào)式牙合架、蠟形制作、填膠、熱處理、重新回牙合架精細(xì)調(diào)整、最后患者口內(nèi)試戴調(diào)整。2.自凝樹脂間接法，用自凝樹脂替換上述熱凝樹脂制作，省去蠟形制作等步驟，簡(jiǎn)化操作。3.間接直接法，口外模型上間接法先制作薄的自凝樹脂框架，或用壓膜法制作樹脂膜片框架，再于口內(nèi)用自凝樹脂咬合面襯墊，完成咬合面形態(tài)。4.壓膜法，在壓膜的同時(shí)，完成咬合面的成形。上述4種方法中，前3種方法制作過程都很繁瑣，自凝樹脂易產(chǎn)生異味、易變色、不耐用。第4種壓膜法，雖然相對(duì)操作簡(jiǎn)單，但臨床上只有牙列很整齊、穩(wěn)定咬合板前后厚度差距不大的極少數(shù)情況下可行。因?yàn)镃hristensen間隙的原理，穩(wěn)定咬合板一般都是前牙區(qū)厚，后牙區(qū)薄，牙列不整齊，前后厚度的差距會(huì)更大。常規(guī)穩(wěn)定咬合板都是實(shí)心的，若用壓膜法，為了使前牙區(qū)達(dá)到咬合接觸，許多情況下必須選擇很厚的膜片，2. 5mm以上的硬膜片，因壓膜冷卻時(shí)樹脂膜片材料收縮大的原因，咬合板口內(nèi)就位很困難，厚膜片切割打磨也費(fèi)工費(fèi)時(shí)。常規(guī)穩(wěn)定咬合板還有一個(gè)缺點(diǎn)，因材料聚合收縮或冷卻收縮引起的誤差，患者初戴時(shí)常出現(xiàn)前牙擠壓感，甚至疼痛。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是針對(duì)上述不足之處提供一種空隙式穩(wěn)定咬合板，整個(gè)咬合面由均質(zhì)性樹脂膜片材料構(gòu)成，一次壓膜的同時(shí)完成咬合面成形，不需要自凝樹脂咬合面二次襯墊，操作簡(jiǎn)單，前牙區(qū)組織面局部有少量空隙，患者初戴時(shí)感覺更舒適?？朔爽F(xiàn)有穩(wěn)定咬合板制作過程繁瑣、自凝樹脂不耐用、初戴穩(wěn)定咬合板時(shí)前牙不適等缺點(diǎn)?？障妒椒€(wěn)定咬合板是采取以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的空隙式穩(wěn)定咬合板呈“U”形，包括咬合面、唇頰面、舌腭面和組織面。咬合面與患者的對(duì)牙合牙接觸，唇頰面位于咬合面的外偵牝與患者的唇頰黏膜接觸；舌腭面位于咬合面的內(nèi)側(cè)，與患者的舌頭接觸；組織面位于咬合面、唇頰面和舌腭面的反面，組織面覆蓋牙齒和黏膜。唇頰面的前部蓋過前牙牙冠1/3，唇頰面后部蓋過后牙頰面倒凹Imm ;舌腭面磨牙區(qū)蓋過齦緣，舌腭面前牙區(qū)蓋過齦緣不小于10mm，以保證足夠的強(qiáng)度。在前牙咬合接觸對(duì)應(yīng)的局部組織面具有組織面空隙，所述組織面空隙是通過壓膜之前，先用石膏在工作模型上填間隙獲得，組織面空隙的存在使前牙區(qū)樹脂膜片厚度需要量減少了，使原本前牙區(qū)厚、后牙區(qū)薄的楔形Christensen間隙，變成前后間隙厚度接近，有利于均勻厚度的樹脂膜片壓膜，形成廣泛、均勻接觸的咬合面。所述組織面空隙的空隙厚度不超過2_，從而保證咬合面前后都有接觸，而組織面空隙區(qū)樹脂膜片又有足夠的強(qiáng)度?？障妒椒€(wěn)定咬合板由一張樹脂膜片一次整體壓制而成，覆蓋整個(gè)牙列。空隙式穩(wěn)定咬合板適合用于christensen間隙前后厚度差距不超過2mm的患者，使用方法與常規(guī)穩(wěn)定咬合板相同。日常清潔時(shí)注意不能用熱水清洗，以免變形，也不能用消毒劑，以免變色和老化，縮短使用年限。本實(shí)用新型空隙式穩(wěn)定咬合板，因?yàn)榍把绤^(qū)組織面空隙的存在，使其制作過程變得很簡(jiǎn)單，一張樹脂膜片一次壓膜同步完成咬合面成形；咬合面為均質(zhì)性的樹脂膜片材料，光滑耐用；前牙區(qū)的組織面空隙，使患者初戴時(shí)感覺比常規(guī)穩(wěn)定咬合板更舒適，沒有前牙擠壓、疼痛感。經(jīng)過3年多65例臨床應(yīng)用，效果良好。

下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。圖I是本實(shí)用新型空隙式穩(wěn)定咬合板的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型空隙式穩(wěn)定咬合板的前牙區(qū)矢狀切面示意圖。圖3是本實(shí)用新型空隙式穩(wěn)定咬合板的組織面空隙區(qū)水平面示意圖。圖中1、咬合面，2、唇頰面，3、舌腭面，4、組織面，5、組織面空隙。
具體實(shí)施方式
參照附圖f 3，空隙式穩(wěn)定咬合板呈“U”形，包括咬合面I、唇頰面2、舌腭面3和組織面4。咬合面I與患者的對(duì)牙接觸，唇頰面2位于咬合面I的外側(cè)，與患者的唇頰黏膜接觸；舌腭面3位于咬合面I的內(nèi)側(cè)，與患者的舌頭接觸；組織面4位于咬合面I、唇頰面3和舌腭面3的反面，組織面4覆蓋牙齒和黏膜。唇頰面2的前部蓋過前牙牙冠1/3，唇頰面2后部蓋過后牙頰面倒凹Imm ;舌腭面3磨牙區(qū)蓋過齦緣，舌腭面3前牙區(qū)蓋過齦緣不小于IOmm,以保證足夠的強(qiáng)度。在前牙咬合接觸對(duì)應(yīng)的局部組織面具有組織面空隙5，所述組織面空隙5是通過壓膜之前，先用石膏在工作模型上填間隙獲得，組織面空隙5的存在使前牙區(qū)樹脂膜片厚度需要量減少了，使原本前牙區(qū)厚、后牙區(qū)薄的楔形christensen間隙，變成前后間隙厚度接近，有利于均勻厚度的樹脂膜片壓膜，形成廣泛、均勻接觸的咬合面。所述組織面空隙5的空隙厚度不超過2_，從而保證咬合面I前后都有接觸，而組織面空隙區(qū)樹脂膜片又有足夠的強(qiáng)度?？障妒椒€(wěn)定咬合板由一張樹脂膜片一次整體壓制而成，覆蓋整個(gè)牙列?？障妒椒€(wěn)定咬合板適合用于christensen間隙前后厚度差距不超過2mm的患者，使用方法與常規(guī)穩(wěn)定咬合板相同。日常清潔時(shí)注意不能用熱水清洗，以免變形，也不能用消毒劑，以免變色和老化，縮短使用年限。
權(quán)利要求1.一種空隙式穩(wěn)定咬合板，其特征在于空隙式穩(wěn)定咬合板呈“U”形,空隙式穩(wěn)定咬合板包括咬合面、唇頰面、舌腭面和組織面；唇頰面位于咬合面的外側(cè)，舌腭面位于咬合面的內(nèi)側(cè)；組織面位于咬合面、唇頰面和舌腭面的反面，組織面覆蓋牙齒和黏膜；唇頰面的前部蓋過前牙牙冠1/3，唇頰面后部蓋過后牙頰面倒凹Imm ;舌腭面磨牙區(qū)蓋過齦緣，舌腭面前牙區(qū)蓋過齦緣不小于10_ ;在前牙咬合接觸對(duì)應(yīng)的局部組織面具有組織面空隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的空隙式穩(wěn)定咬合板，其特征在于所述組織面空隙是通過壓膜之前用石膏在工作模型上填間隙獲得。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的空隙式穩(wěn)定咬合板，其特征在于所述組織面空隙的空隙厚度不超過2mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的空隙式穩(wěn)定咬合板，其特征在于空隙式穩(wěn)定咬合板由一張樹脂膜片一次整體壓制而成，覆蓋整個(gè)牙列。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種口腔醫(yī)療中使用的穩(wěn)定咬合板，適用于顳下頜關(guān)節(jié)紊亂病和磨牙癥等疾病的治療，特別是一種在一次壓膜的同時(shí)完成咬合面成形、整個(gè)咬合面由均質(zhì)性樹脂膜片材料構(gòu)成、前牙區(qū)組織面局部有少量空隙的空隙式穩(wěn)定咬合板。空隙式穩(wěn)定咬合板呈“U”形，空隙式穩(wěn)定咬合板包括咬合面、唇頰面、舌腭面和組織面；唇頰面位于咬合面的外側(cè)，舌腭面位于咬合面的內(nèi)側(cè)；組織面位于咬合面、唇頰面和舌腭面的反面，組織面覆蓋牙齒和黏膜；唇頰面的前部蓋過前牙牙冠1/3，唇頰面后部蓋過后牙頰面倒凹1mm；舌腭面磨牙區(qū)蓋過齦緣，舌腭面前牙區(qū)蓋過齦緣不小于10mm；在前牙咬合接觸對(duì)應(yīng)的組織面具有組織面空隙。制作簡(jiǎn)單、光滑耐用、效果良好。
文檔編號(hào)A61F5/00GK202568555SQ20122023932
公開日2012年12月5日 申請(qǐng)日期2012年5月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月25日
發(fā)明者周小陸 申請(qǐng)人:周小陸