專利名稱：一種用于總義齒和局部義齒頜記錄的基托型蠟的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型專利涉及ー種口腔修復(fù)醫(yī)療器械制作時(shí)用的器材，即ー種制作全ロ義齒和局部義齒時(shí)采集頜記錄用的型蠟。
技術(shù)背景目前，牙醫(yī)在為患者采集全ロ或局部義齒頜記錄前，均是在取得患者ロ腔的石膏模型上用蠟板和蠟片彎制成蠟基托和蠟堤，這樣制作的頜記錄蠟型既費(fèi)時(shí)費(fèi)力，又不能把患者的口腔生理信息記錄準(zhǔn)確，從而易使后期制作的義齒存在偏差，造成患者配戴不適，甚 至失敗。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的就在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，而提供一種用于總義齒和局部義齒頜記錄的基托型蠟，使用該型蠟可使臨床采集頜記錄操作簡(jiǎn)單，取得的頜記錄信息準(zhǔn)確全面，從而使后期制作的修復(fù)義齒更精確，配戴舒適而美觀。如上構(gòu)思，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種用于總義齒和局部義齒頜記錄的基托型蠟，其特征在干由上頜基托型蠟、下頜基托型蠟、上頜蠟堤和下頜蠟堤組成；上頜基托型蠟和下頜基托型蠟均是弓槽形結(jié)構(gòu)，上頜蠟堤和下頜蠟堤均是弓形結(jié)構(gòu)。上述上頜基托型蠟和下頜基托型蠟咬合面ー側(cè)為平面，另ー側(cè)面為槽形。上述上頜蠟堤和下頜蠟堤均為前窄后寬的弓形結(jié)構(gòu)。上述上頜蠟堤和下頜蠟堤的唇、頰側(cè)和舌側(cè)間具有多排橫向貫通的孔。本實(shí)用新型具有如下的優(yōu)點(diǎn)和積極效果I、由于將上頜基托型蠟和下頜基托型蠟預(yù)制成依據(jù)人類ロ腔解剖生理特點(diǎn)的弓形槽形態(tài)，在臨床使用時(shí)牙科醫(yī)生只需要稍加整理就能使其貼合在患者的口腔模型上，從而可取到患者頜位準(zhǔn)確的頜記錄。2、由于將上頜蠟堤和下頜蠟堤做成預(yù)制有多個(gè)橫向貫通的孔的弓形結(jié)構(gòu)，牙科醫(yī)生在取得患者頜位高度時(shí)就不需要給蠟堤頜面局部加熱，從而有更加充分的操作時(shí)間。3、使用本涉及牙科醫(yī)生可輕松地取到患者頜間全面準(zhǔn)確的頜記錄，降低了牙科醫(yī)生在采集患者頜記錄環(huán)節(jié)的工作量，并使后期制作義齒更加精確，可提高義齒修復(fù)的成功率。

圖I是本實(shí)用新型上頜基托型蠟的主視圖。圖2是本實(shí)用新型下頜基托型蠟的后視圖。圖3是上頜蠟堤的外形圖。圖4是上頜蠟堤的的唇、頰側(cè)和舌側(cè)間具有兩排橫向貫通的孔的示意圖。圖5是下頜蠟堤的外形圖。[0017]圖6是下頜蠟堤的唇、頰側(cè)和舌側(cè)間具有兩排橫向貫通的孔的示意圖。
具體實(shí)施方式
一種用于總義齒和局部義齒頜記錄的基托型蠟，由上頜基托型蠟I、下頜基托型蠟2、上頜蠟堤3和下頜蠟堤4組成。如圖1、2所示上頜基托型蠟和下頜基托型蠟均是按人類口腔解剖形態(tài)制成的弓槽形結(jié)構(gòu)，咬合面ー側(cè)為弓形平面，另ー側(cè)面5為槽形。如圖3、4所示上頜蠟堤和下頜蠟堤均是按人類牙列生理解剖形態(tài)制成的弓形結(jié)構(gòu)，并且上頜蠟堤和下頜蠟堤的唇、頰側(cè)和舌側(cè)間具有兩排橫向貫通的孔6。本實(shí)用新型的上頜基托型蠟和下頜基托型蠟，上頜蠟堤和下頜蠟堤均分為特大、大、中、小四種尺寸規(guī)格。本實(shí)用新型的使用方法I、安裝總義齒頜記錄醫(yī)師在取得患者口腔印模后，取尺寸規(guī)格接近患者口腔石膏模型的型蠟基托，放入50°C左右的溫水中，浸泡大約10秒鐘后取出，放在石膏模型上捏 合整形，使之與患者口腔石膏模型充分貼合，然后把蠟堤與基托型蠟用電蠟刀焊接牢固，之后就按常規(guī)方法囑患者咬合，即可得到患者的頜記錄。2、安裝局部義齒頜記錄將患者口腔余留牙齒相應(yīng)位置的基托和蠟堤用蠟刀去掉，其它步驟同實(shí)施例I制作方法。
權(quán)利要求1.一種用于總義齒和局部義齒頜記錄的基托型蠟，其特征在干由上頜基托型蠟、下頜基托型蠟、上頜蠟堤和下頜蠟堤組成；上頜基托型蠟和下頜基托型蠟均是弓槽形結(jié)構(gòu)，上頜蠟堤和下頜蠟堤均是弓形結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種用于總義齒和局部義齒頜記錄的基托型蠟，其特征在于上述上頜基托型蠟和下頜基托型蠟咬合面ー側(cè)為平面，另ー側(cè)面為槽形。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種用于總義齒和局部義齒頜記錄的基托型蠟，其特征在于上述上頜蠟堤和下頜蠟堤均為前窄后寬的弓形結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或3所述的ー種用于總義齒和局部義齒頜記錄的基托型蠟，其特征在于上述上頜蠟堤和下頜蠟堤的唇、頰側(cè)和舌側(cè)間具有多排橫向貫通的孔。
專利摘要一種用于總義齒和局部義齒頜記錄的基托型蠟，由上頜基托型蠟、下頜基托型蠟、上頜蠟堤和下頜蠟堤組成；上頜基托型蠟和下頜基托型蠟均是弓槽形結(jié)構(gòu)，上頜蠟堤和下頜蠟堤均是弓形結(jié)構(gòu)。使用該型蠟可使臨床采集頜記錄操作簡(jiǎn)單，取得的頜記錄信息準(zhǔn)確全面，從而使后期制作的修復(fù)義齒更精確，配戴舒適而美觀。
文檔編號(hào)A61C13/34GK202386814SQ20112037463
公開日2012年8月22日 申請(qǐng)日期2011年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月28日
發(fā)明者邢旭東 申請(qǐng)人:邢旭東