專利名稱：一種半成品全口義齒的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種義齒，尤其涉及一種用于加工成全口義齒的半成 品全口義齒。
背景技術(shù)：
全口義齒在口腔修復(fù)中是一門比較復(fù)雜的學(xué)科，全口義齒的制作 工藝是比較復(fù)雜的，傳統(tǒng)的全口義齒裝牙需要十三個(gè)步驟，分為取印 模(分一次，兩次)，灌模型，做蠟型，做頜堤，求頜關(guān)系，上頜架， 排牙，雕蠟，吹光，裝盒，去蠟填膠，加溫，開盒打磨拋光。工藝要 求高，技術(shù)難度大。
現(xiàn)在有了義齒技工為醫(yī)生做出成品義齒，這確實(shí)減輕了醫(yī)生的工 作，可是也給醫(yī)生和患者留有弊端，我們現(xiàn)在的技工幾乎是沒有上過 臨床，患者的口腔及面型是多變的，而醫(yī)生與技工的溝通容易出現(xiàn)偏 差，在送往加工廠的路上，模型易出現(xiàn)斷裂、垂直距離變化、頜關(guān)系 發(fā)生變化等問題，這樣做出來的牙也將發(fā)生變化，需要調(diào)磨，返工，
此時(shí)到患者口腔的牙已經(jīng)沒有牙的形態(tài)了，高度沒有原來的1/2，所 謂的尖窩相對(duì)，變成了平面接觸了，造成了周期長(zhǎng)，義齒質(zhì)量難以保 證。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種半成品全口義齒，在利用該半成品全口義齒制作全口義齒，工序少，時(shí)間短，而且質(zhì)量好。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明半成品全口義齒包括上頜和下頜，
上頜和下頜皆由義齒、基托組成，基托的厚度為0.5mm—0.8mm，基托 的基托邊緣沿其伸展方向有2mm左右的加工余量。
因?yàn)榛械暮穸戎挥?.5mm—0.8mm,基托黏膜組織面還沒有 成形，黏膜組織面與牙槽嵴的相應(yīng)部位留有足夠的空間來適宜各種形 狀的牙槽嵴，再加以襯墊就適合各個(gè)患者了；基托邊緣具有2mm左 右的加工余量，這樣適合醫(yī)生在患者的口腔對(duì)比后調(diào)磨，磨去多余的 基托組織。以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說
明


圖1是本發(fā)明半成品全口義齒的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖2是本發(fā)明的上頜側(cè)視圖。 圖3是本發(fā)明的下頜側(cè)視圖。
具體實(shí)施方式
人的面型基本可分為五種，圓形，卵圓形，尖圓形，四方形，上 小下大形，本發(fā)明半成品全口義齒相應(yīng)分為五種式樣，每種式樣半成 品全口義齒由上頜1和下頜2組成，上、下頜皆包括義齒3和基托4, 基托4的基托黏膜組織面6和基托黏膜光滑面7之間的厚度為0.5mm 一0.8mm，基托各部分的邊緣5沿其伸展方向具有2mm左右的加工余 量，即上頜前部前庭溝轉(zhuǎn)折處基托邊緣向上延伸2mm ，上頜義齒基托后面的部分后部為腭小凹后4mm，下頜前部外側(cè)前庭溝轉(zhuǎn)折處向 下延伸2mm,內(nèi)側(cè)口底黏膜與牙槽嵴黏膜的交界處向下延伸2mm ， 下頜后緣覆蓋磨牙后墊2mm。
基托4的厚度只有0.5mm—0.8mm,基托黏膜組織面6還沒有成 形，黏膜組織面6與牙槽嵴的相應(yīng)部位留有足夠的空間來適宜各種形 狀的牙槽嵴，再加以襯墊就適合各個(gè)患者了；基托邊緣5具有2mm 左右的加工余量，這樣適合醫(yī)生在患者的口腔對(duì)比后調(diào)磨，磨去多余 的基托組織。
權(quán)利要求1、一種半成品全口義齒，包括上頜(1)和下頜(2)，上頜(1)和下頜(2)皆由義齒(3)、基托(4)組成，其特征在于所述基托(4)的厚度為0.5mm-0.8mm，基托(4)的基托邊緣(5)沿其伸展方向有2mm左右的加工余量。
專利摘要本實(shí)用新型半成品全口義齒包括上頜和下頜，上頜和下頜皆由義齒、基托組成，基托的厚度為0.5mm-0.8mm，基托的基托邊緣沿其伸展方向有2mm左右的加工余量。因?yàn)榛械暮穸戎挥?.5mm-0.8mm，基托黏膜組織面還沒有成形，黏膜組織面與牙槽嵴的相應(yīng)部位留有足夠的空間來適宜各種形狀的牙槽嵴，再加以襯墊就適合各個(gè)患者了；基托邊緣具有2mm左右的加工余量，這樣適合醫(yī)生在患者的口腔對(duì)比后調(diào)磨，磨去多余的基托組織。利用該半成品全口義齒制作全口義齒，工序少，時(shí)間短，而且質(zhì)量好。
文檔編號(hào)A61C13/08GK201422932SQ20092004089
公開日2010年3月17日 申請(qǐng)日期2009年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月20日
發(fā)明者涂本洲 申請(qǐng)人:涂本洲