專(zhuān)利名稱(chēng)：光學(xué)裝置及其操作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是與光學(xué)有夫，特別是關(guān)于ー種能夠依據(jù)個(gè)人皮膚上實(shí)際斑痣分布情形相對(duì)應(yīng)地調(diào)整其激光除斑痣時(shí)的激光參數(shù)的光學(xué)裝置及其操作方法。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，隨著光學(xué)技術(shù)不斷地發(fā)展，已發(fā)展出許多不同種類(lèi)的光學(xué)設(shè)備，并且應(yīng)用至日常生活中的各種領(lǐng)域里，例如光學(xué)檢測(cè)及激光美容等。一般而言，應(yīng)用于皮膚處理上的光學(xué)激光裝置可針對(duì)皮膚表面進(jìn)行美白、除斑痣、除刺青等處理項(xiàng)目。但實(shí)際上無(wú)論是斑、痣或刺青圖案，對(duì)于皮膚的影響區(qū)域并非僅分布于皮膚的表層而已，還可能會(huì)分布至皮膚表層以下的區(qū)域。舉例來(lái)說(shuō)，皮膚上常見(jiàn)的雀斑 (freckle)由于是分布于皮膚的表皮層，故可采用紅寶石激光來(lái)進(jìn)行除雀斑的程序；至于刺青由于是人為色素斑，其分布已深入至真皮，故需采用能量更強(qiáng)的激光。在目前實(shí)際進(jìn)行激光除斑的程序時(shí)，雖然會(huì)針對(duì)不同的深度及處理項(xiàng)目提供不同類(lèi)型及波長(zhǎng)的激光，然而，由于真正進(jìn)行處理時(shí)所采用的激光的能量強(qiáng)弱及作用時(shí)間長(zhǎng)短仍是以先前的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)作為參考依據(jù)，并非以患者個(gè)人實(shí)際的斑痣分布情形作為處理時(shí)的參考依據(jù)，故經(jīng)常會(huì)由于些許誤差或操作者主觀(guān)因素，導(dǎo)致患者感到不適(激光能量過(guò)高)或延遲整個(gè)處理過(guò)程(激光能量過(guò)低)的現(xiàn)象產(chǎn)生，亟需進(jìn)一步加以克服。因此，本發(fā)明提出ー種光學(xué)裝置及其操作方法，以解決上述問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例為ー種光學(xué)裝置。在此實(shí)施例中，光學(xué)裝置包含光學(xué)發(fā)射模塊、感測(cè)模塊及處理模塊。光學(xué)發(fā)射模塊是用以對(duì)皮膚表層的特定區(qū)域發(fā)射激光。感測(cè)模塊是用以感測(cè)位于皮膚表層的特定區(qū)域下方的組織分布信息。處理模塊是用以根據(jù)組織分布信息調(diào)整光學(xué)發(fā)射模塊對(duì)特定區(qū)域發(fā)射激光時(shí)的至少ー激光參數(shù)。在實(shí)際應(yīng)用中，光學(xué)發(fā)射模塊對(duì)特定區(qū)域發(fā)射激光是用以去除分布在特定區(qū)域及其下方組織的斑、痣或刺青。該至少一激光參數(shù)包含光學(xué)發(fā)射模塊發(fā)射激光的光點(diǎn)大小、波長(zhǎng)、發(fā)射能量及作用時(shí)間。實(shí)際上，感測(cè)模塊可通過(guò)光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄(Optical CoherenceTomography, OCT)技術(shù)對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行深層檢測(cè)。根據(jù)本發(fā)明的第二具體實(shí)施例為ー種光學(xué)裝置操作方法。在此實(shí)施例中，光學(xué)裝置是用以發(fā)射激光對(duì)皮膚表層的特定區(qū)域進(jìn)行表層處理。該光學(xué)裝置操作方法包含下列步驟(a)感測(cè)位于皮膚表層的特定區(qū)域下方的組織分布信息；(b)根據(jù)組織分布信息調(diào)整光學(xué)裝置對(duì)特定區(qū)域發(fā)射激光時(shí)的至少ー激光參數(shù)。相較于現(xiàn)有技術(shù)，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)裝置及其操作方法是通過(guò)光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄技術(shù)對(duì)于皮膚表層的受處理區(qū)域進(jìn)行深層的檢測(cè)程序，由此得到患者個(gè)人實(shí)際的斑痣分布情形，并據(jù)以調(diào)整光學(xué)裝置發(fā)射激光時(shí)的激光參數(shù)，使其達(dá)到適合患者的最佳化狀態(tài)。因此，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)裝置及其操作方法即能夠有效避免現(xiàn)有技術(shù)中由于些許誤差或操作者主觀(guān)因素導(dǎo)致人身不適(激光能量過(guò)高)或延遲整個(gè)處理過(guò)程(激光能量過(guò)低)的現(xiàn)象產(chǎn)生，不僅可以有效改善傳統(tǒng)激光除斑療程的缺點(diǎn)，亦可大幅提升消費(fèi)者對(duì)于激光除斑療程的滿(mǎn)意度。關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)與精神可以通過(guò)以下的發(fā)明詳述及所附圖式得到進(jìn)ー步的了解。


圖I是繪示根據(jù)本發(fā)明的第一具體實(shí)施例中的光學(xué)裝置的功能方塊圖。圖2是繪示光學(xué)裝置對(duì)皮膚表層的特定區(qū)域進(jìn)行光學(xué)感測(cè)并發(fā)射激光進(jìn)行處理的示意圖。圖3A及圖3B是分別繪示在皮膚表層選定欲進(jìn)行光學(xué)處理的特定區(qū)域的上視圖及 側(cè)視圖。圖3C及圖3D是分別繪示對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行網(wǎng)格定位并將特定區(qū)域分成復(fù)數(shù)個(gè)子區(qū)域的上視圖及側(cè)視圖。圖4是繪示根據(jù)本發(fā)明的第二具體實(shí)施例的光學(xué)裝置操作方法的流程圖。圖5是繪示圖4中的步驟SlO的詳細(xì)流程圖。圖6是繪示光學(xué)裝置實(shí)際進(jìn)行激光除斑程序的流程圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明SlO S12、S20 S32、SlOO S102 :流程步驟I :光學(xué)裝置10 :光學(xué)發(fā)射模塊12 :感測(cè)模塊14 :處理模塊SK :皮膚表層SR :特定區(qū)域SUB :子區(qū)域B1、B2:斑點(diǎn)
具體實(shí)施例方式本發(fā)明提出ー種光學(xué)裝置及其操作方法。光學(xué)裝置是通過(guò)光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄技術(shù)對(duì)皮膚表層的受處理區(qū)域進(jìn)行深層檢測(cè)，以得到患者個(gè)人實(shí)際的斑痣分布情形，并據(jù)以調(diào)整光學(xué)裝置發(fā)射激光時(shí)的激光參數(shù)，使其達(dá)到適合患者的最佳化狀態(tài)，由此改善傳統(tǒng)激光除斑療程的缺點(diǎn)。根據(jù)本發(fā)明的第一具體實(shí)施例為ー種光學(xué)裝置。在此實(shí)施例中，光學(xué)裝置的主要功用為對(duì)皮膚表層的特定區(qū)域發(fā)射最適合患者實(shí)際斑痣分布情形的激光，以順利地去除分布在特定區(qū)域及其下方組織的斑、痣或刺青，而又不致造成患者感到不適。請(qǐng)參照?qǐng)D1，圖I是繪示本實(shí)施例的光學(xué)裝置的功能方塊圖。如圖I所示，光學(xué)裝置I包含光學(xué)發(fā)射模塊10、感測(cè)模塊12及處理模塊14。處理模塊14分別耦接光學(xué)發(fā)射模塊10及感測(cè)模塊12。
接下來(lái)，將分別針對(duì)光學(xué)裝置I所包含的各模塊進(jìn)行詳細(xì)的介紹。光學(xué)發(fā)射模塊10是用以對(duì)皮膚表層的特定區(qū)域發(fā)射激光。實(shí)際上，光學(xué)發(fā)射模塊10所發(fā)射的激光的種類(lèi)并無(wú)特定的限制，端視實(shí)際使用時(shí)的需求而定。需注意的是，光學(xué)發(fā)射模塊10發(fā)射激光時(shí)所采用的激光參數(shù)，例如光點(diǎn)大小、波長(zhǎng)、發(fā)射能量及作用時(shí)間等，均是由處理模塊14所控制。感測(cè)模塊12是用以感測(cè)位于皮膚表層的特定區(qū)域下方的組織分布信息。實(shí)際上，上述的組織分布信息可包含欲去除的斑、痣及刺青在皮膚的表皮層及真皮層中的組織構(gòu)造及分布情形，由此提供患者實(shí)際斑、痣及刺青分布情形的詳細(xì)信息給處理模塊14。在此實(shí)施例中，感測(cè)模塊12可屬于會(huì)與皮膚表層接觸的接觸式(例如光學(xué)型式、電極型式或超音波型式)感測(cè)模塊，或是不會(huì)與皮膚表層接觸的非接觸式(例如光學(xué)型式)感測(cè)模塊，并無(wú)特定的限制。請(qǐng)參照?qǐng)D2，圖2是繪示光學(xué)裝置I對(duì)皮膚表層的特定區(qū)域進(jìn)行感測(cè)并發(fā)射激光進(jìn)行處理的示意圖。如圖2所示，若操作者已通過(guò)目視或其他方式在皮膚表層SK上選定欲進(jìn) 行光學(xué)處理的特定區(qū)域SR，光學(xué)裝置I將會(huì)通過(guò)感測(cè)模塊12對(duì)于皮膚表層SK上的特定區(qū)域SR進(jìn)行光學(xué)感測(cè)，以得到關(guān)于特定區(qū)域SR下方的組織分布信息。接著，光學(xué)裝置I再通過(guò)光學(xué)發(fā)射模塊10向特定區(qū)域SR發(fā)射激光。也就是說(shuō)，光學(xué)裝置I的感測(cè)模塊12與光學(xué)發(fā)射模塊10所作用的對(duì)象均為皮膚表層SK上欲進(jìn)行光學(xué)處理的特定區(qū)域SR。需說(shuō)明的是，如圖2所示，光學(xué)裝置I可具有平移及旋轉(zhuǎn)的功能，并且光學(xué)發(fā)射模塊10發(fā)射激光的方式可以有各種不同的選擇，例如光學(xué)發(fā)射模塊10可固定傾斜一角度發(fā)射激光，抑或光學(xué)發(fā)射模塊10可通過(guò)旋轉(zhuǎn)方式以不同角度發(fā)射激光，甚至是其他方式，并無(wú)特定的限制，意即光學(xué)發(fā)射模塊10或感測(cè)模塊12亦可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用或成本考量提供獨(dú)立的平移、旋轉(zhuǎn)功能。此外，當(dāng)光學(xué)發(fā)射模塊10對(duì)特定區(qū)域SR發(fā)射激光時(shí)，可先將感測(cè)模塊12關(guān)閉，或是讓感測(cè)模塊12開(kāi)啟持續(xù)進(jìn)行觀(guān)察，亦無(wú)特定的限制。接著，將通過(guò)實(shí)際例子說(shuō)明感測(cè)模塊12是如何對(duì)于皮膚表層SK上的特定區(qū)域SR進(jìn)行光學(xué)感測(cè)。需先說(shuō)明的是，感測(cè)模塊12亦可通過(guò)其他方式對(duì)于皮膚表層SK上的特定區(qū)域SR進(jìn)行光學(xué)感測(cè)，并不以此例為限。如圖3A及圖3B所示，操作者通過(guò)目視方式在皮膚表層SK選定欲進(jìn)行光學(xué)處理的特定區(qū)域SR，并且特定區(qū)域SR涵蓋了斑點(diǎn)BI及斑點(diǎn)B2。其中，斑點(diǎn)BI分布的范圍較大但深度較淺，故其顏色較淺，而斑點(diǎn)B2分布的范圍較小但深度較深，故其顏色較深。在實(shí)際應(yīng)用中，感測(cè)模塊12可直接對(duì)特定區(qū)域SR進(jìn)行深層檢測(cè)，或是先將特定區(qū)域SR分成復(fù)數(shù)個(gè)子區(qū)域SUB后，再分別對(duì)該等子區(qū)域SUB進(jìn)行深層檢測(cè)。在實(shí)際應(yīng)用中，感測(cè)模塊12可通過(guò)光學(xué)同調(diào)斷層掃貓(Optical Coherence Tomography, OCT)技術(shù)對(duì)該等子區(qū)域SUB進(jìn)行深層檢測(cè)，感測(cè)模塊12的縱向檢測(cè)深度通常為2 3公厘深，且其所采用的光波長(zhǎng)可為1300奈米或840奈米，但不以此為限。請(qǐng)參照?qǐng)D3C及圖3D，圖3C及圖3D所繪示的是感測(cè)模塊12通過(guò)網(wǎng)格定位的方式將特定區(qū)域SR分成復(fù)數(shù)個(gè)子區(qū)域SUB。其中，由于斑點(diǎn)BI分布的范圍較斑點(diǎn)B2來(lái)得大，故斑點(diǎn)BI所涵蓋的子區(qū)域SUB數(shù)目較斑點(diǎn)B2來(lái)得多。實(shí)際上，感測(cè)模塊12可通過(guò)微型攝像単元(未圖示)進(jìn)行上述網(wǎng)格定位的動(dòng)作，但不以此為限。此外，感測(cè)模塊12亦可通過(guò)其他方式將特定區(qū)域SR分成復(fù)數(shù)個(gè)子區(qū)域SUB，并不以此例的網(wǎng)格定位方式為限。
承上，當(dāng)感測(cè)模塊12已將特定區(qū)域SR分成復(fù)數(shù)個(gè)子區(qū)域SUB之后，感測(cè)模塊12分別對(duì)該等子區(qū)域SUB進(jìn)行深層檢測(cè)，由此得到關(guān)于每ー個(gè)子區(qū)域SUB的組織分布信息。因此，感測(cè)模塊12能夠得到斑點(diǎn)BI與斑點(diǎn)B2所分別涵蓋的子區(qū)域SUB的組織分布信息，并將其傳送至處理模塊14。同理，在實(shí)際應(yīng)用中，感測(cè)模塊12亦可通過(guò)上述方式對(duì)皮膚上的痣或刺青等進(jìn)行檢測(cè)，以得到其涵蓋子區(qū)域的組織分布信息。當(dāng)每ー個(gè)子區(qū)域SUB的組織分布信息均被傳送至處理模塊14后，處理模塊14將會(huì)根據(jù)每ー個(gè)子區(qū)域SUB的組織分布信息決定光學(xué)發(fā)射模塊10對(duì)特定區(qū)域SR的每ー個(gè)子區(qū)域SUB發(fā)射激光時(shí)所應(yīng)采用的激光參數(shù)的數(shù)值，并據(jù)以調(diào)整光學(xué)發(fā)射模塊10的激光參數(shù)。實(shí)際上，上述的激光參數(shù)可以是光學(xué)發(fā)射模塊10發(fā)射激光的光點(diǎn)大小、波長(zhǎng)、發(fā)射能量及作用時(shí)間，但不以此為限。舉例而言，假設(shè)處理模塊14根據(jù)某一子區(qū)域SUB的組織分布信息得知位于該子區(qū) 域SUB的一斑點(diǎn)分布深度相當(dāng)深，因此，為了能夠有效去除該斑點(diǎn)，處理模塊14必須將光學(xué)發(fā)射模塊10對(duì)該子區(qū)域SUB發(fā)射激光的發(fā)射能量增強(qiáng)(或?qū)⑵渥饔脮r(shí)間加長(zhǎng))。反之，若處理模塊14根據(jù)某一子區(qū)域SUB的組織分布信息得知位于該子區(qū)域SUB的斑點(diǎn)分布深度較淺，處理模塊14即需將光學(xué)發(fā)射模塊10對(duì)該子區(qū)域SUB發(fā)射激光的發(fā)射能量減弱(或?qū)⑵渥饔脮r(shí)間縮短)，以避免接受處理的患者產(chǎn)生不舒服及疼痛之感。在實(shí)際應(yīng)用中，當(dāng)感測(cè)模塊12完成特定區(qū)域的網(wǎng)格定位后，即會(huì)對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄，并將掃瞄結(jié)果傳送至處理模塊14，以利處理模塊14調(diào)整光學(xué)發(fā)射模塊10的激光參數(shù)。當(dāng)光學(xué)發(fā)射模塊10發(fā)射激光進(jìn)行激光除斑程序時(shí)，可先將感測(cè)模塊12關(guān)閉，或讓感測(cè)模塊12開(kāi)啟持續(xù)進(jìn)行觀(guān)察，并無(wú)特定的限制。進(jìn)行一段時(shí)間后，光學(xué)發(fā)射模塊10停止發(fā)射激光，并啟動(dòng)感測(cè)模塊12對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行激光處理后的光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄。如此周而復(fù)始，最終即可達(dá)成最適合患者本身的最佳化除斑程序，不僅可順利去除分布在特定區(qū)域及其下方組織的斑、痣或刺青，而又不致造成患者感到不適，有效改善了傳統(tǒng)激光除斑療程的缺點(diǎn)。根據(jù)本發(fā)明的第二具體實(shí)施例為ー種光學(xué)裝置操作方法。在此實(shí)施例中，光學(xué)裝置是用以發(fā)射激光對(duì)皮膚表層的特定區(qū)域進(jìn)行處理，例如去除分布于特定區(qū)域及其下方組織的斑、痣或刺青，但不以此為限。請(qǐng)參照?qǐng)D4，圖4是繪示此實(shí)施例的光學(xué)裝置操作方法的流程圖。如圖4所示，首先，該方法執(zhí)行步驟S10，感測(cè)位于皮膚表層的特定區(qū)域下方的組織分布信息。接著，該方法執(zhí)行步驟S12，根據(jù)組織分布信息調(diào)整光學(xué)裝置對(duì)特定區(qū)域發(fā)射激光時(shí)的至少ー激光參數(shù)。在實(shí)際應(yīng)用中，該至少一激光參數(shù)可包含光學(xué)裝置發(fā)射激光的光點(diǎn)大小、波長(zhǎng)、發(fā)射能量及作用時(shí)間，但不以此為限。在步驟SlO中，該方法可直接通過(guò)光學(xué)感測(cè)技術(shù)對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行深層檢測(cè)，或是先將特定區(qū)域分成復(fù)數(shù)個(gè)子區(qū)域后，再通過(guò)光學(xué)感測(cè)技術(shù)分別對(duì)該等子區(qū)域進(jìn)行深層檢測(cè)。在實(shí)際應(yīng)用中，上述的光學(xué)感測(cè)技術(shù)可以是光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄(Optical CoherenceTomography, OCT)技術(shù)，其縱向檢測(cè)深度通常為2 3公厘深，且其所采用的光波長(zhǎng)可為1300奈米或840奈米，但不以此為限。舉例而言，如圖5所示，在步驟SIO中，該方法可先執(zhí)行步驟S100，對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行網(wǎng)格定位并將特定區(qū)域分成復(fù)數(shù)個(gè)子區(qū)域。接著，該方法可再執(zhí)行步驟S102，通過(guò)光學(xué)感測(cè)技術(shù)分別對(duì)該等子區(qū)域進(jìn)行深層檢測(cè)，以得到關(guān)于該等子區(qū)域的組織分布信息。實(shí)際上，該方法亦可通過(guò)其他方式將特定區(qū)域分成復(fù)數(shù)個(gè)子區(qū)域，并不以此例的網(wǎng)格定位方式為限。需注意的是，上述步驟SlOO并非是該方法的必要步驟，亦即若操作者已通過(guò)目視或根據(jù)經(jīng)驗(yàn)判定了特定區(qū)域的確切位置，該方法并不需再對(duì)特定區(qū)域執(zhí)行網(wǎng)格定位的程序，即可直接通過(guò)光學(xué)感測(cè)技術(shù)對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行深層光學(xué)感測(cè)，以得到特定區(qū)域下方的組織分布信息。接下來(lái)，將通過(guò)激光除斑的流程圖來(lái)說(shuō)明光學(xué)裝置操作方法的實(shí)際操作過(guò)程。如圖6所示，當(dāng)選定欲進(jìn)行處理的特定區(qū)域(步驟S20)后，該方法將會(huì)對(duì)該特定區(qū)域進(jìn)行光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄(步驟S22)。接著，該方法根據(jù)光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄的掃瞄結(jié)果得到斑點(diǎn)在皮膚表層的分布深度(步驟S24)，井根據(jù)此一分布深度調(diào)整光學(xué)裝置發(fā)射激光的激光參數(shù)(步驟S26)。之后，光學(xué)裝置即發(fā)射激光對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行處理(步驟S28)。 經(jīng)過(guò)一段時(shí)間后，光學(xué)裝置停止發(fā)射激光，并重新執(zhí)行步驟S22，對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄。若該方法根據(jù)光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄的掃瞄結(jié)果確認(rèn)斑點(diǎn)已被移除(步驟S30)，則關(guān)閉光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄，完成整個(gè)激光除斑流程(步驟S32)。同理，在實(shí)際應(yīng)用中，該方法亦可通過(guò)上述方式對(duì)皮膚上的痣或刺青等進(jìn)行處理，以完成激光除痣或刺青的流程。相較于現(xiàn)有技術(shù)，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)裝置及其操作方法是通過(guò)光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄技術(shù)對(duì)于皮膚表層的受處理區(qū)域進(jìn)行深層的檢測(cè)程序，由此得到患者個(gè)人實(shí)際的斑痣分布情形，并據(jù)以調(diào)整光學(xué)裝置發(fā)射激光時(shí)的激光參數(shù)，使其達(dá)到適合患者的最佳化狀態(tài)。因此，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)裝置及其操作方法即能夠有效避免現(xiàn)有技術(shù)中由于些許誤差或操作者主觀(guān)因素導(dǎo)致人身不適(激光能量過(guò)高)或延遲整個(gè)處理過(guò)程(激光能量過(guò)低)的現(xiàn)象產(chǎn)生，不僅可以有效改善傳統(tǒng)激光除斑療程的缺點(diǎn)，亦可大幅提升消費(fèi)者對(duì)于激光除斑療程的滿(mǎn)意度。通過(guò)以上較佳具體實(shí)施例的詳述，是希望能更加清楚描述本發(fā)明的特征與精神，而并非以上述所公開(kāi)的較佳具體實(shí)施例來(lái)對(duì)本發(fā)明的范疇加以限制。相反地，其目的是希望能涵蓋各種改變及具相等性的安排于本發(fā)明所欲申請(qǐng)的專(zhuān)利范圍的范疇內(nèi)。
權(quán)利要求
1.ー種光學(xué)裝置，包含 一光學(xué)發(fā)射模塊，用以對(duì)一皮膚表層的一特定區(qū)域發(fā)射ー激光； ー感測(cè)模塊，用以感測(cè)位于該皮膚表層的該特定區(qū)域下方的ー組織分布信息；以及ー處理模塊，耦接該光學(xué)發(fā)射模塊及該感測(cè)模塊，用以根據(jù)該組織分布信息調(diào)整該光學(xué)發(fā)射模塊對(duì)該特定區(qū)域發(fā)射該激光時(shí)的至少ー激光參數(shù)。
2.如權(quán)利要求I所述的光學(xué)裝置，其中該至少一激光參數(shù)包含該光學(xué)發(fā)射模塊發(fā)射該激光的光點(diǎn)大小、波長(zhǎng)、發(fā)射能量及作用時(shí)間。
3.如權(quán)利要求I所述的光學(xué)裝置，其中該感測(cè)模塊對(duì)該特定區(qū)域進(jìn)行深層檢測(cè)，以得到該組織分布信息。
4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)裝置，其中該感測(cè)模塊是通過(guò)一光學(xué)同調(diào)斷層掃瞄技術(shù)對(duì)該特定區(qū)域進(jìn)行深層檢測(cè)。
5.如權(quán)利要求I所述的光學(xué)裝置，其中該感測(cè)模塊是先將該特定區(qū)域分成復(fù)數(shù)個(gè)子區(qū)域后，再對(duì)該等子區(qū)域進(jìn)行深層檢測(cè)，以得到該組織分布信息。
6.ー種操作一光學(xué)裝置的方法，該光學(xué)裝置發(fā)射ー激光對(duì)一皮膚表層的一特定區(qū)域進(jìn)行處理，該方法包含下列步驟 (a)感測(cè)位于該皮膚表層的該特定區(qū)域下方的ー組織分布信息；以及 (b)根據(jù)該組織分布信息調(diào)整該光學(xué)裝置對(duì)該特定區(qū)域發(fā)射該激光時(shí)的至少ー激光參數(shù)。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其中該至少一激光參數(shù)包含該光學(xué)裝置發(fā)射該激光的光點(diǎn)大小、波長(zhǎng)、發(fā)射能量及作用時(shí)間。
8.如權(quán)利要求6所述的方法，其中步驟(a)包含下列步驟 通過(guò)一光學(xué)感測(cè)技術(shù)對(duì)該特定區(qū)域進(jìn)行深層檢測(cè)，以得到該組織分布信息。
9.如權(quán)利要求8所述的方法,其中該光學(xué)感測(cè)技術(shù)為一光學(xué)同調(diào)斷層掃貓技術(shù)。
10.如權(quán)利要求6所述的方法，其中步驟(a)包含下列步驟 (al)將該特定區(qū)域分成復(fù)數(shù)個(gè)子區(qū)域；以及 (a2)分別對(duì)該等子區(qū)域進(jìn)行深層檢測(cè)，以得到關(guān)于該等子區(qū)域的該組織分布信息。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)一種光學(xué)裝置。光學(xué)裝置包含光學(xué)發(fā)射模塊、感測(cè)模塊及處理模塊。光學(xué)發(fā)射模塊是用以對(duì)皮膚表層的特定區(qū)域發(fā)射激光。感測(cè)模塊是用以感測(cè)位于皮膚表層的特定區(qū)域下方的組織分布信息。處理模塊是用以根據(jù)組織分布信息調(diào)整光學(xué)發(fā)射模塊對(duì)特定區(qū)域發(fā)射激光時(shí)的至少一激光參數(shù)。
文檔編號(hào)A61B18/20GK102670302SQ201110097420
公開(kāi)日2012年9月19日 申請(qǐng)日期2011年4月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月15日
發(fā)明者周忠誠(chéng), 王威 申請(qǐng)人:明達(dá)醫(yī)學(xué)科技股份有限公司