專利名稱：可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，特別涉及一種可對異常足弓進(jìn)行精確微支撐，使產(chǎn)生精確矯正效果的足弓矯正墊設(shè)計(jì)，以及利用該矯正墊進(jìn)行矯正的方法。
背景技術(shù)：
人類的足部必須有良好的肌力、柔軟度和協(xié)調(diào)性，才能承受來自全身體重的壓力， 同時提供我們走路、跑步和跳躍等行進(jìn)支撐，足部包含二十六塊骨頭，由復(fù)雜且致密的韌帶和筋膜包圍連結(jié)，而且整個足部就像拱形或弓形結(jié)構(gòu)，具有良好的彈性。大體上，該足部具有三個重要的足弓，即內(nèi)側(cè)縱弓、外側(cè)縱弓及橫弓，主要在提供足部結(jié)構(gòu)避震功能，使活動時富有彈性，是足部承重時減少傷害并延緩疲勞發(fā)生的重要結(jié)構(gòu)。如圖1與圖2所示，以左足而言，該內(nèi)側(cè)縱弓91是由跟骨92、距骨93、舟狀骨94、 三塊楔狀骨95和三塊內(nèi)側(cè)跖骨961 963所構(gòu)成，整體骨架大致以距骨93為基石，使具有較佳的柔軟度和較大的曲度，而有利于吸震。另外，該外側(cè)縱弓97由跟骨92、骰骨98及第四、第五跖骨964、965所構(gòu)成，而以骰骨98為基石，該外側(cè)縱弓97較扁平且活動度不大，有利于支撐。該橫弓99 一般指腳掌前五塊跖骨961 965的基部所構(gòu)成。此橫弓99的前方就是所謂的跖弓(圖未示)，跖弓只在不負(fù)重狀態(tài)才會存在，當(dāng)人體站立會使跖弓趨于扁平。五根足趾主要是在步行末期時做推蹬、抓持與頂擋的動作，對于人體的移動敏捷性有舉足輕重的功效。而肌群及韌帶則能協(xié)助人體平衡及穩(wěn)定。然而，人類由于先天或后天的影響，足部的結(jié)構(gòu)大致可分為如圖5所示足弓使用率示意圖中的超高足弓80、高足弓81、微高足弓82、一般正常足弓83、微平足弓84、平足弓 85及超平足弓86 (即扁平足)等多種類型，其中的微平足弓84、平足弓85及超平足弓86等 「扁平足」，主要是由于韌帶或肌腱先天性發(fā)育不良，舟狀骨94向下移位，或發(fā)生骨折等情形，導(dǎo)致內(nèi)側(cè)縱弓91塌陷而形成，站立時，重量會集中在雙腳的內(nèi)側(cè)部位，而且在行走間， 上述的距骨93及舟狀骨94旋轉(zhuǎn)與下降幅度過大，將常態(tài)性使得其上方的脛骨901產(chǎn)生偏斜，日久即容易產(chǎn)生一些慢性并發(fā)癥。因此，現(xiàn)今市面上用于矯正腳型的「矯正器」，大都是針對扁平足的足形，用于矯正內(nèi)側(cè)縱弓91的塌陷現(xiàn)象。請參圖3與圖4所示，以目前人體的足形而言，大多數(shù)的人在站立時，足部會呈「翻腳刀」，亦即重量較集中在雙腳的后跟外側(cè)，造成跟骨92外斜、后足部外翻的現(xiàn)象，此將使得跟骨92的內(nèi)側(cè)與距骨93間的距離縮短，甚至?xí)蛏蠣窟B使得脛骨901偏斜，而與股骨 902內(nèi)側(cè)之間隙變小，因而容易導(dǎo)致內(nèi)側(cè)半月板903軟骨磨損，或膝關(guān)節(jié)內(nèi)側(cè)磨損，引發(fā)退化性關(guān)節(jié)炎，甚至腰部長期受到不當(dāng)力量壓迫形成腰酸與長骨刺、或有阿基里斯氏肌腱炎等并發(fā)癥。為此，有人研發(fā)出一種用于墊設(shè)在鞋內(nèi)的足形矯正器，可導(dǎo)正扁平足和高弓足不正常的內(nèi)、外翻腳刀的情況，其中之一是提供一種足形矯正墊，該矯正墊大致呈一曲形板， 并包含一具有縱向弧度及橫向弧度的頂面及底面。該頂面于縱、橫方向弧度的交會處具有一支撐足部跖骨的頂凸部。使用時，該頂面能承托在使用者的足底，用以頂壓迫使足底服貼該頂面，由此以本身自有的正常的足弓形狀，來改善腳部的力學(xué)機(jī)制，令腳底部呈現(xiàn)出完美的正常踩踏腳型。該現(xiàn)有的足形矯正器更包含多個形成在底面上的方形凹槽，該多個凹槽是對應(yīng)位在該頂面的頂凸部下方。當(dāng)使用者踩踏時，該頂凸部會相對受到最大作用力，此時，即能憑借該多個凹槽所提供的撓性變形裕度，讓該足形矯正器具有較佳的彈性及吸震力，在踩踏上較為舒適。然而，上述現(xiàn)有足形矯正器的凹槽，在設(shè)計(jì)上密度較小，影響到頂凸部左右支撐的均勻度，使得彈性支撐點(diǎn)較為松散，使用時易造成偏斜，影響足形矯正器應(yīng)有的矯正功能。 且其凹槽為方形設(shè)計(jì)，當(dāng)受到使用者踩踏末期(即踩越階段)向下且朝前的踏蹬力時，該多個凹槽容易遭到擠迫而扭曲變形，所能提供的支撐性不足，且在使用一段時間之后，會造成該足形矯正器的力學(xué)支撐彈性降低，影響使用的功能。再者，經(jīng)本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)人實(shí)際觀察前述所謂的「腳型矯正器」的使用情形，發(fā)現(xiàn)盡管對于例如扁平足具有矯正功效，但在其使用前，尚必需以打磨機(jī)器對該腳型矯正器及邊貼合片進(jìn)行修磨，以使該矯正器的支撐高度，能確實(shí)符合個別使用人的足弓曲度變化， 作業(yè)上相當(dāng)麻煩且難以掌握磨修的精確度；而且，該修整好的矯正器在使用一段時間后，前述「翻腳刀」的情形將會有所改變，而需再一次進(jìn)行漸進(jìn)性的調(diào)節(jié)，屆時該舊有的矯正器即通常因修改調(diào)整不易而加以棄置，致使整個足弓矯正療程需多次重新訂做矯正器，造成極大的浪費(fèi)及使用者較大的費(fèi)用負(fù)擔(dān)。有鑒于此，本實(shí)用新型即在提供一種能改善上述傳統(tǒng)足弓矯正墊應(yīng)用上的缺失， 且應(yīng)用上更為方便經(jīng)濟(jì)的足弓矯正墊結(jié)構(gòu)及其使用方法。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的，在于改善設(shè)計(jì)一足弓主撐板，使該主撐板的底面，依需求布設(shè)有多個墊片定位部，配合該多個墊片定位部，并設(shè)有若干微調(diào)墊片，憑借該多個微調(diào)墊片，可針對使用者不同足弓區(qū)域的高弓變化情況，分別施予不同位置與數(shù)量的微調(diào)墊片的排列組合墊加，使能更精確且靈活地消除該足弓施壓率異常的情況。本實(shí)用新型依前述所提供的足弓墊結(jié)構(gòu)，由于用于墊加結(jié)合的微調(diào)墊片，可以隨需求而簡易拆裝調(diào)變，因此，對矯正過程所需要的定期追蹤與調(diào)整，提供了可行且方便的操作途徑，更能進(jìn)一步避免產(chǎn)生傳統(tǒng)足弓墊的使用過程，需因應(yīng)不同階段多次重新訂作的不便與浪費(fèi)。本實(shí)用新型依前述所提供的足弓墊結(jié)構(gòu)，其中的微調(diào)墊片，更可設(shè)成多種尺寸與規(guī)格(長短厚薄)，以方便不同高低調(diào)整需求的靈活運(yùn)用。本實(shí)用新型依前述所提供的足弓墊結(jié)構(gòu)，其中的微調(diào)墊片更具有一微傾斜斷面， 恰能符合足弓逐漸向內(nèi)或向外翻轉(zhuǎn)的通常型態(tài)，更方便于實(shí)際應(yīng)用的操作者。本實(shí)用新型依前述的足弓墊結(jié)構(gòu)，適可依造一完美而簡便的處理步驟，提供一精確的足弓矯正方法，使得足弓矯正的作業(yè)更為精確符合使用者的需求，且進(jìn)一步縮短且方便再調(diào)或復(fù)制的時程，以達(dá)降低作業(yè)成本的目的。為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型提供一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其包括至少一足弓主撐板及至少一微調(diào)墊片，該主撐板為一弓形板，且該主撐板底部布設(shè)有多個墊片定位部；微調(diào)墊片為扁薄片，且該微調(diào)墊片一側(cè)設(shè)有能夠與該墊片定位部相配合的相對定著部。所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其中，主撐板底部設(shè)有一中段彎弓區(qū)域，且該中段彎弓區(qū)域內(nèi)的墊片定位部密度高于其他區(qū)域。所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其中，微調(diào)墊片的輪廓為多邊形。所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其中，微調(diào)墊片的輪廓為弧周形。所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其中，墊片定位部與相對定著部為凹坑與凸柱型態(tài)的配合。所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其中，墊片定位部與相對定著部之間， 以易黏氈與相對易黏氈結(jié)合。所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其中，墊片定位部與相對定著部之間， 以易黏膠加以結(jié)合。所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其中，微調(diào)墊片的斷面為楔狀。所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其中，微調(diào)墊片的斷面為中間厚周邊薄的凸片造形。

圖1為一般人體足部骨架結(jié)構(gòu)的俯視示意圖；圖2為一般人體足部骨架結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)視示意圖；圖3為一般人體足部骨架結(jié)構(gòu)的前視示意圖；圖4為一般人膝部關(guān)節(jié)骨架結(jié)構(gòu)的示意圖；圖5為本實(shí)用新型足弓墊主撐板的立體示意圖；圖6為本實(shí)用新型的主撐板與微調(diào)墊片的組合前立體示意圖；圖7為本實(shí)用新型的主撐板與微調(diào)墊片的組合后立體示意圖；圖8為本實(shí)用新型的施作狀態(tài)斷面示意圖；圖9為足底掃描作業(yè)的實(shí)施示意圖；圖10為一般超高型足弓的足壓圖像示意圖；圖IOA為本實(shí)用新型對應(yīng)圖10所示足弓所進(jìn)行的主撐板及微調(diào)墊片的矯正組配型態(tài)示意圖；圖11為一般高型足弓的足壓圖像示意圖；圖IlA為本實(shí)用新型對應(yīng)圖11所示足弓所進(jìn)行的主撐板及微調(diào)墊片的矯正組配型態(tài)示意圖；圖12為一般微高型足弓的足壓圖像示意圖；圖12A為本實(shí)用新型對應(yīng)圖12所示足弓所進(jìn)行的主撐板及微調(diào)墊片的矯正組配型態(tài)示意圖；圖13為一般正常型足弓的足壓圖像示意圖；圖13A為本實(shí)用新型對應(yīng)第13圖所示足弓所進(jìn)行的主撐板及微調(diào)墊片的矯正組配型態(tài)示意圖；[0042]圖14為一般微平型足弓的足壓圖像示意圖；圖14A為本實(shí)用新型對應(yīng)圖14所示足弓所進(jìn)行的主撐板及微調(diào)墊片的矯正組配型態(tài)示意圖；圖15為一般扁平型足弓的足壓圖像示意圖；圖15A為本實(shí)用新型對應(yīng)圖15所示足弓所進(jìn)行的主撐板及微調(diào)墊片的矯正組配型態(tài)示意圖；圖16為一般超扁平型足弓的足壓圖像示意圖；圖16A為本實(shí)用新型對應(yīng)圖16所示足弓所進(jìn)行的主撐板及微調(diào)墊片的矯正組配型態(tài)示意圖。附圖標(biāo)記說明10-主撐板；11-墊片定位部；20-微調(diào)墊片；21-相對定著部； 22-較厚或較高凸的部位；30-足壓空白區(qū)；40-掃瞄機(jī)具；80-超高足弓；81-高足弓； 82-微高足弓；83-正常足弓；84-微平足弓；85-平足弓；86-超平足弓；91-內(nèi)側(cè)縱弓； 901-脛骨；902-股骨；903-內(nèi)側(cè)半月板；92-跟骨；93-距骨；94-舟狀骨；95-楔狀骨； 961 965-跖骨；97-外側(cè)縱弓；98-骰骨；99-橫弓。
具體實(shí)施方式
有關(guān)于本實(shí)用新型前的述的技術(shù)內(nèi)容，特點(diǎn)與功效，茲配合適當(dāng)?shù)膶?shí)施例參考圖， 期得以更詳細(xì)的說明如下；如圖所示請參閱圖5至圖8所示，本實(shí)用新型的足弓矯正墊，主要包括一足弓主撐板10及若干微調(diào)墊片20，該主撐板10的整體依照常態(tài)撐持需求制設(shè)成中央弧凸且前后降彎的弓形板，且其底面依需求率分配布設(shè)有多個墊片定位部11，該墊片定位部11可以是定位點(diǎn)或凹坑或黏膠或易黏氈等類似效果的結(jié)構(gòu)，上述的需求率通常在該主撐板10的底部中段彎弓區(qū)域的分配密度較高，以方便于在該部位進(jìn)行較精密地微調(diào)；另上述的微調(diào)墊片20具有柔軟支撐材料制成的扁薄片，其一側(cè)可配合前述墊片定位部11的型態(tài)，制成相搭配的相對定著部21，亦即可以是相對定位點(diǎn)凸柱或黏膠或相對易黏氈等類似效果的結(jié)構(gòu)，使該多個微調(diào)墊片20依需求位置，在主撐板10的底面進(jìn)行排列組合黏貼，此外，該多個微調(diào)墊片20 的輪廓可以依需求設(shè)成各種多邊形或弧周形(圖示概為葉狀形)，其斷面可以是呈楔狀或周邊薄中間厚的凸片造形(圖示概為楔狀)；而且可以制備多種厚度，以提供不同撐墊高度的需求。請參圖5至圖16A所示，本實(shí)用新型的足弓矯正墊的使用方法，先利用適當(dāng)掃瞄機(jī)具40(圖9所示)，對使用者的足底進(jìn)行踩踏足壓分配情形進(jìn)行掃描及記錄，以判斷使用者的足弓型態(tài)(例如圖10至圖16A即利用上述記錄衍生的足壓分布圖，以及對應(yīng)該足壓分布圖所進(jìn)行的足弓墊矯正作業(yè)示意圖)，而后依據(jù)該取得的記錄，對足壓空白區(qū)30進(jìn)行密度 (即數(shù)量較多而密集)或/及厚度較高的微調(diào)墊片20的墊加，例如圖10所示的超高足弓 80，以及圖11所示的高足弓81均為典型的案例，圖IOA及圖IlA即為相對應(yīng)的矯正作業(yè)實(shí)施例；反之，若足壓空白區(qū)30較小或接近無足壓空白區(qū)30時，即減少墊加微調(diào)墊片20的密度或/及厚度，例如圖13所示的正常足弓83，以及圖14所示的微平足弓84，即配合圖13A 及圖14A所為墊加較少或較薄微調(diào)墊片20的案例，圖15及圖16所示，則完全無足壓空白區(qū)30，則如圖15A及圖16A所示，而無需再墊加任何微調(diào)墊片20 ；而且，請參閱圖8所示，上述微調(diào)墊片20的墊加，通常是將較厚或較高凸的部位22，對應(yīng)于主撐板10的外側(cè)，以使得在踩踏過程，對足部的外側(cè)產(chǎn)生較大的支撐力，相對即產(chǎn)生較佳的防止足底外翻的效果；再者，上述微調(diào)墊片20的楔形邊及低周邊的設(shè)計(jì)，亦方便于相鄰微調(diào)墊片20高度的銜接，以提供支撐曲線的順暢度。 綜上所述，本實(shí)用新型的確足以提供一種可依照各種足弓異常型態(tài)，進(jìn)行微調(diào)處理的足弓矯正墊結(jié)構(gòu)及其處理方法，實(shí)施亦極為方便可行，不僅前所未有，更具有產(chǎn)業(yè)上的可利用性，確為一不可多得的創(chuàng)新無疑；再者，以上所述者，更僅系為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，當(dāng)不能以上述限定本實(shí)用新型可實(shí)施的范圍，即舉凡依照本實(shí)用新型申請專利范圍所述精神而為的簡易等效變化或修飾，皆應(yīng)屬于本實(shí)用新型所涵蓋及可主張的權(quán)利范圍， 合先陳明。
權(quán)利要求1.一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，包括至少一足弓主撐板及至少一微調(diào)墊片，該主撐板為一弓形板，且該主撐板底部布設(shè)有多個墊片定位部；該微調(diào)墊片為扁薄片，且該微調(diào)墊片一側(cè)設(shè)有能夠與該墊片定位部相配合的相對定著部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，主撐板底部設(shè)有一中段彎弓區(qū)域，且該中段彎弓區(qū)域內(nèi)的墊片定位部密度高于其他區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的輪廓為多邊形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的輪廓為弧周形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，墊片定位部與相對定著部為凹坑與凸柱型態(tài)的配合。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，墊片定位部與相對定著部為凹坑與凸柱型態(tài)的配合。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，墊片定位部與相對定著部為凹坑與凸柱型態(tài)的配合。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，墊片定位部與相對定著部之間，以易黏氈與相對易黏氈結(jié)合。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，墊片定位部與相對定著部之間，以易黏氈與相對易黏氈結(jié)合。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，墊片定位部與相對定著部之間，以易黏氈與相對易黏氈結(jié)合。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，墊片定位部與相對定著部之間，以易黏膠加以結(jié)合。
12.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，墊片定位部與相對定著部之間，以易黏膠加以結(jié)合。
13.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，墊片定位部與相對定著部之間，以易黏膠加以結(jié)合。
14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為楔狀。
15.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為楔狀。
16.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為楔狀。
17.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為楔狀。
18.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為楔狀。
19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為楔狀。
20.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為中間厚周邊薄的凸片造形。
21.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為中間厚周邊薄的凸片造形。
22.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為中間厚周邊薄的凸片造形。
23.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為中間厚周邊薄的凸片造形。
24.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為中間厚周邊薄的凸片造形。
25.根據(jù)權(quán)利要求11所述的一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，其特征在于，微調(diào)墊片的斷面為中間厚周邊薄的凸片造形。
專利摘要本實(shí)用新型有關(guān)一種可微調(diào)矯正區(qū)域的足弓矯正墊，主要提供一足弓主撐板及若干微調(diào)墊片，在該主撐板的底面，依需求布設(shè)有多數(shù)墊片定位部；憑借該多個微調(diào)墊片，針對使用者不同足弓區(qū)域的高弓變化情況，分別施在該主撐板的底部，以不同高度及數(shù)量的微調(diào)墊片的墊加組合，以達(dá)到簡易且精確矯正足弓施壓率的異常狀態(tài)，且方便于日后漸進(jìn)性矯正的調(diào)整。
文檔編號A61F5/01GK202184827SQ20112019421
公開日2012年4月11日 申請日期2011年6月10日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月10日
發(fā)明者陳升環(huán) 申請人:陳升環(huán)