專利名稱：X射線設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種特別適用于醫(yī)療技術(shù)目的的X射線設(shè)備以及一種運(yùn)行這種X射線設(shè)備的方法。
背景技術(shù)：
在X射線管中通過(guò)使電子束入射陽(yáng)極而產(chǎn)生X射線輻射。在固定陽(yáng)極的情況中，所入射的電子確定了焦斑；在旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極的情況中，在X射線管運(yùn)行時(shí)形成了焦斑軌跡。從DE 103 01 071 Al中已知了用于調(diào)節(jié)X射線管的焦斑位置的設(shè)備和方法。在此，焦斑位置的調(diào)節(jié)不通過(guò)開環(huán)式控制而是通過(guò)閉環(huán)式調(diào)控來(lái)實(shí)現(xiàn)，以便自動(dòng)補(bǔ)償對(duì)于焦斑位置的調(diào)節(jié)的可預(yù)見的和不可預(yù)見的干擾影響。提供了傳感器以便測(cè)量反映焦斑位置的信號(hào)。該信號(hào)作為調(diào)控量用于偏離調(diào)控。焦斑位置的測(cè)量可例如通過(guò)位置分辨地確定X射 線束的強(qiáng)度或通過(guò)例如借助于紅外照相機(jī)測(cè)量陽(yáng)極上的溫度來(lái)進(jìn)行。從JP 11009584A中已知用于跟蹤X射線束的位置的方法，所述方法為此應(yīng)用于即使在焦斑取決于溫度而移動(dòng)時(shí)也保持X射線束的位置。X射線束通過(guò)可調(diào)節(jié)的縫隙形的光闌達(dá)到具有光電二極管陣列的檢測(cè)器，所述檢測(cè)器在二維維度上實(shí)現(xiàn)位置分辨的強(qiáng)度測(cè)量。DE 196 50 528 Al涉及用于在多層計(jì)算機(jī)斷層成像掃描裝置內(nèi)確定X射線束位置的方法和設(shè)備。在此情況中，也提供了分開布置的檢測(cè)裝置行的排列，以確定X射線輻射的焦點(diǎn)位置。由檢測(cè)裝置行提供的信號(hào)被用于控制準(zhǔn)直器裝置跟蹤機(jī)構(gòu)。WO 2008/132635A2公開了帶有X射線源的成像醫(yī)療技術(shù)系統(tǒng)，其中假設(shè)焦點(diǎn)在縱向方向上的位置取決于至少一個(gè)X射線部件的溫度?；诖岁P(guān)系，通過(guò)計(jì)算機(jī)支持根據(jù)溫度來(lái)改變準(zhǔn)直器位置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的任務(wù)在于，將X射線設(shè)備相對(duì)于所述現(xiàn)有技術(shù)以相對(duì)低的設(shè)備成本特別是在成像特征的幾何質(zhì)量方面進(jìn)行改進(jìn)。根據(jù)本發(fā)明，此任務(wù)通過(guò)帶有權(quán)利要求1的特征的X射線設(shè)備以及通過(guò)根據(jù)權(quán)利要求11的用于X射線設(shè)備的運(yùn)行的方法解決。在下文中結(jié)合X射線源解釋的構(gòu)造和優(yōu)點(diǎn)在意義上也適用于方法，反之亦然。X射線設(shè)備包括X射線源和與之協(xié)作的檢測(cè)器，以及布置在X射線源和檢測(cè)器之間的帶有限定的幾何形狀和/或已知的射線吸收特性的修正物體，所述修正物體通過(guò)檢測(cè)器可識(shí)別并且在此為顯示X射線源的特征、特別是X射線源的焦斑位置而在檢測(cè)器上形成。本發(fā)明基于如下考慮，即X射線輻射源在X射線管內(nèi)的位置，即焦斑位置通過(guò)X射線管的部件在運(yùn)行期間的熱膨脹而改變。在帶有可旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極的X射線管中，例如在DE 10301 071 Al以及同等優(yōu)先權(quán)的US 7，001，071B2中所公開，例如旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極自身、旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極和支架之間的連接元件、支架或支架的部件、真空殼體或X射線管的其他部分可能膨脹，其中不同的部分典型地以不同的尺度熱膨脹。在X射線設(shè)備運(yùn)行期間出現(xiàn)的X射線源的該幾何形狀改變意味著X射線源相對(duì)于檢測(cè)器的移動(dòng)并且因此以檢測(cè)器拍攝的圖像的移動(dòng)和/或畸變。這特別地在其中拍攝一系列相關(guān)聯(lián)的圖像的情況中是不利的，如在計(jì)算機(jī)斷層成像的情況中。一般地，成像幾何形狀的改變歪曲了在不同的圖像上描述的物體特征之間的位置關(guān)系。為此，在X射線源的取決于熱的尺寸改變時(shí)，當(dāng)與檢測(cè)器的像素尺寸相比取決于熱的運(yùn)動(dòng)大時(shí)，出現(xiàn)的不利影響是分辨率的損失。與總是干預(yù)X射線源以在取決于熱的幾何改變的情況下盡可能地保持成像質(zhì)量的現(xiàn)有技術(shù)所建議的方法基本上不同，根據(jù)本發(fā)明使用由檢測(cè)器拍攝的數(shù)據(jù)以補(bǔ)償取決于熱、機(jī)械或其他原因的焦斑位置的改變。在此，根據(jù)該方法的有利構(gòu)造，不進(jìn)行例如通過(guò)調(diào)節(jié)準(zhǔn)直器的對(duì)于X射線設(shè)備的成像特征的干預(yù)。相應(yīng)地，形成X射線設(shè)備并且為其提供圖像評(píng)估單元，使得采集檢測(cè)焦斑特征的改變，例如橫截面的移動(dòng)或改變。為此，特別地將拍攝期間所拍攝的數(shù)據(jù)與存儲(chǔ)的(額定)數(shù) 據(jù)或也與先前拍攝的數(shù)據(jù)進(jìn)行比較。補(bǔ)充地，將X射線設(shè)備形成為使得此焦斑特征改變的補(bǔ)償僅通過(guò)基于在拍攝期間所確定的數(shù)據(jù)的數(shù)學(xué)修正算法實(shí)現(xiàn)。特別地，在檢查物體的檢查期間的一些列圖像拍攝的情況中亦是如此。在整個(gè)序列期間補(bǔ)償僅通過(guò)圖像評(píng)估單元并且僅計(jì)算地進(jìn)行，而不進(jìn)行在光程內(nèi)的硬件干預(yù)。根據(jù)本發(fā)明的方法包括監(jiān)測(cè)焦斑幾何形狀，特別是焦斑位置，這在設(shè)備技術(shù)成本方面特別簡(jiǎn)單地通過(guò)如下方式進(jìn)行，即將帶有限定的幾何形狀和已知的射線吸收特性的修正物體引入到X射線源和所述的檢測(cè)器之間的被X射線輻射加載的區(qū)域內(nèi)。修正物體在由檢測(cè)器所拍攝的數(shù)據(jù)內(nèi)在每級(jí)數(shù)據(jù)處理中產(chǎn)生了單義的圖示(Signatur)，并且因此顯示了X射線源的特征，特別是焦斑位置?！癤射線源的特征”或焦斑幾何形狀除焦斑的位置外也包括焦斑的形狀、尺寸和輪廓及其幾何量。這些特征的至少一個(gè)通過(guò)檢測(cè)器采集并且然后通過(guò)機(jī)器或通過(guò)計(jì)算機(jī)支持地被評(píng)估。優(yōu)選地，焦斑幾何形狀的取決于溫度或機(jī)械的改變?cè)谔幚碛蓹z測(cè)器拍攝的數(shù)據(jù)的盡可能早的階段中被補(bǔ)償。在計(jì)算機(jī)斷層成像系統(tǒng)的情況下，例如在WO 2008/132635A2中所公開，例如提供為用于生成可估值的圖像數(shù)據(jù)的原始數(shù)據(jù)已在焦斑幾何形狀改變補(bǔ)償?shù)囊饬x上被直接修正，以此將分辨率損失最小化。焦斑幾何形狀的改變補(bǔ)償也可在從未改變的原始數(shù)據(jù)中重建圖像時(shí)進(jìn)行。因此，在下文中“原始數(shù)據(jù)修正”以及原始數(shù)據(jù)的修正也包括圖像數(shù)據(jù)的相應(yīng)的重建。在X射線檢查時(shí)經(jīng)常將多個(gè)圖像作為直接相繼的序列拍攝。在此所建議的補(bǔ)償在該方法的優(yōu)選的擴(kuò)展中也在此類序列中僅通過(guò)所描述的數(shù)學(xué)補(bǔ)償在原始數(shù)據(jù)或圖像數(shù)據(jù)中進(jìn)行，而不進(jìn)行硬件干預(yù)。因此，在X射線檢查的運(yùn)行中即使更大的焦斑幾何形狀的改變也僅通過(guò)數(shù)學(xué)補(bǔ)償進(jìn)行。根據(jù)X射線設(shè)備的第一變體，整合在所述X射線設(shè)備中的修正物體具有相對(duì)于從X射線源發(fā)射的X射線輻射的大于零的透射度，即修正物體相對(duì)于X射線輻射至少部分地是可穿透的。在此，可穿透性優(yōu)選地通過(guò)如下方式測(cè)量，即修正物體也可布置在也穿透檢查物體的射線區(qū)域內(nèi)，并且此外在此被修正物體遮擋的區(qū)域內(nèi)實(shí)現(xiàn)對(duì)于用于檢查物體的檢查的數(shù)據(jù)的評(píng)估。對(duì)于檢查物體以及對(duì)于修正物體的削弱值因此重疊。通過(guò)減去對(duì)于修正物體的已知的削弱值，可因此確定對(duì)于圖像修正所要求的檢查物體的削弱值。修正物體的透射度優(yōu)選地在20%至80%之間，即入射修正物體的20%至80%的強(qiáng)度透過(guò)修正物體。根據(jù)實(shí)施變體，在此透射度選擇地在20%至50%之間，或在50%至80%之間。修正物體在此可以可布置為完全地在待通過(guò)X射線輻射檢查的物體的橫截面內(nèi)，部分地在此橫截面內(nèi)或完全地在此橫截面外，并且因此以相應(yīng)的方式相對(duì)于由檢測(cè)器拍攝的圖像布置。修正物體在其中也布置了檢查物體的相同的輻射橫截面內(nèi)的布置的優(yōu)點(diǎn)是，不必預(yù)留用于修正目的而因此不可再用于實(shí)際的X射線檢查的輻射橫截面的部分。而將修正物體定位在用于檢查的輻射橫截面之外的優(yōu)點(diǎn)是在圖像數(shù)據(jù)中的偽影成像被原理上排除。 修正物體的可識(shí)別性在此相對(duì)于X射線輻射部分可穿透的設(shè)計(jì)的情況中根據(jù)有力的擴(kuò)展改進(jìn)，使得修正物體具有帶有不同的射線吸收特性的多個(gè)區(qū)域。在透射度方面相互不同的區(qū)域在此可通過(guò)一些材料的不同的壁厚和/或通過(guò)使用具有不同的透射系數(shù)的材料提供。每個(gè)這些區(qū)域在此在上述意義上是部分透明的，即優(yōu)選地具有20%至80%的范圍內(nèi)的透射度。不同的區(qū)域的透射度的不同的級(jí)別在此優(yōu)選地在例如20%、50%和80%的范圍內(nèi)。在每個(gè)情況中，可特別地在修正物體完全地嵌入在由檢測(cè)器拍攝的圖像的情況中，從由修正物體所產(chǎn)生的與水印可比擬的圖示可單義地推斷X射線設(shè)備的改變的幾何形狀對(duì)于成像的影響，并且此影響在重建的意義上從圖像數(shù)據(jù)或從作為圖像數(shù)據(jù)的前級(jí)而存在的原始數(shù)據(jù)中減去。所述“水印”基本上位于檢查物體的實(shí)際圖像或吸收數(shù)據(jù)的下方。根據(jù)X射線設(shè)備的第二變體，修正物體相對(duì)于由X射線源發(fā)射的X射線輻射至少近似是不可透過(guò)的。修正物體在該情況下優(yōu)選地處于借助X射線輻射檢查的橫截面的外部或邊緣上。在優(yōu)選的構(gòu)造中，修正物體通過(guò)界定借助檢測(cè)器所拍攝的圖像的并且可被檢測(cè)器采集的光闌的輪廓形成。因此，可靠地排除了如下情況，即修正物體的結(jié)構(gòu)在檢查物體內(nèi)出現(xiàn)并且可能使得評(píng)估圖像數(shù)據(jù)困難。該構(gòu)造的前提條件是覆蓋了比通過(guò)光闌界定的、限定了檢查區(qū)域的橫截面更寬闊的橫截面的檢測(cè)器。取決于修正物體布置在被檢查的橫截面之內(nèi)還是之外，可將從X射線源觀察的修正物體定位在布置在檢查體積內(nèi)的檢查物體的前方或后方，其中在所有的情況中，X射線源、檢測(cè)器和也稱為成像物體的檢查物體相互可能是可運(yùn)動(dòng)的。根據(jù)修正物體的定位，可將修正物體固定在檢測(cè)器上、射線光闌上、檢查或成像物體上或X射線源上。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)特別地在于無(wú)X射線設(shè)備的硬件干涉而僅通過(guò)由檢測(cè)器拍攝的數(shù)據(jù)的修正來(lái)補(bǔ)償焦斑從其原來(lái)位置的偏離，其中對(duì)于修正所需的全部信息也由檢測(cè)器拍攝而不使用附加的傳感器，這通過(guò)對(duì)于在X射線輻射的光程內(nèi)布置的、通過(guò)檢測(cè)器采集的優(yōu)選地半透的修正物體的位置和/或形狀進(jìn)行估值來(lái)實(shí)現(xiàn)。


在下文中根據(jù)附圖進(jìn)一步解釋本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例。在此，各圖為圖1以強(qiáng)烈簡(jiǎn)化的透視顯示出了帶有修正物體的X射線設(shè)備，
圖2示出了根據(jù)圖1的X射線設(shè)備的檢測(cè)器的顯示了修正物體的圖示的位置分辨的信號(hào)，圖3示出了修正物體的替代的構(gòu)造，圖4示出了根據(jù)圖3的修正物體的圖示，圖5在類似于圖1的顯示中示出了 X射線設(shè)備的另外的實(shí)施例，圖6在類似于圖2和圖4的示意圖中示出了位置分辨的檢測(cè)器信號(hào)。相互對(duì)應(yīng)的或作用相同的部分在所有附圖中以相同的附圖標(biāo)號(hào)標(biāo)記。
具體實(shí)施方式
·總體上以附圖標(biāo)號(hào)I標(biāo)記的X射線設(shè)備在其原理功能方面參考開始部分引用的現(xiàn)有技術(shù)，所述X射線設(shè)備I具有X射線源2和與之協(xié)作的檢測(cè)器3。X射線設(shè)備I例如形成為計(jì)算機(jī)斷層成像設(shè)備。從X射線源2輻射出的X射線輻射從X射線源2的未進(jìn)一步顯示的優(yōu)選為旋轉(zhuǎn)的陽(yáng)極上的焦斑4發(fā)出。X射線源2的通常的實(shí)現(xiàn)形式是X射線輻射器，所述X射線輻射器與在附圖中作為點(diǎn)的X射線源2的顯示不同具有有限的尺寸。在X射線輻射的輻射場(chǎng)中，在X射線源2和檢測(cè)器3之間在焦斑4附近具有安裝面5，所述安裝面例如布置在準(zhǔn)直器內(nèi)的光闌上或在單獨(dú)的相對(duì)于檢測(cè)器3位置固定的面上。在安裝面5上固定了修正物體6，其中在根據(jù)圖1的實(shí)施例中，修正物體6是透明的結(jié)構(gòu)，即是PEEK (聚醚醚酮)制成的柱體。修正物體6在檢測(cè)器3上被成像，并且在圖1中可識(shí)別為修正圖像7。通過(guò)由檢測(cè)器3所拍攝的圖像設(shè)置的截面線8將描繪了修正物體6的修正圖像7截開。如果焦斑4在X射線源2內(nèi)的位置特別地取決于溫度改變，則由檢測(cè)器3拍攝的修正圖像7的位置移動(dòng)。被檢測(cè)器3采集的X射線輻射的強(qiáng)度并且因此所采集的劑量D沿截面線8的分布在圖2中顯示，其中如在圖1中簡(jiǎn)化地考慮其中在X射線源2和檢測(cè)器3之間不存在檢查物體的情況。明顯地可見，劑量D在修正圖像7的區(qū)域內(nèi)降低，其中降低的區(qū)域明顯地通過(guò)邊緣9界定,所述邊緣9描繪了修正物體6的輪廓。如果由于在X射線設(shè)備I運(yùn)行中所出現(xiàn)的焦斑幾何形狀的改變導(dǎo)致邊緣9的位置移動(dòng)，則通過(guò)檢測(cè)器3采集的原始數(shù)據(jù)或由此獲得的圖像數(shù)據(jù)被修正為使其對(duì)應(yīng)于如在焦斑幾何形狀未改變時(shí)所拍攝的數(shù)據(jù)，即在以檢測(cè)器3所拍攝的不同的圖像上總是存在全等的邊緣9。焦斑幾何形狀因此僅使用數(shù)據(jù)處理的方法被修正，而不干預(yù)X射線源2的運(yùn)行。另外，從該含有修正圖像7的原始數(shù)據(jù)中，優(yōu)選地已從作為先前數(shù)據(jù)而存在的原始數(shù)據(jù)中自動(dòng)減去修正圖像7以補(bǔ)償焦斑4的改變的幾何形狀，使得對(duì)于X射線設(shè)備I的使用者在所拍攝的圖像上不可識(shí)別修正物體6。圖3示出了相對(duì)于根據(jù)圖1的實(shí)施例的修改的修正物體10。所述修正物體具有多個(gè)在圖2中矩形地顯示的面區(qū)域11，其中與修正物體10的剩余區(qū)域相比，相對(duì)于由X射線源2發(fā)射的輻射的透射度被有目的地降低，這例如通過(guò)提高厚度或通過(guò)附加地涂覆材料層來(lái)實(shí)現(xiàn)。以類似的方式，根據(jù)此實(shí)施例的變體，相對(duì)于修正物體10的周圍區(qū)域，在面區(qū)域11內(nèi)X射線輻射的吸收也被降低。特別地，面區(qū)域11可以是修正物體6內(nèi)的空隙。如果作為在圖1中顯示的修正物體6的替代在X射線設(shè)備I內(nèi)使用根據(jù)圖3的修正物體10，則沿圖3中以虛線劃出的截面線8產(chǎn)生了位置X和劑量D之間的關(guān)系，如在圖4中所顯示,其中在此情況中也可識(shí)別多個(gè)邊緣9，所述邊緣9描繪了修正物體10的幾何的以及輻射技術(shù)上限定的特征。在由檢測(cè)器3所拍攝的圖像中清晰地繪出了修正物體10，以此實(shí)現(xiàn)了對(duì)于X射線源2的焦斑的可能的參數(shù)改變的特別精確的計(jì)算補(bǔ)償。根據(jù)圖5的實(shí)施例與根據(jù)圖1的實(shí)施例的差異在于，修正物體6通過(guò)輻射光闌12的邊緣形成。輻射光闌12的與修正物體6相同的完整的輪廓在此情況中顯示了以檢測(cè)器3采集的修正圖像7。為在檢測(cè)器3上完全地顯示輻射光闌12，與根據(jù)圖1的實(shí)施例相比將檢測(cè)器尺寸放大。也可替代地通過(guò)縮小的準(zhǔn)直器尺寸而使得輻射器光闌12可用作修正物體6。在兩個(gè)情況中保證修正物體6不處在以X射線設(shè)備I檢查的橫截面內(nèi)。 對(duì)于焦斑4的可能偏離的補(bǔ)償在根據(jù)圖5的實(shí)施例中以與根據(jù)圖1的實(shí)施例中的相同的方式進(jìn)行。屬于根據(jù)圖5的實(shí)施例的沿截面線8的劑量分布在圖6中顯示。清晰地可見，在此情況中邊緣9形成了可由檢測(cè)器3拍攝的圖像的邊沿。
權(quán)利要求
1.一種X射線設(shè)備，帶有至少一個(gè)X射線源(2)和至少一個(gè)與之協(xié)作的檢測(cè)器(3)，以及至少一個(gè)布置在X射線源(2)和檢測(cè)器(3)之間的帶有限定的幾何形狀和/或已知的輻射吸收特性的修正物體(6，10)，所述修正物體形成為借助檢測(cè)器(3)可識(shí)別并且用于顯示 X射線源(2)的特征。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線設(shè)備(1)，其特征在于，所述修正物體(6，10)具有關(guān)于由所述X射線源(2)發(fā)射的X射線輻射的大于零的透射度，使得在將所述修正物體(6，10) 定位在X射線源(2)和檢查物體之間時(shí)，被該修正物體(6，10)遮擋的檢查物體的區(qū)域此外能夠用于圖像評(píng)估。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線設(shè)備(I)，其特征在于，所述透射度處于20%至80%的范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的X射線設(shè)備(I)，其特征在于，所述修正物體(6，10)完全處于由所述檢測(cè)器(3)所拍攝的檢查物體的圖像內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線設(shè)備(1)，其特征在于，所述修正物體(6，10)對(duì)于從所述X射線源(2)發(fā)射的X射線輻射至少近似地是不透過(guò)的。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線設(shè)備(1)，其特征在于，所述修正物體(6，10)通過(guò)射線光闌(12)的輪廓形成，所述射線光闌(12)限制了借助檢測(cè)器(3)拍攝的圖像并且能夠通過(guò)檢測(cè)器(3)采集。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中一項(xiàng)所述的X射線設(shè)備(I)，其特征在于，所述修正物體(10) 具有多個(gè)帶有與周圍區(qū)域相比不同的射線吸收特性的區(qū)域(11)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的X射線設(shè)備(I)，其特征在于，所述區(qū)域(11)的每個(gè)對(duì)于X射線輻射的以不同的透射度部分地透明，所述透射度特別地處在20%至80%的范圍內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中一項(xiàng)所述的X射線設(shè)備(I)，其特征在于，所述檢測(cè)器(3)相對(duì)于所述X射線源(2 )可運(yùn)動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中一項(xiàng)所述的X射線設(shè)備(1)，其特征在于，所述修正物體(6， 10)相對(duì)于所述X射線源(2)位置固定地布置。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中一項(xiàng)所述的X射線設(shè)備(1)，其特征在于，所述修正物體(6， 10)至少相對(duì)于從射線光闌(12)、檢測(cè)器(3)、檢查物體的組中選擇的部件的一個(gè)位置固定地布置。
12.一種用于運(yùn)行X射線設(shè)備(I)的方法，帶有如下特征-借助于具有陽(yáng)極的X射線源(2)產(chǎn)生X射線輻射，在所述陽(yáng)極上通過(guò)入射的電子形成焦斑⑷，-確定所述焦斑(4)的位置，-借助于檢測(cè)器(3)采集由X射線源(2)所產(chǎn)生的透過(guò)檢查物體的X射線輻射，-取決于焦斑(4)的至少一個(gè)幾何量修正和加工由所述檢測(cè)器(3 )所采集的數(shù)據(jù)，使得補(bǔ)償了幾何量的至少一個(gè)的改變，優(yōu)選地補(bǔ)償焦斑位置。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)幾何量的補(bǔ)償僅通過(guò)由所述檢測(cè)器(3)所采集的數(shù)據(jù)的修正進(jìn)行，而不干預(yù)所述X射線設(shè)備(I)的成像特征。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，執(zhí)行一系列檢查物體的拍攝，并且對(duì)于照片的每個(gè)，所述至少一個(gè)幾何量的修正僅通過(guò)由檢測(cè)器(3)所采集的數(shù)據(jù)的修正進(jìn)行，而不干預(yù)所述X射線設(shè)備(I)的成像特征。
15.根據(jù)權(quán)利要求12至14所述的方法，其特征在于，為補(bǔ)償所述至少一個(gè)幾何量，修正由所述檢測(cè)器(3)所采集的用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的原始數(shù)據(jù)。
16.根據(jù)權(quán)利要求12至15中一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，為確定焦斑的幾何量，將帶有已知的射線吸收特性的修正物體(6，10)引入到X射線源(2)和檢查物體之間的被X射線輻射加載的區(qū)域內(nèi)。
17.根據(jù)權(quán)利要求12至16中一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，為確定焦斑的幾何量，將帶有已知的幾何形狀和一定的射線吸收特性的修正物體(6，10)引入到X射線源(2)和檢測(cè)器(3)之間的被X射線輻射加載的區(qū)域內(nèi)。
18.根據(jù)權(quán)利要求12至17中一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，修正物體(6，10)相對(duì)于由 X射線源(2)發(fā)射的X射線輻射部分地透明，并且布置在穿透檢查物體的射線截面內(nèi)。
19.根據(jù)權(quán)利要求12至17中一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，將修正物體(6，10)布置在穿透檢查物體的射線截面外。
全文摘要
一種X射線設(shè)備，包括至少一個(gè)X射線源(2)和至少一個(gè)與之協(xié)作的檢測(cè)器(3)，以及至少一個(gè)布置在X射線源(2)和檢測(cè)器(3)之間的帶有限定的幾何形狀和已知的輻射吸收特性的修正物體(6、10)，所述修正物體(6、10)形成為借助檢測(cè)器(3)可識(shí)別并且用于顯示X射線源(2)的特征，特別是用于顯示焦斑位置。
文檔編號(hào)A61B6/00GK103006246SQ201210355119
公開日2013年4月3日 申請(qǐng)日期2012年9月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月26日
發(fā)明者F.奧爾索夫, J.弗羅伊登伯格, M.赫普夫, H.希林 申請(qǐng)人:西門子公司, Ct成像有限責(zé)任公司