專利名稱：具有冷卻的導(dǎo)電導(dǎo)管的斷層成像系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種類型的電源耦合系統(tǒng)，其例如用于將電源耦合到斷層成 像系統(tǒng)(例如，磁共振成像系統(tǒng))等需要電力的電路(例如，需要電力來用 于其通電的超導(dǎo);茲體)。
背景技術(shù)：
在磁共振成像(MRI)領(lǐng)域中， 一個(gè)》茲共振成像系統(tǒng)通常包括一個(gè)超導(dǎo) 》茲體、 一個(gè)梯度線圈系統(tǒng)、復(fù)數(shù)個(gè)場(chǎng)線圏、復(fù)數(shù)個(gè)勻場(chǎng)線圈和一個(gè)病床。超 導(dǎo)磁體經(jīng)提供以便產(chǎn)生較強(qiáng)的均勻靜態(tài)磁場(chǎng)(稱為B。場(chǎng))，以便極化處于測(cè) 試中的對(duì)象中的核自旋。梯度線圈系統(tǒng)通常包括安置在超導(dǎo)-茲體內(nèi)的三對(duì)正 交線圈，以便產(chǎn)生梯度磁場(chǎng)。當(dāng)在使用中時(shí)，梯度磁場(chǎng)共同地并循序地疊加 在靜態(tài)磁場(chǎng)上，以便提供與處于測(cè)試中的對(duì)象相關(guān)聯(lián)的成像體積的選擇性空 間激勵(lì)。
在超導(dǎo)磁體的制造期間，在維護(hù)期間和/或在安裝超導(dǎo)磁體時(shí)，有必要 通常使用直流(DC)電源使超導(dǎo)磁體通電以產(chǎn)生所需的靜態(tài)磁場(chǎng)。以受控的 方式將電流供應(yīng)給超導(dǎo)磁體的線圈以便控制用于冷卻超導(dǎo)磁體的致冷劑的 所謂的"蒸發(fā)(boil-off )"，該過程被稱為"送電(ramping )"。類似地， 有必要將電力提供給梯度線圈以便對(duì)其進(jìn)行操作。
然而，由于需要給超導(dǎo)磁體送電所需的電流載運(yùn)電導(dǎo)線擁有較大的橫截 面積以便防止導(dǎo)線的過熱，所以所述導(dǎo)線較沉重。出于此和其它性質(zhì)上的原 因，所謂的"送電導(dǎo)線"較昂貴。
類似地，由于涉及到較高的電流，所以用于給梯度線圈供電的導(dǎo)線也擁 有較大的橫截面積且較沉重及昂貴。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種斷層成像系統(tǒng)，其包括 一個(gè)超導(dǎo)磁體和復(fù)數(shù)個(gè)梯度線圈，以及一個(gè)冷卻布置，所述冷卻布置用于通過使冷卻液 流經(jīng)梯度線圈來冷卻所述梯度線圈。所述冷卻布置包括一個(gè)冷卻回路，其自 身包括一個(gè)將冷卻液載運(yùn)到梯度線圈的向外分支和一個(gè)將冷卻液載運(yùn)離開 梯度線圈的返回分支。所述向外分支和所述返回分支的每一者包括一流體載 運(yùn)導(dǎo)管。所述向外分支和所述返回分支的每一者的至少一部分是由導(dǎo)電導(dǎo)管
形成；且通過所述導(dǎo)電導(dǎo)管提供從電源到所述超導(dǎo)》茲體的電連接。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種斷層成像系統(tǒng)，其包括 一個(gè)超導(dǎo)磁 體和復(fù)數(shù)個(gè)梯度線圈，以及一個(gè)冷卻布置，所述冷卻布置用于通過使冷卻液 流經(jīng)梯度線圈來冷卻所述梯度線圈。所述冷卻布置包括一個(gè)冷卻回路，其自 身包括一個(gè)將冷卻液載運(yùn)到梯度線圈的向外分支和一個(gè)將冷卻液載運(yùn)離開 梯度線圈的返回分支。所述向外分支和所述返回分支的每一者包括一流體載 運(yùn)導(dǎo)管。通過第一和第二導(dǎo)電導(dǎo)管提供從電源到所述超導(dǎo)^茲體的電連接。所 述第一導(dǎo)電導(dǎo)管的孔的第一端流體耦合到所述向外分支的孔；且所述第二導(dǎo) 電導(dǎo)管的孔的第一端流體耦合到所述返回分支的孔。一電隔離橋接導(dǎo)管流體 耦合在所述第一和第二導(dǎo)電導(dǎo)管的第二端之間，進(jìn)而提供一個(gè)冷卻所述第一 和第二導(dǎo)電導(dǎo)管的冷卻回路。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種斷層成像系統(tǒng)，其包括 一個(gè)超導(dǎo)磁 體和復(fù)數(shù)個(gè)梯度線圈，以及一個(gè)冷卻布置，所述冷卻布置用于通過使冷卻液 流經(jīng)梯度線圈來冷卻所述梯度線圈。所述冷卻布置包括一個(gè)冷卻回路，其自 身包括一個(gè)將冷卻液載運(yùn)到梯度線圈的向外分支和一個(gè)將冷卻液載運(yùn)離開 梯度線圈的返回分支。所述向外分支和所述返回分支的每一者包括一流體載 運(yùn)導(dǎo)管。所述向外分支和所述返回分支的每一者的至少一部分是由導(dǎo)電導(dǎo)管 形成。通過所述導(dǎo)電導(dǎo)管提供從電源到所述梯度線圈的電連接。
因此，可能提供一種將電力提供給斷層成像系統(tǒng)的電路的電源耦合系 統(tǒng)，其成本相對(duì)較低，但不會(huì)導(dǎo)致電導(dǎo)體過熱。通過使用導(dǎo)電的流體載運(yùn)導(dǎo) 管，歸因于導(dǎo)管的共享使用，所以可能避免需要"實(shí)心"電導(dǎo)線，進(jìn)而減少了所使用的電導(dǎo)體的重量和成本。在某些實(shí)施例中，還可能通過避免需要一 組"實(shí)心，，電導(dǎo)體并需要組織導(dǎo)線的定位以便不會(huì)有釁倒的危險(xiǎn)，而減少空 間要求。此外，通過減少對(duì)一組電導(dǎo)體的需要，而減少運(yùn)輸成本，且簡(jiǎn)化了 與在現(xiàn)場(chǎng)提供電導(dǎo)體相關(guān)聯(lián)的后勤方面的考慮。


現(xiàn)將參看附圖，僅以實(shí)例方式描述本發(fā)明的 一部分的至少 一個(gè)實(shí)施例，
附圖中
圖l是構(gòu)成本發(fā)明的一實(shí)施例的采用電流導(dǎo)體的磁共振成像系統(tǒng)的一部 分的示意圖2是構(gòu)成本發(fā)明的另一實(shí)施例的采用電流導(dǎo)體的;茲共振成像系統(tǒng)的一 部分的示意圖；以及
圖3是構(gòu)成本發(fā)明的又一實(shí)施例的采用電流導(dǎo)體的》茲共振成像系統(tǒng)的示 意圖。
具體實(shí)施例方式
在以下描述內(nèi)容中，相同的參考標(biāo)號(hào)將用于標(biāo)識(shí)類似部件。 參看圖1， /磁共振成像(MRI)系統(tǒng)IOO在此實(shí)例中分布在兩個(gè)室之間 掃描室102,例如通過使用所謂的法拉第籠將所述掃描室102與射頻(RF) 穿透隔離；以及設(shè)備室104。兩個(gè)室都包括假吊頂(false ceiling) 106， 其提供一個(gè)用于隱藏目的的吊頂空隙107，這稍后在本文中將明白。 一個(gè)超 導(dǎo)^f茲體單元108位于掃描室102中，所述超導(dǎo)^f茲體單元108包括一個(gè)低溫恒 溫器110，在所述低溫恒溫器110中收納一個(gè)超導(dǎo)石茲體(未圖示)。低溫恒溫 器110配備有一個(gè)機(jī)械致冷器(也未圖示)，其安置在形成于低溫恒溫器110 的一側(cè)的塔臺(tái)112內(nèi)。低溫恒溫器110具有一個(gè)中心孔114，成對(duì)的梯度線 圈116位于中心孔114中。
掃描室102與設(shè)備室104之間的分隔壁118裝配有一個(gè)RF穿透面板120， 其用于在掃描室102與設(shè)備室104之間傳送冷卻劑管道和電纜，而不損害掃
6描室102的RF屏蔽。MRI系統(tǒng)-使用一種電源耦合系統(tǒng)。
在此方面， 一個(gè)水冷卻器拒122位于設(shè)備室104中，遠(yuǎn)離超導(dǎo)磁體單元 108的任何顯著的磁場(chǎng)影響。 一個(gè)便攜式電源124也位于設(shè)備室104內(nèi)；在 此實(shí)例中，電源124是用空氣冷卻的。當(dāng)然，技術(shù)人員應(yīng)了解，電源124不 需要是便攜式的，且可永久地安裝在設(shè)備室104內(nèi)。 一個(gè)或多于一個(gè)系統(tǒng)電 子元件拒收納控制超導(dǎo)磁體的操作的磁體監(jiān)督系統(tǒng)和其它控制及測(cè)量設(shè)備。 超導(dǎo)磁體單元108還包括其它設(shè)備，例如，復(fù)數(shù)個(gè)場(chǎng)線圈、復(fù)數(shù)個(gè)勻場(chǎng)線圏 和一個(gè)病床。然而，技術(shù)人員可將MRI系統(tǒng)100的這些特征理解為是存在的， 且因此出于描述的清楚和簡(jiǎn)明起見，本文將不進(jìn)一步對(duì)其進(jìn)行描述。
梯度線圈116是載運(yùn)電流的，且因此產(chǎn)生約20KW的熱量。因此，有必 要冷卻梯度線圈116，以便(尤其)防止對(duì)超導(dǎo)》茲體(如先前所提及，所述 超導(dǎo)磁體被維持在非常低的溫度)的加熱。在第一實(shí)施例中，水冷卻器拒122 因此耦合到一個(gè)由橡膠管或任何其它合適的彈性體材料形成的冷卻回路 126，該冷卻回路126部分延伸到吊頂空隙107中。冷卻回路126的第一向 外分支128因此延伸到吊頂空隙107中，且直接穿過RF穿透面板120。第一 分支128接著繼續(xù)穿過吊頂空隙107,隨后下降穿過掃描室側(cè)的假吊頂106， 且耦合到經(jīng)提供以用于冷卻梯度線圈116的一個(gè)適當(dāng)?shù)牡谝欢丝?(未圖示)。 類似地，冷卻回路126的第二返回分支130延伸到設(shè)備室側(cè)的吊頂空隙107 中，且也直接穿過RF穿透面板120。第二分支130接著繼續(xù)穿過吊頂空隙 107,隨后下降穿過掃描室側(cè)的假吊頂106,且耦合到經(jīng)提供以用于冷卻梯度 線圈116的一個(gè)適當(dāng)?shù)牡诙丝?(未圖示)。
第一送電導(dǎo)線132耦合到電源124的負(fù)端子134,且延伸到吊頂空隙107 中，隨后穿過RF穿透面板120中的可移除子面板，以用于在RF穿透面板120 的掃描室側(cè)的耦合。類似地，第二送電導(dǎo)線136耦合到電源124的正端子138, 且也延伸到吊頂空隙107中，隨后穿過RF穿透面板120中的可移除子面板， 以用于在RF穿透面板120的掃描室側(cè)的耦合。
7在RF穿透面板120的掃描室側(cè)，第一電導(dǎo)體140在其第一端處與第一 耦合142裝配在一起，且經(jīng)由第一耦合142耦合到正極第二送電導(dǎo)線136。 第一電導(dǎo)體140的第二端耦合到塔臺(tái)112中的一個(gè)合適的第一連接器(未圖 示)，所述連接器經(jīng)保留以用于正極連接到低溫恒溫器110內(nèi)的超導(dǎo)》茲體的 線圏(未圖示)。類似地，第二電導(dǎo)體144在其第一端處與第二耦合146裝 配在一起，且經(jīng)由第二耦合146耦合到負(fù)極第一送電導(dǎo)線132。第二電導(dǎo)體 144的第二端耦合到塔臺(tái)112中的一個(gè)合適的第二連接器(未圖示)，所述連 接器經(jīng)保留以用于負(fù)極連接到低溫恒溫器110內(nèi)的超導(dǎo)磁體的線圈(未圖 示)。
當(dāng)然，如果將不移除電源124,那么技術(shù)人員應(yīng)了解，第一和第二送電 導(dǎo)線132、136應(yīng)經(jīng)由復(fù)數(shù)個(gè)經(jīng)過濾的連接器而不是直接通過RF穿透面板120 的可移除子面板分別耦合到第二和第一電導(dǎo)體140、 144。
第一和第二電導(dǎo)體140、 144是管狀的，且因此每一者包括一孔，冷卻 液(例如，水)可流經(jīng)所述孔。在此實(shí)例中，第一和第二電導(dǎo)體140、 144 由任何合適的導(dǎo)電材料(例如，銅)形成，且可彈性變形。然而，可提供所 使用的材料所準(zhǔn)許的任何合適程度的柔性。
在第一電導(dǎo)體140的第一端處提供第一流體入口 148,且其經(jīng)由由與第 一分支128相同的材料形成的第一橋接導(dǎo)管152而流體耦合第一電導(dǎo)體140 的孔與冷卻回路126的第一分支128的第一分接點(diǎn)150。當(dāng)然，如果需要， 可形成第一分支128以便避免需要特定的流體耦合端口 (例如，第一分接點(diǎn) 150)，且第一橋接導(dǎo)管152可與第一分支128—體形成。
在第二電導(dǎo)體144的第一端處提供第二流體入口 154，且其經(jīng)由由與第 二分支130相同的材料形成的第二橋接導(dǎo)管158而流體耦合第二電導(dǎo)體144 的孔與冷卻回路126的第二分支130的第二分接點(diǎn)156。當(dāng)然，如果需要， 也可形成第二分支130以便避免需要特定的流體耦合端口 (例如，第二分接 點(diǎn)156 ),且第二橋接導(dǎo)管158可與第二分支130 —體形成。為了防止流體從第一和第二電導(dǎo)體140、 144的末端流出，第一和第二 管狀電導(dǎo)體140、 144的末端可裝配有或一體形成有適當(dāng)?shù)慕K止件，或可形 成各自的孔以便在到達(dá)第一和/或第二電導(dǎo)體140、 144的末端之前終止。實(shí) 際上，所述孔的終止不一定必須特別靠近第一和/或第二電導(dǎo)體140、 144的 末端，距離取決于第一和/或第二電導(dǎo)體140、 144的熱傳導(dǎo)特性，例如，約 0.2 m,但此距離可依據(jù)第一和/或第二電導(dǎo)體140、 144的孔與其各別實(shí)心 末端部分(終止部分)之間的橫截面面積的匹配來修改。
為了提供冷卻液的返回，第三橋接導(dǎo)管160安置于第一和第二電導(dǎo)體 140、 144的第二末端處，且流體耦合第一和第二電導(dǎo)體140、 144的孔。在 此方面，在第一電導(dǎo)體140的第二末端處提供第三流體入口 162，且在第二 電導(dǎo)體144的第二末端處提供第四流體入口 164，第三橋接導(dǎo)管160在第三 和第四流體入口 162、 164的各別末端處耦合到所述第三和第四流體入口 162、 164。第三橋接導(dǎo)管160在此實(shí)例中由與冷卻回路126的第一和第二分 支128、 130相同的材料形成，且是電絕緣體，以便防止在第一與第二電導(dǎo) 體140、 144之間形成短路。
如將了解的那樣，第一和第二電導(dǎo)體140、 144與第三橋接導(dǎo)管160的 組合形成附屬于冷卻回路126的獨(dú)立冷卻回路。實(shí)際上，由第一和第二電導(dǎo) 體140、 144以及第三橋接導(dǎo)管160形成的獨(dú)立冷卻回路可視為冷卻回路126 的分支或"支道(spur)"。在此實(shí)例中，獨(dú)立冷卻回路依賴于冷卻回路126。
在操作中，用于冷卻梯度線圏116的冷卻液在耦合到水冷卻器拒122的 冷卻回路126中循環(huán)。某些冷卻液從冷卻回路126部分分出或轉(zhuǎn)移，且流入 由第一和第二電導(dǎo)體140、 144以及第三橋接導(dǎo)管160提供的獨(dú)立冷卻回路 內(nèi)。因此，第一分支128的分出的冷卻液的比例通過流過第一電導(dǎo)體140而 遵循向外路徑，且接著遵循返回路徑通過第二電導(dǎo)體144返回到冷卻回路 126的第二分支130。
第一和第二電導(dǎo)體140、 144憑借其各別導(dǎo)電能力而形成超導(dǎo)磁體與電源124之間的電路的一部分。因此，第一和第二電導(dǎo)體140、 144與第一和 第二送電導(dǎo)線132、 136以及電源124的組合可用于使超導(dǎo)磁體通電。因?yàn)?超導(dǎo)磁體的實(shí)際通電是已知的，所以出于描述的清楚和簡(jiǎn)明起見，本文將不 進(jìn)一步描述通電過程。理解管狀第一和第二電導(dǎo)體140、 144用于傳導(dǎo)用于 使超導(dǎo)磁體通電的電流就足夠。然而，歸因于冷卻液通過第一和第二電導(dǎo)體 140、 144的流動(dòng)所提供的冷卻，第一和第二電導(dǎo)體140、 144不會(huì)過熱。因 此，在使用導(dǎo)體的大量減小的橫截面面積的同時(shí)，第一和第二電導(dǎo)體140、 144的各別溫度被維持在可接受的溫度界限內(nèi)。
如果需要，可在第一和/或第二電導(dǎo)體140、 144和/或第一和第二橋接 導(dǎo)管152、 158中提供流控制裝置(例如，閥)，以便在完成超導(dǎo)》茲體的通電 時(shí)防止冷卻液在第一和第二電導(dǎo)體140、 144中流動(dòng)，并保存水冷卻器拒122 的冷卻容量。
轉(zhuǎn)向圖2，在另一實(shí)施例中，冷卻回路126以不同方式經(jīng)配置以使得橡 膠導(dǎo)管用于在分隔壁118的設(shè)備室側(cè)且部分在掃描室中形成第一和第二分支 128、 130，第一和第二分支128、 130延伸穿過RF穿透面板120。在分隔壁 118的掃描室側(cè)，第一電導(dǎo)體140用于完成第一分支128，且第二電導(dǎo)體144 用于完成冷卻回路126的第二分支130。在此方面，可采用任何合適的耦合 來將第一和第二分支128、 130的電絕緣部分分別耦合到第一和第二電導(dǎo)體 140、 144。
從各別耦合點(diǎn)，第一電導(dǎo)體140延伸穿過吊頂空隙107，隨后下降穿過 假吊頂106,以耦合到經(jīng)提供以用于冷卻梯度線圈116的適當(dāng)?shù)牡谝欢丝?未 圖示)。類似地，在另一各別耦合點(diǎn)后，第二電導(dǎo)體144延伸穿過吊頂空隙 107，隨后下降穿過假吊頂106，以耦合到經(jīng)提供以用于冷卻梯度線圏116 的適當(dāng)?shù)牡诙丝?(未圖示)。因此，在分隔壁118的掃描室側(cè)，管狀電導(dǎo) 體用于冷卻回路中，以用于梯度線圈116，而不是由彈性體材料形成的電絕 緣導(dǎo)管。然而，第一和第二電導(dǎo)體140、 144由非導(dǎo)電柔性導(dǎo)管部分(未圖示)終止，以便簡(jiǎn)化安裝，并將第一和第二電導(dǎo)體140、 144與梯度線圈116 隔禺。
第一電導(dǎo)體140在其第一端處與第一耦合142裝配在一起(但在此實(shí)施 例中包括一個(gè)第一配線200 ),且經(jīng)由第一耦合142經(jīng)由RF穿透面板120的 子面板耦合到第二送電導(dǎo)線136。第二電導(dǎo)體144在其第一端處與第二耦合 146裝配在一起(但在此實(shí)施例中包括一個(gè)第二配線202 )，且經(jīng)由第二耦合 146經(jīng)由RF穿透面板120的子面板耦合到第一送電導(dǎo)線132。在第一電導(dǎo)體 140的第二端處，裝配第三耦合204 (在此實(shí)施例中包括一個(gè)第三配線206 ), 且耦合到塔臺(tái)112中的合適的第一連接器(未圖示)，所述連接器經(jīng)保留以 用于正極連接到低溫恒溫器110內(nèi)的超導(dǎo)i茲體的線圈(未圖示)。類似地， 在第二電導(dǎo)體144的第二端處，裝配第四耦合208 (且在此實(shí)施例中包括一 個(gè)第四配線210)，且耦合到塔臺(tái)112中的合適的第二連接器(未圖示)，所 述連接器經(jīng)保留以用于負(fù)極連接到低溫恒溫器110內(nèi)的超導(dǎo)^f茲體的線圈(未 圖示)。
在操:作中，所提供的第一和第二電導(dǎo)體140、 144用以輔助將冷卻液傳 遞到梯度線圈116，但也用作那些用于使超導(dǎo)磁體通電的目的的電導(dǎo)體，而 不是在掃描室102中部署獨(dú)立送電導(dǎo)線的目的的電導(dǎo)體。
為了避免疑惑，應(yīng)了解，第一、第二、第三和第四耦合應(yīng)被解釋為視情 況分別包括第一、第二、第三和第四插入電纜。
如果需要，電源124可經(jīng)水冷卻。在此類實(shí)施例中，第一和第二導(dǎo)管212、 214可從冷卻回路126的第一和第二分支128、 130分出，且耦合到經(jīng)水冷卻 電源的合適的流體入口和出口 。
應(yīng)了解，先前實(shí)施例的電源124無需為傳統(tǒng)意義上的電源，且所述術(shù)語 可包括任何合適的電力源，且不僅是用于使超導(dǎo)磁體通電的電源。在此方面， 且參看圖3,先前實(shí)施例的第一和第二電導(dǎo)體140、 144用于向梯度線圈116 提供電力。因此，梯度線圈"放大器"或電源300由其正端子302耦合到第
ii一梯度線圈導(dǎo)線304。第一梯度線圈導(dǎo)線304延伸到吊頂空隙107中，隨后 耦合到指定用于正極連接的RF穿透面板120的第一經(jīng)過濾連接器端口 306 的第一側(cè)。類似地，第二梯度線圏導(dǎo)線308耦合到梯度線圈放大器300的負(fù) 端子310，且也延伸到吊頂空隙107中，隨后耦合到指定用于負(fù)極連接的RF 穿透面板120的第二經(jīng)過濾連接器端口 310的第一側(cè)。
如與先前實(shí)施例相關(guān)，第一電導(dǎo)體140在其第一端處與包括第一配線 200的第一耦合裝配在一起，且經(jīng)由第一耦合而耦合到RF穿透面板120的第 一經(jīng)過濾連接器端口 306的第二側(cè)。第二電導(dǎo)體144在其第一端處與包括第 二配線202的第二耦合裝配在一起，且經(jīng)由第二耦合而耦合到RF穿透面板 120的第二經(jīng)過濾連接器端口 310的第二側(cè)。第一電導(dǎo)體140的第二端與包 括第三配線206的第三耦合204裝配在一起。在此實(shí)例中，第三耦合耦合到 梯度線圈116的合適的第三電連接器(未圖示)，所述第三電連接器經(jīng)保留 以用于正極連接到梯度線圈116。類似地，第二電導(dǎo)體144的第二端與包括 第四配線210的第四耦合裝配在一起。在此實(shí)例中，第四耦合耦合到梯度線 圈116的合適的第四電連接器(未圖示)，所述第四電連接器經(jīng)保留以用于 負(fù)極連接到梯度線圈116。
在操作中，經(jīng)由形成冷卻回路126的用于梯度線圈116的部分的第一和 第二電導(dǎo)體140、 144來提供在MRI系統(tǒng)100的操作期間需供應(yīng)給梯度線圈 116的電力。因?yàn)榈谝缓偷诙妼?dǎo)體140、 144是管狀的，所以流過第一和第 二電導(dǎo)體140、 144的冷卻液用以冷卻第一和第二電導(dǎo)體140、 144。
盡管已參考了 "位于"第一電導(dǎo)體140和/或第二電導(dǎo)體144的給定末 端處的耦合，但技術(shù)人員應(yīng)了解，不希望耦合到第一和/或第二電導(dǎo)體140、 144的耦合點(diǎn)限于第一電導(dǎo)體140和/或第二電導(dǎo)體144的絕對(duì)極端，而是可 "朝向"第一電導(dǎo)體140和/或第二電導(dǎo)體144的相關(guān)末端耦合。沿著第一電 導(dǎo)體140和/或第二電導(dǎo)體144的其中一耦合耦合到第一電導(dǎo)體140和/或第 二電導(dǎo)體144的距離僅需充分靠近第一電導(dǎo)體140和/或第二電導(dǎo)體144的
12極端，以確保第一電導(dǎo)體140和/或第二電導(dǎo)體144沿著其各別長(zhǎng)度的充分 冷卻。出于相同的原因，同樣地考慮第三橋接導(dǎo)管160到第一電導(dǎo)體140和 /或第二電導(dǎo)體144的耦合點(diǎn)的定位。
技術(shù)人員應(yīng)了解，第一電導(dǎo)體140和/或第二電導(dǎo)體144可由任何合適 的導(dǎo)電材料形成，例如金屬(例如，銅或鋁)。
盡管本文已具體參考了超導(dǎo)磁體的線圈和梯度線圈，但應(yīng)了解，可相關(guān) 于任何電路(例如，斷層成像系統(tǒng)的電路)使用電導(dǎo)體。
權(quán)利要求
1.一種斷層成像系統(tǒng)，包括一個(gè)超導(dǎo)磁體(108)和復(fù)數(shù)個(gè)梯度線圈(116)，以及一個(gè)冷卻布置，所述冷卻布置用于通過使冷卻液流經(jīng)所述梯度線圈來冷卻所述梯度線圈；一個(gè)冷卻回路(126)，其包括一個(gè)將冷卻液載運(yùn)到所述梯度線圈(116)的向外分支(140)和一個(gè)將冷卻液載運(yùn)離開所述梯度線圈(116)的返回分支(144)；所述向外分支(140)和所述返回分支(144)的每一者包括一流體載運(yùn)導(dǎo)管，其中所述向外分支(140)和所述返回分支(144)的每一者的至少一部分是由導(dǎo)電導(dǎo)管形成；通過所述導(dǎo)電導(dǎo)管提供從電源(124)到所述超導(dǎo)磁體的電連接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的斷層成像系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括復(fù)數(shù)個(gè)配線(200、 202 )，所述配線(200、 202 )電連接在所述電源(124 )與所述導(dǎo)電導(dǎo)管(104、 144)之間。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的斷層成像系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括復(fù)數(shù)個(gè)配線 (206、 210)，所述配線(206、 210)電連接在所述超導(dǎo)i茲體與所述導(dǎo)電導(dǎo)管 (104、 144)之間。
4. 一種斷層成像系統(tǒng)，包括 一個(gè)超導(dǎo)磁體(108)和復(fù)數(shù)個(gè)梯度線圈 (116)，以及一個(gè)冷卻布置，所述冷卻布置用于通過使冷卻液流經(jīng)所述梯度 線圈來冷卻所述梯度線圈；一個(gè)冷卻回路(126 ),其包括一個(gè)將冷卻液載運(yùn)到所述梯度線圈(116 ) 的向外分支(128)和一個(gè)將冷卻液載運(yùn)離開所述梯度線圏(116)的返回分 支(130);所述向外分支(128)和所述返回分支(130)的每一者包括一流體載運(yùn)導(dǎo)管，其中通過第一導(dǎo)電導(dǎo)管(HO )和第二導(dǎo)電導(dǎo)管(1")提供從電源() 到所述超導(dǎo)磁體的電連接，所述第一導(dǎo)電導(dǎo)管的孔的第一端流體耦合(152 )到所述向外分支的孔； 且所述第二導(dǎo)電導(dǎo)管的孔的第一端流體耦合(158)到所述返回分支的孔， 且一電隔離橋接導(dǎo)管(160)流體耦合在所述第一導(dǎo)電導(dǎo)管(140)的第二 端和第二導(dǎo)電導(dǎo)管(144)的第二端之間，進(jìn)而提供一個(gè)冷卻所述第一導(dǎo)電導(dǎo)管(140)和第二導(dǎo)電導(dǎo)管(144)的 冷卻回路。
5. —種斷層成像系統(tǒng)，包括 一個(gè)超導(dǎo)磁體(108)和復(fù)數(shù)個(gè)梯度線圈 (116),以及一個(gè)冷卻布置，所述冷卻布置用于通過^f吏冷卻液流經(jīng)所述梯度 線圈來冷卻所述梯度線圏；一個(gè)冷卻回路(126 ),其包括一個(gè)將冷卻液載運(yùn)到所述梯度線圈(116 ) 的向外分支(128)和一個(gè)將冷卻液載運(yùn)離開所述梯度線圏(116)的返回分 支(130);所述向外分支(128)和所述返回分支(130)的每一者包括一流體載運(yùn) 導(dǎo)管， 其中所述向外分支(140)和所述返回分支(144)的每一者的至少一部分是 由導(dǎo)電導(dǎo)管形成；通過所述導(dǎo)電導(dǎo)管提供從電源(300 )到所述梯度線圈(116 )的電連接。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的斷層成像系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括復(fù)數(shù)個(gè)配線(206、 210),所述配線(206、 210)電連接在所述梯度線圈(116)與所述導(dǎo)電導(dǎo) 管(104、 144 )之間。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種斷層成像系統(tǒng)，包括一個(gè)超導(dǎo)磁體(108)和復(fù)數(shù)個(gè)梯度線圈(116)，以及一個(gè)冷卻布置，所述冷卻布置用于通過使冷卻液流經(jīng)所述梯度線圈來冷卻所述梯度線圈；一個(gè)冷卻回路(126)，其包括一個(gè)將冷卻液載運(yùn)到所述梯度線圈(116)的向外分支(140)和一個(gè)將冷卻液載運(yùn)離開所述梯度線圈(116)的返回分支(144)；所述向外分支(140)和所述返回分支(144)的每一者包括一流體載運(yùn)導(dǎo)管，其中，所述向外分支(140)和所述返回分支(144)的每一者的至少一部分是由導(dǎo)電導(dǎo)管形成；通過所述導(dǎo)電導(dǎo)管提供從電源(124)到所述超導(dǎo)磁體的電連接。
文檔編號(hào)A61B5/055GK101491439SQ200810190388
公開日2009年7月29日 申請(qǐng)日期2008年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月21日
發(fā)明者尼爾·C·泰格韋爾 申請(qǐng)人:西門子磁體技術(shù)有限公司