專利名稱：具有不透輻射標(biāo)志物的自膨脹支架以及制造這種支架的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有附著于其至少一個(gè)端部的多個(gè)不透輻射標(biāo)志物的、徑向自膨 脹的支架，以及制造這種支架的方法。
背景技術(shù)：
血管支架通常用于各種血管疾病的治療。利用導(dǎo)管輸送系統(tǒng)將它們進(jìn)行腔內(nèi)植入 以將其推進(jìn)到支架點(diǎn)，它們?cè)诖伺蛎浺詳U(kuò)張堵塞或變窄的血管。在植入過程中，主要使用X 射線成像技術(shù)來監(jiān)視血管中支架的準(zhǔn)確位置。為了確保精確定位，支架的良好可見度是至 關(guān)重要的。這通常通過附著由其射線不透性大于支架材料的材料制成的適當(dāng)標(biāo)志物來實(shí) 現(xiàn)。另外，這些標(biāo)志物必須足夠大以提供良好的X射線造影。為了在輸送過程中準(zhǔn)確地確 定支架的位置，在支架的兩端放置該標(biāo)志物是有利的。W0-A-2002/015820中公開了一種管狀支架，該管狀支架具有附著于所選擇的圍 繞其圓周彎折區(qū)上的多個(gè)不透輻射標(biāo)志物。該標(biāo)志物是勺形的，從而在支架處于徑向壓縮 狀態(tài)時(shí)形成幾乎完整的標(biāo)志物材料環(huán)，這在腔內(nèi)輸送過程中提供了特別高級(jí)別的射線不透 性。因此，實(shí)現(xiàn)了增加對(duì)射線的可見度而不增加該標(biāo)志物位置處的支架壁厚，并保持了小橫 截面輪廓和對(duì)流體流動(dòng)的大徑向開口。理想地，在上述這種標(biāo)志物環(huán)中保持很小的標(biāo)志物 數(shù)量，從而使每個(gè)標(biāo)志物足夠大以便即使在支架處于徑向膨脹狀態(tài)時(shí)提供足夠的可見度。 而且，標(biāo)志物/彎折區(qū)接頭的數(shù)量應(yīng)該保持最小以便在放置所述支架后降低沒有這樣一個(gè) 接頭之后標(biāo)志物在人體中損失的風(fēng)險(xiǎn)。對(duì)于自膨脹支架的情況，利用同軸導(dǎo)管輸送系統(tǒng)執(zhí)行到血管的較窄部分的輸送。 因此，所述支架通過外殼保持其徑向壓縮狀態(tài)。使用外殼內(nèi)部的同軸圓柱以相對(duì)于外殼軸 向地移動(dòng)所述支架。一旦所述支架放置在血管內(nèi)的理想位置，撤回該外殼，而所述內(nèi)部圓 柱推擠受壓縮支架的一端，這加速所述支架從所述輸送系統(tǒng)中釋放。該過程可施加于諸如 W0-A-2002/015820中公開的這樣一個(gè)支架上，其將重點(diǎn)集中于軸向地突出于支架環(huán)的支柱 基體軸向端之外的不透輻射標(biāo)志物上。這個(gè)集中于標(biāo)志物和彎折區(qū)之間、從此處由懸臂支 撐的接頭的重點(diǎn)，已被本發(fā)明人視為能夠并且應(yīng)該減少或甚至去除的特征。本專利申請(qǐng)聲明GB 0 717 481. 6的優(yōu)先權(quán)。在英國專利局對(duì)該英國優(yōu)先權(quán)申 請(qǐng)的權(quán)利要求所做的檢索報(bào)告中引用了如下文件:W02006/047977 ；DE-U1-20 2004 014 789 ；W0 2004/028408和EP-A-1433 438。前兩份引用文件所公開的是來自同一發(fā)明人的相 同發(fā)明。W0 2006/047997公開了具有端部環(huán)的支架，其將不透輻射標(biāo)志物材料裝入支架金 屬的接收部件的凹座內(nèi)。這樣，該標(biāo)志物材料具有暴露的管腔和遠(yuǎn)離管腔(abluminal)的 部分圓柱形的、相對(duì)的主表面和相應(yīng)于圍繞標(biāo)志物在其主表面之間的整個(gè)圓圓周緣的接收 部件的厚度。該標(biāo)志物在支架環(huán)的圓周方向具有小于其中容納有該標(biāo)志物的部分支架的圓 周長度的寬度。通過所述容納部分支撐所有側(cè)面的該標(biāo)志物從徑向位于支架環(huán)、標(biāo)志物的圓錐面部分以及容納部分外部的位置進(jìn)入該凹座，所述凹座用來將該標(biāo)志物引導(dǎo)到容納部 分內(nèi)部的緊貼地裝配的位置。W0 2004/028408公開的內(nèi)容與此類似。至于EP-A-1 433 438，其公開了支架上的 其他種類的不透輻射標(biāo)志物，尤其是圍繞支架的支柱纏繞的不透輻射材料絲或者圍繞支架 的支柱卷曲的不透輻射材料套筒。不言而喻，支架在設(shè)置該標(biāo)志物的徑向方向局部較厚。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是提供一種附著有不透輻射標(biāo)志物的自膨脹支架，其在所述支 架從所述輸送系統(tǒng)釋放過程中提供高度機(jī)械穩(wěn)定性并保持暴露于輻射的良好可見度。這個(gè) 目的通過具有權(quán)利要求1的技術(shù)特征的一種自膨脹支架實(shí)現(xiàn)。從所述從屬權(quán)利要求中得到 本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式。本發(fā)明提供一種具有兩個(gè)端部環(huán)以通過同軸導(dǎo)管輸送系統(tǒng)輸送的自膨脹支架。在 所述支架釋放過程中推動(dòng)的所述端部環(huán)具有多個(gè)分布在其圓周的間隔的彎折區(qū)，其中一些 承載有不透輻射標(biāo)志物。本構(gòu)想是使所有彎折區(qū)分擔(dān)釋放應(yīng)力，而不僅僅是承載不透輻射 標(biāo)志物。一般而言，此處所用的術(shù)語“彎折區(qū)”是指兩個(gè)或更多個(gè)支柱端連接的區(qū)域或者兩 個(gè)或更多個(gè)支柱交叉的區(qū)域。然而，并不局限于不本解釋。很大數(shù)量的不同支柱樣式用于 或至少提議用于管狀支架。這些樣式中的每一個(gè)將具有將一端限定到支架管和允許標(biāo)志物 附著的點(diǎn)。術(shù)語“彎折區(qū)”定義成包括這些端點(diǎn)。使所述不透輻射標(biāo)志物成形，并將其定位在所選擇的彎折區(qū)，從而使在所述支架 釋放過程中施加于所述端部環(huán)上的所述壓縮應(yīng)力分配在所述標(biāo)志物和不承載標(biāo)志物的所 述彎折區(qū)之間。這樣，所述標(biāo)志物/彎折區(qū)接頭上的應(yīng)變達(dá)到最小，并降低了諸如斷裂或變 形的物理損壞的風(fēng)險(xiǎn)。該概念適用于任何支架設(shè)計(jì)，并允許使用僅小數(shù)量的標(biāo)志物，同時(shí)所 述支架的穩(wěn)定性得到保證。標(biāo)志物的數(shù)量保持最小具有巨大優(yōu)點(diǎn)。第一，具有更少的標(biāo)志 物/彎折區(qū)接頭降低了標(biāo)志物斷裂或彎曲的危險(xiǎn)。自膨脹支架具有極其優(yōu)良的彈性，但盡 管如此，并不是不會(huì)變形。隨心跳收縮的疲勞性能對(duì)血管支架是至關(guān)重要的。支架基體局 部承受的、超過政府疲勞測(cè)試監(jiān)管協(xié)議制訂的最大值的任何應(yīng)力，能夠?qū)λ鲋Ъ艿钠?壽命產(chǎn)生不利影響。既然在支架釋放過程中甚至是接頭的最輕微的損壞都會(huì)縮短支架的使 用壽命，這個(gè)事實(shí)強(qiáng)調(diào)健壯支架設(shè)計(jì)的重要性。而且，標(biāo)志物全體在支架處于徑向壓縮狀態(tài) 時(shí)形成的環(huán)的圓周受支架管自身的圓周限制。這樣，使標(biāo)志物的數(shù)量保持很小允許更大的 標(biāo)志物尺寸并因而允許改良處于徑向膨脹狀態(tài)的支架的可見度。所謂“環(huán)形支架”顯示了沿其軸向長度布置的、在環(huán)形物端部之間互連并具有分布 在所述環(huán)形物端部圓周的多個(gè)彎折區(qū)的多個(gè)環(huán)形物。在一個(gè)實(shí)施方式中，這些環(huán)形物端部 中的每一個(gè)都比所述支架的端部環(huán)包括更多的彎折區(qū)。因?yàn)閺较驂嚎s狀態(tài)下所述支架在 其整個(gè)結(jié)構(gòu)中具有同種圓周，所以所述支架的端部環(huán)的圓周將與所述環(huán)形物端部的圓周相 同，盡管所述支架包括更少的彎折區(qū)。因此，可增加承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)的圓周范圍， 這允許附著更大的標(biāo)志物，且對(duì)于上述的可見度是有利的。如果不承載標(biāo)志物的支架的端 部環(huán)的彎折區(qū)比分布在所述環(huán)形物端部圓周中的彎折區(qū)具有更小的圓周范圍，則可在所述 支架的端部環(huán)中為所述標(biāo)志物創(chuàng)建甚至更大的空間。因此，上述布置便于在不改變所述支 架環(huán)的彎折區(qū)的數(shù)量的情況下可能增大標(biāo)志物的尺寸，而這可能影響支架的諸如穩(wěn)定性和彈性的機(jī)械性能。在另一優(yōu)選實(shí)施方式中給出了在所述支架的端部環(huán)中為所述標(biāo)志物創(chuàng)建更多空 間的進(jìn)一步方法，其中不承載標(biāo)志物的所述支架的端部環(huán)的彎折區(qū)比分布在所述環(huán)形物端 部的圓周中的彎折區(qū)具有平行于所述支架長軸的更大的軸向長度。優(yōu)選地，所述標(biāo)志物在粘合于膠接口處的所述彎折區(qū)，更優(yōu)選地，通過焊接連接。 此處的焊接形式通過所述標(biāo)志物的形狀和尺寸確定。在優(yōu)選實(shí)施方式中，承載標(biāo)志物的彎折區(qū)在形狀、尺寸或者形狀和尺寸兩方面都 與不承載標(biāo)志物的彎折區(qū)不同。承載標(biāo)志物的彎折區(qū)可以例如具有更小的尺寸從而為所附 著的標(biāo)志物或者特別適于特定焊接類型的形狀留下更大的空間(取決于所述標(biāo)志物的形 狀和尺寸)。在一個(gè)實(shí)施方式中，每個(gè)彎折區(qū)為具有平行于所述支架的長軸的軸向長度的桿 (stem)。優(yōu)選地，承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)桿比不承載標(biāo)志物的彎折區(qū)桿具有更小的長度。 該布置允許在相鄰的更長的彎折區(qū)之間容納部分標(biāo)志物(或者甚至是整個(gè)標(biāo)志物)。優(yōu)選地，所述標(biāo)志物和彎折區(qū)具有相同的厚度，但是不排除具有更大徑向厚度的 標(biāo)志物。一方面，由于應(yīng)該保持所述支架的小橫截面輪廓和對(duì)流體流動(dòng)的大徑向開口，增加 的標(biāo)志物厚度超過所述支架的環(huán)壁厚度是不理想的。另一方面，所述標(biāo)志物的射線不透性 和機(jī)械性能取決于它們的厚度。因此，當(dāng)暴露于輻射時(shí)，標(biāo)志物太薄將帶來很差的對(duì)比度， 并可能易于變形或者甚至斷裂。在優(yōu)選實(shí)施方式中，每個(gè)標(biāo)志物比不承載標(biāo)志物的每個(gè)彎折區(qū)對(duì)著端部環(huán)圓周的 更大的圓弧，這提高了支架端部的可見度。在任何情況下，標(biāo)志物在圓周方向的寬度通常等 于或大于，但不小于所述標(biāo)志物所附著的所述彎折區(qū)的圓周寬度。許多不同的材料可用于所述支架和不透輻射標(biāo)志物的制造。優(yōu)選地，所述支架由 鎳鈦形狀記憶合金制成。這種合金為可靠的支架操作提供了所必需的機(jī)械性能，即高度的 彈性和物理穩(wěn)定性。所述不透輻射標(biāo)志物優(yōu)選地由鉭、金或由鎳、鈦和第三種不透輻射金屬 制成的三元合金制成。所有這些金屬提供了高度的不透射線性。上述支架和標(biāo)志物材料都 是無毒的，并且提供與人體良好的生理兼容性。因?yàn)殒団佒Ъ芎豌g標(biāo)志物的電化學(xué)勢(shì)類似， 對(duì)于鎳鈦支架，鉭標(biāo)志物是特別好的。在另一優(yōu)選實(shí)施方式中，在所述支架處于徑向壓縮狀態(tài)時(shí)，所述標(biāo)志物不能軸向 地延伸至不承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)之外。這種布置可例如通過使承載標(biāo)志物的彎折區(qū)比 不承載標(biāo)志物的彎折區(qū)更短來實(shí)現(xiàn)。優(yōu)選地，在將所述支架從所述輸送系統(tǒng)釋放的過程中， 所述標(biāo)志物和不承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)鄰接或者物理接觸于所述輸送系統(tǒng)的推動(dòng)部分， 即同軸內(nèi)圓柱。在這種構(gòu)造中，在支架釋放過程中施加于端部環(huán)上的壓縮應(yīng)力分布在所述 標(biāo)志物和沒有標(biāo)志物的彎折區(qū)之間，使得對(duì)所述支架造成物理損害的風(fēng)險(xiǎn)達(dá)到最小。通過 選擇小數(shù)量的位于所述支架的端部環(huán)中的彎折區(qū)，并使承載標(biāo)志物的彎折區(qū)足夠短，仍然 可以維持對(duì)于優(yōu)良的可見度來說足夠大的標(biāo)志物尺寸。在另一優(yōu)選實(shí)施方式中，在所述支架處于徑向壓縮狀態(tài)時(shí)，所述標(biāo)志物的部分邊 緣放置在所述相鄰的彎折區(qū)，從而所述輸送系統(tǒng)在所述支架釋放過程中施加于所述標(biāo)志物 的壓縮應(yīng)力通過所述標(biāo)志物傳遞到所述相鄰的彎折區(qū)。優(yōu)選地，在此構(gòu)造中，所述標(biāo)志物軸 向地高于不承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)。在此構(gòu)造中，可實(shí)現(xiàn)標(biāo)志物尺寸增大，而仍然維持標(biāo) 志物和沒有標(biāo)志物的彎折區(qū)之間的外加壓力的分布。
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所述標(biāo)志物可通過上面提及的W0-A-2002/015820中所描述的方法焊接于所述彎 折區(qū)。然而，在一個(gè)變型中，所述標(biāo)志物和彎折區(qū)可沿支架的縱軸彼此推進(jìn)而沒有任何相對(duì) 的徑向運(yùn)動(dòng)，例如，通過提供各標(biāo)志物與穿過所述焊接區(qū)、彼此面對(duì)面的彎折區(qū)表面之間的 形狀配合來實(shí)現(xiàn)。所述形狀配合通過所述標(biāo)志物和彎折區(qū)上的操作斜坡面實(shí)現(xiàn)，各操作斜 坡面共同防止沿所述標(biāo)志物和彎折區(qū)的寬度方向的任何相對(duì)圓周滑動(dòng)運(yùn)動(dòng)。這樣，在所述 標(biāo)志物焊接于所述彎折區(qū)之前，所述標(biāo)志物被引導(dǎo)到與各彎折區(qū)圓周對(duì)齊的位置。


圖1是示出了根據(jù)第一優(yōu)選實(shí)施方式的、其上附著有不透輻射標(biāo)志物的支架的激 光切割；圖2示出了根據(jù)第二優(yōu)選實(shí)施方式的、其上附著有不透輻射標(biāo)志物的支架的激光 切割的一端；圖3示出了根據(jù)第二優(yōu)選實(shí)施方式的、處于支架的徑向的膨脹狀態(tài)的端部環(huán)的一 部分；以及圖4是支架一端的斷片的視圖，其示出了包括標(biāo)志物、且位于不承載任何標(biāo)志物 的較長彎折區(qū)的側(cè)面的彎折區(qū)；
具體實(shí)施例方式圖1示出了根據(jù)第一優(yōu)選實(shí)施方式的、附著有由鉭制成的不透輻射標(biāo)志物14并由 鎳鈦諾制造的徑向自膨脹的支架10的激光切割。標(biāo)志物14焊接于彎折區(qū)12’，并一直延 伸到不承載標(biāo)志物12的彎折區(qū)。這樣，在支架釋放過程中通過支架推動(dòng)器環(huán)形物P施加于 端部環(huán)11上的壓縮應(yīng)力由標(biāo)志物14和不承載標(biāo)志物的彎折區(qū)12分擔(dān)，因?yàn)猷徑油苿?dòng)器P 的不僅僅是標(biāo)志物14，還有不承載標(biāo)志物14的彎折區(qū)12。所述支架包括每個(gè)環(huán)形物端部 的圓周具有14個(gè)彎折區(qū)12”的四個(gè)互連的環(huán)形物16。與此相反，端部環(huán)11、11’僅具有12 個(gè)彎折區(qū)12、12’。既然彎折區(qū)12的圓周范圍等于彎折區(qū)12”的圓周范圍，這使彎折區(qū)12’ 和附著于其上的標(biāo)志物14的圓周范圍(circumferential extent)較大。除此以外，彎折 區(qū)12的軸向長度大于彎折區(qū)12”的軸向長度，這允許較長的標(biāo)志物。因而，為容納大的標(biāo) 志物14而特別設(shè)計(jì)本實(shí)施方式從而優(yōu)化支架10的可見度。圖2示出了根據(jù)第二優(yōu)選實(shí)施方式的、其上附著有由鉭制造的不透輻射標(biāo)志物且 由鎳鈦諾制造的支架的激光切割的一端。標(biāo)志物14焊接于彎折區(qū)12’并軸向地高于不承 載標(biāo)志物14的彎折區(qū)12。如所見的那樣，調(diào)整彎折區(qū)12’的形狀以允許與標(biāo)志物14的堅(jiān) 固焊接，并使其與彎折區(qū)12的形狀明顯不同。類似于第一優(yōu)選實(shí)施方式，彎折區(qū)12’與彎 折區(qū)12相比而增加的圓周范圍通過位于環(huán)形物16的端部和端部環(huán)11之間的彎折區(qū)12、 12’、12”的數(shù)量不同來幫助實(shí)現(xiàn)。而且，在支架10處于徑向壓縮狀態(tài)時(shí)，彎折區(qū)12在其形 狀構(gòu)造成容納T形標(biāo)志物14的外圍部分的頂端處具有凹槽18。這樣，盡管在支架10的釋 放過程中僅有標(biāo)志物14與輸送系統(tǒng)的推動(dòng)部分P物理接觸的事實(shí)，施加于標(biāo)志物上的壓縮 應(yīng)力分布在所述標(biāo)志物和相鄰彎折區(qū)之間。本構(gòu)造允許容納特別大的標(biāo)志物14且同時(shí)維 持支架10的穩(wěn)定。圖3示出了根據(jù)本實(shí)施方式的、處于支架10的徑向膨脹狀態(tài)的端部環(huán) 11的一部分。在這里，凹槽18更清晰可見。
轉(zhuǎn)到圖4，我們?cè)诖颂幙吹搅宋挥趦蓚€(gè)長彎折區(qū)12之間并焊接于短彎折區(qū)12’上 的鉭標(biāo)志物14。該標(biāo)志物通過兩個(gè)小橋48、50接合于鉭管40。一旦執(zhí)行了焊接，這些橋 48、50便于標(biāo)志物14以不復(fù)雜的方式通過施加外力從鉭管40分離。然而，橋48、50不是必 需特征，也可以應(yīng)用將標(biāo)志物14從鉭管40處分離的其他方法。特別地，可使用單個(gè)激光器 來將標(biāo)志物14焊接于彎折區(qū)12’，以及將標(biāo)志物14從鉭管40處分離。在這種情況下，首 先執(zhí)行焊接步驟，接著在增加激光的輸出功率后執(zhí)行分離步驟?？稍趩蝹€(gè)操作中執(zhí)行這兩 個(gè)步驟從而改良制造工藝的效率。如果使用上述分離方法，鉭管40和標(biāo)志物14之間的連 接剖面可以是任何可想象得到的形狀，例如，單個(gè)較寬的橋。如上面提及的W0 02/015820 中所解釋的那樣，鉭管40和支架的鎳鈦形狀記憶合金管以及彎折區(qū)12軸向接近，于是彎折 區(qū)12和標(biāo)志物14的面對(duì)的表面20和22形成面對(duì)面關(guān)系，為將它們焊接在一起做好了準(zhǔn) 備。本領(lǐng)域的讀者將會(huì)理解，在該通過軸向靠近的接近過程中，兩個(gè)工件之間不需要任何相 對(duì)徑向運(yùn)動(dòng)。至于標(biāo)志物14和彎折區(qū)12之間的圓周對(duì)齊，從圖4中可以看到，面對(duì)的表面20、 22是如何整體地形成配合部分24、26、28、30，其中它們共同將前進(jìn)的標(biāo)志物14引導(dǎo)到與彎 折區(qū)對(duì)齊從而在標(biāo)志物14和兩個(gè)側(cè)面相接的彎折區(qū)12之間分別具有間隙60、62。面對(duì)的表面20、22通過機(jī)械的“形狀匹配”實(shí)現(xiàn)圓周引導(dǎo)功能。當(dāng)標(biāo)志物14的鼻 部70接近彎折區(qū)12’，它可沿面對(duì)的表面20滑動(dòng)，直到它滑過軸向?qū)R的直邊24，此時(shí)鼻 部70的直邊26面對(duì)直邊24。然而，到那時(shí)候，由位于反向角表面30側(cè)面的、標(biāo)志物14的面對(duì)的表面22中的V 形凹座將容納位于面對(duì)的表面20中的反向角表面部分28側(cè)面的、彎折區(qū)12’的面對(duì)的表 面20中的V形頂點(diǎn)。通過表面28和30的鄰接來防止表面24和26之間間隔的任何加寬 (反之亦然)。這樣，接近于彎折區(qū)12’并準(zhǔn)備好焊接于其上的標(biāo)志物14不能再相對(duì)于彎 折區(qū)12’圓周地自由運(yùn)動(dòng)。恰恰在這種“焊接準(zhǔn)備”配置中，標(biāo)志物14的端面56與側(cè)面相 接的彎折區(qū)12的端面52和54位于同一平面中，橫穿支架的軸線。這樣，當(dāng)支架通過推動(dòng) 器P推動(dòng)時(shí)，推力相等地施加端面52、54和56上。所例示的實(shí)施方式通過實(shí)例例示，本領(lǐng)域的讀者將會(huì)理解，在以下權(quán)利要求的范 圍內(nèi)，這些特征可孤立于一個(gè)實(shí)施方式，并可從中提取出來用于其它實(shí)施方式中。
權(quán)利要求
一種徑向自膨脹支架(10)，其具有徑向方向的厚度和端部環(huán)(11、11’)之間的軸向長度(L)，以便通過同軸導(dǎo)管輸送系統(tǒng)進(jìn)行輸送，在所述支架從所述輸送系統(tǒng)釋放的過程中，所述同軸導(dǎo)管輸送系統(tǒng)的一部分推動(dòng)所述支架的一端，而從所述支架的遠(yuǎn)離管腔表面周圍收回外殼，于是所述支架從徑向壓縮狀態(tài)膨脹成徑向膨脹狀態(tài)，待推動(dòng)的所述端部環(huán)(11)具有圓周，多個(gè)間隔的彎折區(qū)(12)分布在所述圓周中，所選擇的彎折區(qū)(12’)承載不透輻射標(biāo)志物(14)，其特征在于所述標(biāo)志物成形，并位于所選擇的彎折區(qū)上，從而在所述支架釋放過程中使施加于所述端部環(huán)上的壓縮應(yīng)力分配在所述標(biāo)志物和不承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)之間。
2.如權(quán)利要求1所述的支架，其中，所述支架包括沿其軸向長度布置的多個(gè)環(huán)形物 (16)，所述環(huán)形物在環(huán)形物端部間互連并具有分布在所述環(huán)形物端部的圓周中的多個(gè)彎折 區(qū)(12”)，每個(gè)所述環(huán)形物端部比所述支架的端部環(huán)包括更多的彎折區(qū)。
3.如權(quán)利要求2所述的支架，其中，不承載標(biāo)志物的所述支架的端部環(huán)的彎折區(qū)比分 布在所述環(huán)形物端部的圓周中的彎折區(qū)具有更大的平行于所述支架的長軸的軸向長度。
4.如權(quán)利要求2或3所述的支架，其中，不承載標(biāo)志物的所述支架的端部環(huán)的彎折區(qū)比 分布在所述環(huán)形物端部的圓周中的彎折區(qū)具有更小的圓周范圍。
5.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，所述標(biāo)志物在膠接口粘合于所述彎 折區(qū)。
6.如權(quán)利要求1至4中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，所述標(biāo)志物通過焊接附著于所述彎 折區(qū)。
7.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)與不承載 標(biāo)志物的所述彎折區(qū)具有不同的形狀。
8.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)與不承載 標(biāo)志物的所述彎折區(qū)具有不同的尺寸。
9.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，每個(gè)彎折區(qū)為具有平行于所述支架 的長軸的軸向長度的桿，其中，承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)桿比不承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū) 桿具有更小的長度。
10.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，所述標(biāo)志物和所述彎折區(qū)具有相同的厚度。
11.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，每個(gè)標(biāo)志物比不承載標(biāo)志物的每個(gè) 彎折區(qū)對(duì)著所述端部環(huán)的圓周的更大的弧。
12.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，所述支架由鎳鈦形狀記憶合金制成。
13.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，所述不透輻射標(biāo)志物由鉭、金或由 鎳、鈦和第三種不透輻射金屬制成的三元合金制成。
14.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，在所述支架的徑向壓縮狀態(tài)下，所 述標(biāo)志物不軸向地延伸至不承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)之外。
15.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，在所述支架的徑向壓縮狀態(tài)下，在 所述支架從所述輸送系統(tǒng)釋放的過程中，所述標(biāo)志物和不承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)都暴露于所述支架的端部環(huán)，以直接接收來自所述輸送系統(tǒng)的推動(dòng)部分的推力。
16.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，其中，在所述支架的徑向壓縮狀態(tài)下，所 述標(biāo)志物的外圍部分放置在相鄰的彎折區(qū)上，從而使由所述輸送系統(tǒng)在所述支架的釋放過 程中施加于所述標(biāo)志物上的壓縮應(yīng)力通過所述標(biāo)志物傳遞到所述相鄰的彎折區(qū)。
17.如權(quán)利要求16所述的支架，其中，所述標(biāo)志物軸向地高于不承載標(biāo)志物的所述彎 折區(qū)。
18.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的支架，所述支架包括延伸至承載不透輻射標(biāo)志 物的每個(gè)彎折區(qū)的整個(gè)寬度并且位于所述彎折區(qū)與所述標(biāo)志物之間的焊接區(qū)。
19.一種將不透輻射標(biāo)志物固定于徑向自膨脹支架的彎折區(qū)的方法，其中，所述標(biāo)志物 推進(jìn)到相對(duì)于所述彎折區(qū)的固定位置內(nèi)，然后在所述彎折區(qū)和所述標(biāo)志物之間的焊接區(qū)焊 接于所述彎折區(qū)，其特征在于所述標(biāo)志物和彎折區(qū)到所述固定位置的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，不使元件相對(duì)于所述支架的縱向軸 線、在徑向方向運(yùn)動(dòng)。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述標(biāo)志物和所述彎折區(qū)顯示了穿過所述焊接 區(qū)面向彼此的各個(gè)面對(duì)的表面，所述面對(duì)的表面包括一旦所述標(biāo)志物處于所述固定位置中 則禁止相對(duì)圓周滑動(dòng)運(yùn)動(dòng)的機(jī)械形狀配合。
21.如權(quán)利要求20所述的方法，其中，當(dāng)所述標(biāo)志物軸向地接近所述彎折區(qū)時(shí)，通過 相配合的所述標(biāo)志物和所述彎折區(qū)上的斜坡面設(shè)置所述機(jī)械形狀配合，以將所述標(biāo)志物和 所述彎折區(qū)引導(dǎo)成在所述焊接區(qū)內(nèi)環(huán)繞地排列配置，以備將所述標(biāo)志物和彎折區(qū)焊接在一 起。
22.一種支架輸送系統(tǒng)，其承載如權(quán)利要求1至18中的任一項(xiàng)所述的支架或通過如權(quán) 利要求19至21中的任一項(xiàng)所述的處理制成的支架，該系統(tǒng)包括位于所述支架一端、與所述 標(biāo)志物和不承載標(biāo)志物的所述彎折區(qū)二者鄰接的支架推動(dòng)器。
全文摘要
在支架于身體內(nèi)腔的支架點(diǎn)處的釋放過程中，通過近中心收縮環(huán)繞的外殼而從自膨脹支架的一端推動(dòng)自膨脹支架，可將不可接受的大應(yīng)力施加于支架的部分支柱網(wǎng)。為了將支架設(shè)置在身體內(nèi)腔中，通常裝配具有不透輻射標(biāo)志物于支架的端部環(huán)。本發(fā)明包括布置所述標(biāo)志物從而使它們與端部環(huán)中沒有標(biāo)志物的部分分配通過端部推動(dòng)而施加于支架上的應(yīng)力，因此大應(yīng)力由端部環(huán)中的所有支架的支柱更均等地分配。
文檔編號(hào)A61F2/91GK101854890SQ200880105999
公開日2010年10月6日 申請(qǐng)日期2008年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月7日
發(fā)明者波林·維斯, 馬丁·施倫 申請(qǐng)人:安杰梅德醫(yī)療技術(shù)有限公司