專利名稱：光學(xué)治療系統(tǒng)及用于該系統(tǒng)的調(diào)整元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及根據(jù)權(quán)利要求1前序部分的光學(xué)治療系統(tǒng)，并且具 體地包括機(jī)殼，其具有第一光學(xué)窗口；機(jī)殼中用于提供光輻射的光
源；用于控制光源的控制單元，其使得系統(tǒng)能夠在第一光學(xué)窗口提 供光輻射，其具有預(yù)先確定的第一值的至少一個(gè)光學(xué)參數(shù)；以及具 有第二光學(xué)窗口的至少一個(gè)光輻射發(fā)射調(diào)整元件的組件，該調(diào)整元 件可相對于光源布置以使得光輻射的至少一部分經(jīng)由第二光學(xué)窗口發(fā)射。
背景技術(shù)：
文獻(xiàn)W099/58195公開了 一種用于皮膚的選擇性熱分解 (thermolysis)的設(shè)備，除其他之外包括具有腔室和開口的機(jī)殼，以 及窄帶電磁輻射的脈沖源(pulsable source )，用于選擇性地加熱皮 膚內(nèi)的目標(biāo)組織。該設(shè)備優(yōu)選地包括具有孔徑的擴(kuò)展部分。孔徑的 形狀和面積可以變化。
這種已知設(shè)備的缺點(diǎn)在于，由于使用這種擴(kuò)展器，該已知設(shè)備 不能在所有環(huán)境下保證其可靠和安全的使用。尤其是，該已知設(shè)備 通過利用輻射加熱組織來治療皮膚。為了控制該設(shè)備，測量皮膚溫 度。然而，除了皮膚溫度之外，其他參數(shù)也在皮膚安全性中起作用，
尤其是當(dāng)利用輻射來治療皮膚時(shí)。通過向治療設(shè)備應(yīng)用擴(kuò)展器，這 些其他參數(shù)可能會改變，并且例如可能會超過安全閾值，導(dǎo)致?lián)p傷

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種上述類型的光學(xué)治療系統(tǒng)，當(dāng)使用不同調(diào)整元件時(shí)其更加可靠。
根據(jù)本發(fā)明，利用根據(jù)權(quán)利要求1前序部分的光學(xué)治療系統(tǒng)來 實(shí)現(xiàn)此目的，其中該系統(tǒng)進(jìn)一步包括光學(xué)參數(shù)控制裝置，其被安排 以控制所述至少一個(gè)光學(xué)參數(shù)，以使得在第二光學(xué)窗口具有預(yù)先確 定的第二值。在此，控制所述至少一個(gè)光學(xué)參數(shù)包括影響和改變所 述光學(xué)參數(shù)。通過提供此類控制裝置，根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)被更好地 限定，因?yàn)樵谑褂迷撓到y(tǒng)前，光學(xué)參數(shù)是已知的并且被控制至預(yù)先 確定的值，而不是使用來自所治療的皮膚與所施加的輻射的單個(gè)效 應(yīng)相關(guān)的反饋信號。當(dāng)使用調(diào)整元件時(shí)，事先知道在"新的，，第二光 學(xué)窗口層級的光輻射的結(jié)果，并且可以防止通過施加具有一個(gè)或多 個(gè)不正確參數(shù)值的光輻射帶來的不希望的副作用。后者的例子可以
是太小的通量(fluence)或強(qiáng)度，或者太大的通量或強(qiáng)度，其可能 分別導(dǎo)致沒有效果或者產(chǎn)生損傷/疼痛，并且也可能是錯(cuò)誤的光譜， 其可能導(dǎo)致二者中任一情況。
與之相反，已知的設(shè)備僅僅通過檢查皮膚溫度，也即通過檢查 其可能的治療結(jié)果之一，來控制脈沖的電磁輻射。當(dāng)執(zhí)行其他光學(xué) 治療時(shí)，檢查溫度是不夠并且不可靠的。當(dāng)通過應(yīng)用不同的擴(kuò)展器 來改變光學(xué)窗口的形狀和/或面積時(shí)，沒有提供針對光學(xué)參數(shù)的可靠 檢查。
在本發(fā)明的上下文中，光源不需要作為完整單元而存在于機(jī)殼 內(nèi)?？商鎿Q地，可以提供外部光生成裝置，其具有一個(gè)或多個(gè)光導(dǎo) 以將生成的光引導(dǎo)至機(jī)殼，其附帶的好處是重量更輕、更靈活等。 光導(dǎo)的末端繼而可以視為光源。類似地，控制單元也可以位于機(jī)殼 外，并且例如可以靠近光源而提供。還可以分布式地提供控制單元， 即，帶有電路的部分在機(jī)殼外，諸如傳感器或探測器的部分在機(jī)殼 內(nèi)。在使用時(shí)，分布的各個(gè)部分將協(xié)同操作和/或相互通信。上述可 能情況視為包含在本發(fā)明中。
此外，光學(xué)窗口可以是機(jī)殼中的開口或者元件、或者諸如透明 器件的物理實(shí)體，例如濾光器或玻片。而且，第一和/或第二光學(xué)窗口可以按如下位置提供當(dāng)系統(tǒng)在使用時(shí)，第一和/或第二光學(xué)窗口 擠壓住待治療的皮膚。然而，也有可能的是實(shí)際的光學(xué)窗口遠(yuǎn)離皮
膚，諸如通過某種套管(collar)。參數(shù)值的相應(yīng)修正被認(rèn)為包含在 本發(fā)明中，其也屬于技術(shù)人員的理解范圍。注意，第二值與恰在所 述第二光學(xué)窗口之后(而不是剛好在第二窗口之前或其內(nèi))的光學(xué) 參數(shù)的值有關(guān)聯(lián)。如果第二光學(xué)窗口是光學(xué)器件，則第二值可以在 其外表面確定。在第二光學(xué)窗口是孔徑的情況下，諸如存在套管時(shí)， 第二值可以在接觸調(diào)整元件的皮膚層上確定。盡管如此并不排除其 他的定義，并且僅僅相關(guān)的是第二值事先是已知的，使得例如在治 療期間不需要來自皮膚的反饋來設(shè)置光源。
進(jìn)一步地，系統(tǒng)可以包括能夠提供所需輻射的其他裝置，諸如 濾光器。技術(shù)人員可以很容易地選擇此類其他裝置以獲得期望的輻 射屬性，并且這些裝置也認(rèn)為包括在本系統(tǒng)中。在這方面，"光輻射" 旨在于包括可見輻射以及UV-A和UV-B范圍內(nèi)的紫外線輻射，優(yōu) 選地只是UV-A范圍，以及近紅外范圍。用波長來表示，光輻射是 指從大約300 nm到大約2000 nm的范圍跨段，優(yōu)選地從大約400 nm 至'J大^J 1500 nm,更^尤選;也乂人大纟勺400 nm至U大纟々1000 nm。
在從屬權(quán)利要求中公開了其他有利的實(shí)施方式。
特別地，調(diào)整元件可以是帽狀物，具有連續(xù)的側(cè)壁以及內(nèi)部腔 室，可以利用透明的覆蓋物覆蓋在其一個(gè)或兩個(gè)側(cè)面上。不排除諸 如固態(tài)透明體的其他實(shí)施方式。
在一個(gè)實(shí)施方式中，光學(xué)參數(shù)控制裝置被安排以依賴于所述第 二光學(xué)窗口和/或調(diào)整元件的形狀和尺寸中的至少 一個(gè)來控制所述光
學(xué)參數(shù)。光學(xué)窗口的形狀可以與特定的治療區(qū)有關(guān)，諸如臉部、比
基尼區(qū)域或腋下，這些治療區(qū)可能針對光學(xué)參數(shù)有特殊要求，諸如
通量。在本發(fā)明中使用的調(diào)整元件用于提供更好地適于治療皮膚的
特定區(qū)域的系統(tǒng)。在有些情況下，皮膚更敏感，因此某些參數(shù)應(yīng)當(dāng)
使用較低值?？梢垣@得用于此類區(qū)域的特定調(diào)整元件與沒有調(diào)整元
件的原始(主)系統(tǒng)之間的相關(guān)性。在其他情況中，區(qū)域太彎曲或者太小以至于不能用標(biāo)準(zhǔn)(第一)光學(xué)窗口進(jìn)行治療，因此需要調(diào) 整元件來延伸到這些區(qū)域?？梢詰?yīng)用光學(xué)參數(shù)的其他值或者相同的 值。例如，治療可能涉及借助于光輻射來剃毛或脫毛，或者治療葡 萄酒色斑等。第二光學(xué)窗口的尺寸(即，主要是面積)以及還有可 能調(diào)整元件的形狀，影響通過第二光學(xué)窗口實(shí)際發(fā)射的輻射。本發(fā) 明提供了調(diào)整裝置來修正該影響，并且使得光學(xué)參數(shù)處于希望的值 或者將其維持在希望的值。
在一種特殊的實(shí)施方式中，光學(xué)參數(shù)包括光輻射的光諳、強(qiáng)度 和通量中的至少一個(gè)，并且優(yōu)選地是強(qiáng)度。調(diào)整元件可以通過吸收 或反射其波長相關(guān)部分來影響輻射。換言之，光語可以改變，當(dāng)然 很值得去控制光譜以修正這種改變。備選地或者附加地，調(diào)整元件 的不同形狀或尺寸可以指示對光譜有特殊要求的治療區(qū)域，例如較 厚的皮膚、較敏感的皮膚或者曬黑的皮膚，其可能需要不同的光譜， 諸如在較敏感皮膚的情況下需要較少的紅外輻射。而且，在光學(xué)剃 毛的情況下，特定毛發(fā)色也可能需要不同的光譜。
可以在第一光學(xué)窗口或者至少在具有補(bǔ)充、修正光譜的光源(主 輻射)處供應(yīng)光輻射，從而提供希望的光譜。有利地，光學(xué)參數(shù)控 制裝置包括至少一個(gè)光學(xué)器件，其具有波長相關(guān)的吸收和/或反射。 這種光學(xué)器件可以是濾光器或選擇性反射鏡或類似的。也可以是具 有可調(diào)諧光譜的光源。
在許多情況下，強(qiáng)度和通量兩個(gè)都是重要參數(shù)，并且控制其中 至少一個(gè)通常能防止有害效應(yīng)或無效果。 一般說來，這涉及通過光 學(xué)窗口的平均強(qiáng)度或通量。注意，強(qiáng)度和通量在供應(yīng)輻射的整個(gè)時(shí)
間期間是相關(guān)的，如果時(shí)間沒有改變，則它們會類似地變化。
在一種有利的實(shí)施方式中，第二值基本上等于第一值，特別地，
相對于第一值的偏差不超過20%，更特別地，偏差不超過10%。假 設(shè)系統(tǒng)被設(shè)計(jì)成對于在第 一 光學(xué)窗口層級遞送的輻射，其功能性、 安全性等等都是滿意的，或者甚至是最優(yōu)的，則在第二光學(xué)窗口的 層級具有相等值的輻射將是有利的。備選地或者附加地，如果第二光學(xué)窗口的尺寸(特別是面積) 小于第一光學(xué)窗口的對應(yīng)尺寸(特別是面積)，則至少對于一個(gè)參 數(shù)而言，第二值更高，并且優(yōu)選地高出一個(gè)對應(yīng)于第二光學(xué)窗口的 皮膚散射損失因子與第一光學(xué)窗口的皮膚散射損失因子的比率的因
子(factor)。優(yōu)選地，所述損失因子取決于希望的治療深度。這是 考慮到，當(dāng)光學(xué)窗口變得越小時(shí)，皮膚的光學(xué)屬性(尤其是散射) 變得更加重要。對于大的第一或第二光學(xué)窗口 ，例如直徑大約為20 mm,散射對于合適的輻射不是特別相關(guān)。另一方面，如果，例如第 二光學(xué)窗口小很多，例如直徑大約為3-5 mm，則散射變得重要，尤 其是對于至少十分之幾個(gè)毫米的治療深度而言。因而，存在一個(gè)按 照某個(gè)因子相對增長的散射損失，在實(shí)踐中針對特殊情形可以容易 地確定該因子。通過針對此因子進(jìn)行修正，可以控制通量值，諸如 將其維持在恒定值。
在另一實(shí)施方式中，第二值低于第一值。這尤其涉及用于更敏 感區(qū)域的調(diào)整元件。注意，由于較小尺寸以及內(nèi)部反射，很容易發(fā) 生的是第二值將更高，但是在此情形下卻是不希望的。本發(fā)明利用 適當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)參數(shù)控制裝置來防止這種情況發(fā)生。注意，也可以調(diào)整 光源，不過在某些情形下，這可能是不希望的。
在一種特殊實(shí)施方式中，調(diào)整元件圍繞第一光學(xué)窗口可移動地 附著在機(jī)殼上。這是一種非常合適的實(shí)施方式，其中提供一個(gè)或多 個(gè)調(diào)整元件，這些調(diào)整元件可操作地附著在機(jī)殼上。為此，可以向 機(jī)殼、調(diào)整元件或者二者提供附著裝置，諸如螺絲、磁鐵、簡單的 套管等等。用戶簡單地附著、移動或調(diào)換合適的調(diào)整元件。
在另一實(shí)施方式中，調(diào)整元件可附著或者附著在機(jī)殼上，其中 機(jī)殼相對于光源可調(diào)整，使得第二光學(xué)窗口可放置在第一光學(xué)窗口 的前面，或者使得第一和第二光學(xué)窗口交換位置。在此實(shí)施方式中， 永久地或者可移動地附著的調(diào)整元件不是一直提供在可操作位置上 (諸如在第一窗口前面)，而是可以向此類可操作位置調(diào)整，諸如 可以旋轉(zhuǎn)或者移位。例如，在第一位置，調(diào)整元件附著在可旋轉(zhuǎn)等的支架或托架或類似物上。繼而，調(diào)整元件旋轉(zhuǎn)、移位等至可操作 的第二位置。也可以提供具有兩個(gè)或多個(gè)光學(xué)窗口的機(jī)殼，所述機(jī) 殼是可調(diào)整的，例如可旋轉(zhuǎn)或者可移位，使得選定的光學(xué)窗口可以 相對于光源可操作地放置。
在一種特定實(shí)施方式中，光學(xué)參數(shù)控制裝置被安排用于調(diào)整控 制單元。換言之，光學(xué)參數(shù)控制裝置是主動控制裝置，其能夠發(fā)起 和/或控制在調(diào)整元件夕卜部的系統(tǒng)的 一 部分的設(shè)置，使得獲得光學(xué)參 數(shù)的希望的、預(yù)先確定的值。以此方式，由于經(jīng)由調(diào)整元件的控制 來主動控制系統(tǒng)的設(shè)置，系統(tǒng)具有良好的可靠性。這種設(shè)置的調(diào)整 例如可以涉及光源功率、每次閃爍的能量，等等。下面將會給出如 何實(shí)現(xiàn)此控制的例子，盡管具體化此特征已認(rèn)為屬于技術(shù)人員的理 解范圍。
在一種實(shí)施方式中，借助于脈沖的光源，光學(xué)參數(shù)控制裝置向 光源的電源提供指令或者直接控制光源的電源，諸如放電單元，其 例如包括電容。選擇功率電平的簡單方式是為電容選擇在放電之后 達(dá)到的最低電壓。技術(shù)人員也可以容易地實(shí)現(xiàn)其他方式，并且可以 例如作為給電源或控制單元的 一組指令而電子式地給出。
在一種特定實(shí)施方式中，第二光學(xué)窗口的面積大于第一窗口的 面積。此實(shí)施方式在主動控制允許例如更高的每次閃爍的能量或者 輻射時(shí)間周期的情形下使用，當(dāng)能量必須應(yīng)用于例如具有相同通量 的更大面積時(shí)，這是需要的。在沒有主動控制的情況下，將調(diào)整元 件附著到具有較大面積的第二光學(xué)窗口上不會得到相同的通量。'具 有較大的光學(xué)窗口可能是有利的，例如，能夠一次治療較大的面積， 例如腿或者背部，而不必提供大面積的第一光學(xué)窗口，其可能使得 系統(tǒng)整體太龐大，在治療較小面積期間不易于搬運(yùn)。
在一種特殊實(shí)施方式中，光學(xué)參數(shù)控制裝置包括電路，其被安 排來與控制單元通信。該電路可以被安排來(諸如通過編程)指示 控制單元，或者直接控制光源。例如，這種電路可以設(shè)置治療的持 續(xù)時(shí)間，諸如脈沖長度或脈沖數(shù)目，從而設(shè)置希望的預(yù)先確定的通量。也可以設(shè)置光源，諸如光源的功率或光譜，或者其可以觸發(fā)附 加裝置的操作，諸如插入濾光器或反射鏡，以便影響和控制光輻射。 術(shù)語"電路"應(yīng)當(dāng)按寬泛的概念來解釋，并且包括所謂的IC以及其 他已知的電子的和電的設(shè)備，通過這些電路可以施加控制，諸如通 過提供代碼。
在一種特殊實(shí)施方式中，光學(xué)參數(shù)控制裝置包括標(biāo)識裝置，其 能夠與控制單元協(xié)同操作。這種標(biāo)識裝置用于向控制單元提供所需 要的信息以調(diào)整光源的設(shè)置。以此方式，以及利用上述電路(該電 路也是標(biāo)識裝置的一種實(shí)施方式)，可以非常容易地為每個(gè)調(diào)整元 件提供清晰、明確的手段來設(shè)置正確的輻射參數(shù)。這種標(biāo)識裝置不 需要與控制單元或光源通信。當(dāng)標(biāo)識信息可以以適當(dāng)?shù)姆绞教崛r(shí)， 諸如當(dāng)其可以由控制單元讀取時(shí)，就足夠了。在此方面，要注意的 是，可以在機(jī)殼上提供單獨(dú)的識別器裝置，不過由于其要與控制單 元協(xié)同操作，所以這種單獨(dú)的識別器裝置被認(rèn)為是控制單元的至少 功能部分。標(biāo)識裝置(以及識別器裝置)的可能例子是條形碼(以
及條形碼讀取器)，被動(可讀)電路(諸如RF-ID IC),或者機(jī) 械裝置(諸如裝上開關(guān)或彈簧的銷裝置)。即使利用機(jī)械裝置，也 可以識別各種調(diào)整元件，例如通過提供多個(gè)開關(guān)，這些開關(guān)可通過 具有不同的操作開關(guān)的裝置的調(diào)整元件來操作。在一種特定的實(shí)施 方式中，機(jī)殼包括探測器裝置，其被安排來探測調(diào)整元件的存在。
在一種實(shí)施方式中，探測器裝置被安排來探測調(diào)整元件的類型。 這種探測器裝置可以如上所述地實(shí)現(xiàn)，也即，以一個(gè)或多個(gè)開關(guān)等 的形式。通過提供這種探測器裝置，可以簡單探測是否安裝了調(diào)整 元件，并且有可能針對光源或者調(diào)整光源的 一個(gè)或多個(gè)設(shè)置。
在另一實(shí)施方式中，光學(xué)參數(shù)控制裝置包括被動輻射影響裝置， 其被安排用于操縱光源發(fā)射的光輻射。特別地，光學(xué)參數(shù)控制裝置 被安排用于操縱通過第一光學(xué)窗口發(fā)射的光輻射。在此處描述的兩 種情況中，操縱使得在第二光學(xué)窗口的層級獲得用于光學(xué)參數(shù)的希 望值。每個(gè)調(diào)整元件會對第一光學(xué)窗口發(fā)射的光輻射，或者至少對由 光源發(fā)射的光輻射(如果第一和第二光學(xué)窗口切換的話)有一定影 響。有些輻射可以被吸收，有些輻射可以被反射，諸如此類。這些 變化是由組成調(diào)整元件的各種表面和材料導(dǎo)致的。最普通地，被動 輻射影響裝置包括這些表面和材料的整體，假設(shè)的是凈效應(yīng)是在第 二光學(xué)窗口層級的輻射的光學(xué)參數(shù)是如所希望的，也即，具有預(yù)先 確定的值。然而，這是非?？坎蛔〉模?yàn)檫@僅僅是偶然有可能這 樣。不過，區(qū)別特征仍然在于第二光學(xué)窗口處的輻射確實(shí)具有(那 些)預(yù)先確定的參數(shù)值，其使得輻射是已知的并且具有預(yù)先確定的 質(zhì)量。當(dāng)然也有可能提供一個(gè)或多個(gè)附加的被動輻射影響裝置，或 者諸如具有特別選擇的材料的裝置，以便剛好獲得光學(xué)參數(shù)的希望 值。從現(xiàn)在開始，術(shù)語"參數(shù)"還旨在包括復(fù)數(shù)形式。
更特別地，對于第一和第二光學(xué)窗口而言，所述值是相等的。 這是一種非常有利的實(shí)施方式，如前面已經(jīng)提到過的，其在于在調(diào) 整元件中進(jìn)行了特殊考慮，通過提供附加的或至少合適的輻射影響 裝置來確保此恒定值。此類裝置可以以很多種方式實(shí)現(xiàn)，只要確保 光學(xué)參數(shù)在第二光學(xué)窗口處具有希望的、預(yù)先確定的值。下面將描
述一些特殊輻射影響裝置。
首先，注意到在大部分情形中，調(diào)整元件包括中空的空間或腔 室。因而，調(diào)整元件的內(nèi)壁可能會至少部分地反射，也即充分地反 射以補(bǔ)償輻射強(qiáng)度的損失或增加。在實(shí)踐中可以確定合適的反射， 例如通過標(biāo)定或測量，或者可以基于物理模型來計(jì)算，等等。在下 述所有實(shí)施方式中，假設(shè)發(fā)生了這種標(biāo)定或計(jì)算，其屬于技術(shù)人員 的理解范圍。
可以為調(diào)整元件提供包括不同材料的邊緣或邊沿。特別地，如 果調(diào)整元件用在皮膚的特殊或敏感部位，那么選擇適宜的材料是有 利的。例如，針對腋下或比基尼線條處的皮膚，柔軟的橡膠會是有 利的。附加地或者備選地，調(diào)整元件的皮膚接觸部分可以是特殊造 型。特別地，并且基于類似的理由，調(diào)整元件的皮膚接觸邊沿可以做得更加圓滑。
在一種特定實(shí)施方式中，調(diào)整元件的內(nèi)壁是至少部分地反射， 尤其是鏡面反射，并且其內(nèi)直徑在朝向第二光學(xué)窗口的方向減小。 在此實(shí)施方式中，來自第一光學(xué)窗口的輻射(其大部分以較大的角 度范圍發(fā)射)，將會被內(nèi)壁反射。由于內(nèi)徑減小，內(nèi)壁的相對部分 將會朝向彼此而形成角度。這確保了在一次或多次反射之后，輻射 的一部分會傳播回來朝向第一光學(xué)窗口 (或光源)，或者至少會被
從朝向第二光學(xué)窗口的輻射中移除。這補(bǔ)償了這樣的事實(shí)即在原 理上，除了吸收損失等等之外，第一光學(xué)窗口發(fā)射的所有輻射會朝 向并且穿過第二光學(xué)窗口傳播。技術(shù)人員可以選擇調(diào)整元件的壁的 合適的(例如頂點(diǎn))角度、合適的反射系數(shù)、合適的反射類型(也 即散射或鏡面反射或其混合)、內(nèi)壁表面區(qū)域的合適部分，等等， 從而獲得希望的參數(shù)值。
在一種特殊實(shí)施方式中，調(diào)整元件的內(nèi)壁是部分地吸收，例如 充分吸收以補(bǔ)償其他損失和/或上述輻射強(qiáng)度的增加。為此，調(diào)整元 件的內(nèi)壁和其他部分可以利用具有合適的吸收系數(shù)以及合適的表面 積的涂層來覆蓋，以獲得希望的預(yù)先確定的光學(xué)參數(shù)值。同樣，技 術(shù)人員通過標(biāo)定、試驗(yàn)和錯(cuò)誤、計(jì)算等等，可以容易地獲得這種涂 層或類似物。
在一種特殊實(shí)施方式中，調(diào)整元件包括至少一個(gè)光學(xué)器件。此 處，"光學(xué)器件，，是指調(diào)整元件中的任何光發(fā)射部分，諸如作為第二 光學(xué)窗口而存在，或者附加于其上的。注意，具有如第二光學(xué)窗口 的合適的光學(xué)器件對于修正來說可能是足夠的，因?yàn)槿魏纹骷紩?有反射能力。例如，普通的玻璃在每個(gè)玻璃空氣界面反射大約4%， 此反射可能足夠獲得希望的光學(xué)參數(shù)值。當(dāng)然，也可以提供不止一 個(gè)光學(xué)器件，例如用于增大總的反射損失。
在一種實(shí)施方式中，光學(xué)器件包括濾光器。這意味著光學(xué)器件 對于至少一部分光輻射而言具有不可忽略的吸收系數(shù)。為此目的， 濾光器可以包括合適的材料，諸如有色玻璃，或者中性灰色濾光器，等等。注意，吸收以及同樣的前面討論的反射，可以是波長相關(guān)的， 這可能需要以獲得預(yù)先確定的參數(shù)值(包括光譜)。
在 一 種實(shí)施方式中，光學(xué)器件包括具有部分反射性和/或吸收性
的涂層的承載件(carrier)。這種實(shí)施方式的一個(gè)很大的優(yōu)點(diǎn)在于， 例如在通過標(biāo)定之后，在不存在這種在承載件上有涂層的光學(xué)器件 形式的輻射影響裝置的情況下，通過應(yīng)用對應(yīng)的涂層，在第二光學(xué) 窗口發(fā)射的輻射可以很容易地被精確補(bǔ)償。涂層例如可以是金屬層， 有圖案或者沒有圖案，其具有合適的厚度。承載件例如可以是單獨(dú) 的個(gè)體，或者如果具體化為光學(xué)器件，其可以是第二光學(xué)窗口。
在另一實(shí)施方式中，光學(xué)器件包括至少一個(gè)透鏡，優(yōu)選地其焦 距短于調(diào)整元件的長度，更優(yōu)選地包括以聚光器(condenser)布置 的多個(gè)透鏡。從而，通過影響輻射的光學(xué)路徑，指向內(nèi)壁的部分(也 即例如吸收或反射)可以增大，或者至少部分輻射可以從朝向第二 光學(xué)窗口的"普通，，光束中取出。以此方式，可以影響光學(xué)參數(shù)值。 具有聚光器布置的實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)在于，光束屬性(尤其是角度范 圍)可以被更好地控制，例如使得與第一光學(xué)窗口的光束屬性類似。
在一種特殊實(shí)施方式中，調(diào)整元件包括至少一個(gè)光導(dǎo)，或者甚 至由至少一個(gè)光導(dǎo)構(gòu)成，優(yōu)選地是光纖束，其直徑朝著第二光學(xué)窗 口減小。當(dāng)將輻射耦合入光導(dǎo)時(shí)，為了補(bǔ)償損失，通常需要減小光 導(dǎo)的直徑以集中光。此實(shí)施方式對于確保更多靈活性是有用的。光 導(dǎo)可以由光纖構(gòu)成，從而允許例如小的第二光學(xué)窗口 ，以便治療小 的或者難觸及的區(qū)域。
在一種特殊實(shí)施方式中，光輻射影響裝置包括上述特征的組合。 例如，反射內(nèi)壁可以與位于或者靠近第二光學(xué)窗口的濾光器組合。 這確保了大部分輻射在第二光學(xué)窗口層級可用，并且可以通過裝配 合適的濾光器來按需進(jìn)行選擇。為了獲得高度的反射，內(nèi)壁可以覆 蓋金屬層或者諸如Ti02等的漫反射材料。
在一種特定實(shí)施方式中，系統(tǒng)，尤其是調(diào)整元件，包括冷卻裝 置，其被安排用于為調(diào)整元件散熱。在多種實(shí)施方式中，諸如在第二光學(xué)窗口有比第一光學(xué)窗口小的表面積，并且參數(shù)值基本上相等 的實(shí)施方式中，從調(diào)整元件出去的光比通過第一光學(xué)窗口發(fā)射的少。 此差異表示，通常(盡管不總是)許多能量被系統(tǒng)吸收了，并且大 部分能量是被調(diào)整元件自身吸收的。為了防止不希望的調(diào)整元件的 發(fā)熱，散熱是有利的。盡管在沒有特殊措施的情況下，有些熱量會 被輻射、對流冷卻等帶走，但是預(yù)備特別安排的冷卻裝置提供了許 多優(yōu)點(diǎn)。下文中，將描述一些特殊實(shí)例，盡管技術(shù)人員也可以選擇 其他冷卻裝置。注意，在調(diào)整元件上提供冷卻裝置是有利的，因?yàn)?其通常會吸收額外的熱量，并且通?？刂瓶拷?光)源的熱量是有 利的。
在一種實(shí)施方式中，冷卻裝置包括與調(diào)整元件熱接觸的冷卻劑 流。冷卻劑流可以由所述或其他控制單元控制，例如經(jīng)由一個(gè)或多 個(gè)閥門。冷卻劑可以從調(diào)整元件排出，或者可以運(yùn)送到調(diào)整元件(或 者概括地說，系統(tǒng))的一部分，或者通常更冷或具有更大的冷卻表 面的系統(tǒng)，等等。冷卻劑可以是液體(諸如水)，或者是氣體(諸 如空氣)。
在一種實(shí)施方式中，冷卻裝置包括調(diào)整元件中的冷卻劑通道， 用于流動冷卻劑。這種冷卻劑通道幫助引導(dǎo)冷卻劑至發(fā)熱最嚴(yán)重的 地方，諸如黑的吸收部分。冷卻劑通道因而可以例如沿著調(diào)整元件 的一部分(諸如壁或者濾光器)引導(dǎo)。
優(yōu)選地，如果機(jī)殼已經(jīng)包括冷卻系統(tǒng)，諸如冷卻劑通道，則調(diào) 整元件的冷卻裝置可連接至該冷卻系統(tǒng)。優(yōu)選地，機(jī)殼的冷卻系統(tǒng) 與調(diào)整元件的冷卻裝置之間的連接至少包括可控制的進(jìn)給閥。這允 許根據(jù)需要來提供冷卻劑。
在一種特殊實(shí)施方式中，冷卻裝置包括調(diào)整元件中(尤其是其
壁內(nèi))的冷卻劑通道。通常，壁會吸收大部分輻射，因而會發(fā)熱最 嚴(yán)重，而用戶通常很容易觸碰到這種壁。為了防止受傷甚至是危險(xiǎn)， 優(yōu)選地對壁進(jìn)行冷卻。這可以通過在壁內(nèi)提供冷卻流，優(yōu)選地通過 冷卻劑通道來有效地實(shí)現(xiàn)。在另一實(shí)施方式中，調(diào)整元件包括至少兩個(gè)光學(xué)器件，在這兩 個(gè)器件之間提供冷卻劑通道。如果調(diào)整元件(或者概括地說，系統(tǒng)) 包括兩個(gè)或多個(gè)光學(xué)器件，則在那些光學(xué)器件之間提供冷卻劑通道 是有可能并且有利的。例如濾光器和防護(hù)玻璃。由于吸收方面的差 異，濾光器可能會發(fā)熱最嚴(yán)重，而防護(hù)玻璃保持相對較冷。濾光器 和防護(hù)玻璃之間的冷卻劑流可以有效地從濾光器帶走熱量。
在一種實(shí)施方式中，冷卻裝置包括冷卻劑流，尤其是調(diào)整元件 內(nèi)部空間中的氣流，例如按空調(diào)的形式，或者利用一些其他進(jìn)行冷 卻的氣體或經(jīng)冷卻的氣體。優(yōu)點(diǎn)是，例如進(jìn)行冷卻的空氣可以無阻 礙地釋放到空氣中。
在一種有利的實(shí)施方式中，系統(tǒng)包括散熱片，諸如帶有突起(諸 如肋條)的部分。在具有和不具有散熱片的實(shí)施方式中，優(yōu)選地包 括冷卻劑置換裝置，諸如風(fēng)扇或泵，從而能夠向發(fā)熱部分提供新鮮 的冷卻劑。
在一種實(shí)施方式中，調(diào)整元件的壁包括，并且優(yōu)選地基本上由
熱傳導(dǎo)性至少為50W/mK的材料構(gòu)成。優(yōu)選地，壁包括鋁，或者銅。 這使得有可能將熱量快速引導(dǎo)至系統(tǒng)的其他部分，繼而允許由系統(tǒng) 已存在的部分(諸如機(jī)殼上的散熱片)將熱量帶走。不過，在熱量 產(chǎn)生很快，但是數(shù)量很小，也即高功率低能量的應(yīng)用中，熱量的重 新分布已經(jīng)可以滿足將部件的溫度保持在希望的極限之下。
在一種特殊的實(shí)施方式中，冷卻裝置包括冷卻劑噴嘴，其被安 排用于將冷卻劑噴射到調(diào)整元件的一部分上。 一個(gè)例子是低溫噴射， 不過水噴射等也可以滿足。例如相變(phase transition )的潛熱(latent heat)提供了非常有效的冷卻。
在一種特定的實(shí)施方式中，系統(tǒng)提供具有重復(fù)頻率的脈沖模式 的輻射，并且冷卻裝置被安排用于調(diào)整系統(tǒng)使得重復(fù)頻率降低。例 如，冷卻裝置包括調(diào)整元件標(biāo)識裝置，用于影響或控制所述控制單 元或光源。此處可以應(yīng)用上面討論類似的用于控制光水平的原理。 然而，注意，不是改變輻射期間的功率或總通量，而是供應(yīng)此通量的時(shí)間周期，以便能夠更好地帶走產(chǎn)生的熱量。
本發(fā)明還包括用于在根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)治療系統(tǒng)中使用的調(diào)整 元件。區(qū)別特征在于，當(dāng)在根據(jù)本發(fā)明的治療系統(tǒng)中使用時(shí)，此調(diào) 整元件包括上述確保光學(xué)參數(shù)在第二光學(xué)窗口具有希望的預(yù)先確定 的值的裝置。上述與調(diào)整元件有關(guān)的所有特征可以將根據(jù)本發(fā)明的 調(diào)整元件區(qū)別于已知的調(diào)整元件。簡潔起見，包含有這些特征，但 是在此不一一重復(fù)。


現(xiàn)在將參考附圖進(jìn)一 步闡釋本發(fā)明，其中示出和描述了根據(jù)本 發(fā)明的光學(xué)治療系統(tǒng)的多個(gè)示意性和非限制性實(shí)例，其中特別地
圖1以側(cè)視圖示意性示出了根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)；
圖2a和圖2b以側(cè)^^見圖示出了系統(tǒng)的另一實(shí)施方式；
圖3a-圖3c以截面圖示出了調(diào)整元件30的一些實(shí)施方式；
圖4以截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一種調(diào)整元件；
圖5以截面圖示出了調(diào)整元件30的另一實(shí)施方式；
圖6以截面圖示出具有冷卻裝置的調(diào)整元件；以及
圖7以截面圖示出了具有多個(gè)不同冷卻裝置的系統(tǒng)(的一部分)。
具體實(shí)施例方式
圖1以側(cè)視圖示意性示出了根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)。
系統(tǒng)包括主治療設(shè)備1和調(diào)整元件30。主治療設(shè)備1包括帶把 手12的機(jī)殼10。在機(jī)殼10內(nèi)，提供了帶有反射器16的光源M、 控制單元18和可選的濾光器22。機(jī)殼還包括第一光學(xué)窗口 20。
調(diào)整元件30包括壁32、第二光學(xué)窗口 34以及可選的ID芯片 36。調(diào)整元件30借助于附著裝置40附著在主設(shè)備1上。此外，38 是開關(guān)，其可以通過附著調(diào)整元件30來操作。
光源14可以是任何合適的光源，諸如閃光燈、激光等。光源14 由控制單元18所控制，以便將其打開或關(guān)閉，以及設(shè)置(平均)功率、可能的光譜、脈沖率，等等。
來自光源14的輻射經(jīng)由第一光學(xué)窗口 20發(fā)射，第一光學(xué)窗口 示出為光學(xué)器件，諸如玻片，不過其也可以是孔徑。沿箭頭方向可 以移動的濾光器22在控制單元18的控制下，可以被插入以影響光 -潛或功率。
在圖.l中，調(diào)整元件30已經(jīng)借助于諸如套管、螺絲或咬接 (snap-in)連接之類的附著裝置40附著在主設(shè)備1上。附著該調(diào)整 元件30將開關(guān)38帶入操作，其通知控制單元18存在調(diào)整元件30。 此調(diào)整元件具有第二光學(xué)窗口 34,其可以比第一光學(xué)窗口 20更小。 控制單元18可以隨即改變光源14的設(shè)置，和/或插入濾光器22，以 便確保在第二光學(xué)窗口 34發(fā)射的輻射的光學(xué)參數(shù)具有希望的預(yù)先確 定的值，諸如恒定的通量。調(diào)整元件30可選地具有ID芯片36,其 可以與控制單元18通信以交換與調(diào)整元件、治療等有關(guān)的信息。
圖2a和圖2b以側(cè)視圖示出了系統(tǒng)的另一實(shí)施方式。此處，在 所有附圖中，類似的部件用相同的參考標(biāo)號表示。
在圖2a和2b中，機(jī)殼10自身包括第一光學(xué)窗口 20和第二光 學(xué)窗口 34。內(nèi)部部分24包括光源14和反射器16，并且固定地附著 在支架或托架形狀的把手28上。機(jī)殼10經(jīng)由旋轉(zhuǎn)軸26可旋轉(zhuǎn)地附 著在4巴手28上。
用戶可以通過圍繞旋轉(zhuǎn)軸26旋轉(zhuǎn)機(jī)殼10來選擇希望的光學(xué)窗 口 20、 34。傳感器或探測器(未示出)構(gòu)建在系統(tǒng)內(nèi)以探測哪個(gè)光 學(xué)窗口位于光源前面。在需要時(shí)，該傳感器或探測器指示控制單元 適配用于光源的設(shè)置。備選地，每個(gè)光學(xué)窗口可以包括濾光器，使 得希望的光學(xué)參數(shù)處于預(yù)先確定的水平。
圖3a-圖3c以截面圖示出了調(diào)整元件30的一些實(shí)施方式。在每 種情形中，示出了相同的第一光學(xué)窗口 20以供參考。
圖3a示出了具有第二光學(xué)窗口 34的調(diào)整元件30,該第二光學(xué) 窗口 34基本上具有與窗口 20相同的面積，不過具有不同的形狀。 該形狀可能針對例如不同的治療所要求，不過尤其是用于在身體上的特定點(diǎn)或"困難"點(diǎn)上的相同治療。盡管如此，在沒有特殊措施 的情況下，在第二光學(xué)窗口 34的光學(xué)參數(shù)值會改變，此改變根據(jù)本 發(fā)明的措施而被抵消。
圖3b示出了具有比第一窗口 20更大面積的第二光學(xué)窗口 34的 調(diào)整元件的例子。這將總是要求光學(xué)參數(shù)的適配，因?yàn)榉駝t的話較 少量的能量將必須分布在較大的面積上。此調(diào)整元件要求對光源的 主動控制。
圖3c示出了由多根光纖44組成的光導(dǎo)42形式的調(diào)整元件。光 纖44在朝向其形成第二光學(xué)窗口 34的末端方向更細(xì)。雖然通過內(nèi) 部全反射，傳輸基本上沒有損失，并且進(jìn)入光導(dǎo)42的輻射的屬性幾 乎與在窗口 34離開它的光的屬性相同，其中會有一定的吸收，但最 重要的是，在第一光學(xué)窗口 20發(fā)射至光導(dǎo)42中的光耦合不會是 100%。因此，在大部分情形下，需要修正，可以通過在從第一窗口 20去往第二光學(xué)窗口 34時(shí)，選擇希望的直徑變化來實(shí)現(xiàn)此修正。
圖4以截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一種調(diào)整元件。
調(diào)整元件30具有帶有第一涂層50的壁32、第二光學(xué)窗口 34以 及帶有第二涂層48的承載件46。
第二光學(xué)窗口 34小于第一窗口 20。在沒采取措施的情況下，輻 射可能會在第二光學(xué)窗口 34處變得太強(qiáng)。部分輻射入射到壁32上， 其被第一涂層50反射或吸收。類似地，入射或者可能將入射到第二 光學(xué)窗口 34的部分輻射被第一涂層48吸收或反射?？傊?，在第二 光學(xué)窗口 34提供所希望數(shù)量的輻射。另一種選擇可以是涂層50漫 反射。
為了標(biāo)定調(diào)整元件30,如果希望的話，可以適當(dāng)?shù)剡x擇第一涂 層50的寬度和/或吸收系數(shù)和/或第二涂層48的面積和/或吸收系數(shù) 和/或反射系數(shù)，從而是波長相關(guān)的。而且，承載件46也可以有適當(dāng) 的濾光性或其他吸收特性。
在所示情形中，第二光學(xué)窗口 34可以是防護(hù)玻璃，其對輻射幾 乎沒有影響，但是用于保護(hù)調(diào)整元件30的內(nèi)部部分以及防止用戶接觸熱濾光器/承載件46等。如果承載件和/或第二光學(xué)窗口 34由未處 理的玻璃之類的構(gòu)成，則根據(jù)折射系數(shù)，在每個(gè)邊界上也會有大約
4%的反射損失。如果較高的反射損失足夠?qū)崿F(xiàn)所希望的光學(xué)參數(shù)值，
則可以添加一個(gè)或多個(gè)額外的玻片等。
圖5以截面圖示出了調(diào)整元件30的另一種實(shí)施方式。此處，來 自第一光學(xué)窗口 20的部分輻射入射到具有鏡面反射部分52的壁32 上。在多次反射之后(取決于入射角度和頂角cc ),部分輻射會返 回到第一光學(xué)窗口 ，并且因此從通過第二光學(xué)窗口 34的輻射中移除。 部分52的尺寸和頂角cc確定比率，以及從而確定相應(yīng)的光學(xué)參數(shù)值。
圖6以截面圖示出了具有冷卻裝置的調(diào)整元件。
具有壁32的調(diào)整元件30圍繞第一光學(xué)窗口 20附著在其前面， 并且真正的第二光學(xué)窗口 34上面一小段距離處利用濾光器54關(guān)閉。 虛線表面指示的是當(dāng)調(diào)整元件正在使用時(shí)傾向于變得最熱的部位。
經(jīng)由供應(yīng)開口 56和釋放開口 58，通過泵或風(fēng)扇裝置(未示出) 提供冷卻空氣流60?？諝鈳ё弋a(chǎn)生的熱量。優(yōu)選地，將空氣或其他 氣體用于冷卻幾乎不會與壁32熱接觸的濾光器。
調(diào)整元件30還包括壁32內(nèi)的多個(gè)冷卻劑通道62。冷卻劑可以 提供給通道62以帶走產(chǎn)生的熱量。冷卻劑可以是氣體(諸如空氣)， 液體(諸如水)，或者其混合?？梢愿鶕?jù)要帶走的熱量的多少來選 擇通道的數(shù)量和尺寸、冷卻劑的類型和通量。特別地，如果主要是 壁產(chǎn)生熱量，則這種內(nèi)部冷卻系統(tǒng)是優(yōu)選的。
圖7以截面圖示出了具有多個(gè)不同冷卻裝置的系統(tǒng)(的一部分)。
參考標(biāo)號1示出了主設(shè)備的一部分，而標(biāo)號30照常指示附著的 調(diào)整元件。
標(biāo)號64指示機(jī)殼10的中空壁部分，其帶有風(fēng)扇66。標(biāo)號68和 70是第一和第二散熱片。
在這種情形下，壁32也是中空的，并且連接至中空的壁部分64。 風(fēng)扇66吸走被加熱了的空氣，或者可以吹動新鮮空氣穿過部分64 和壁32。參考圖6的通道62,也可以說，壁32內(nèi)部有一個(gè)大通道。在圖7的右部，壁32可以是中空的，其連接至機(jī)殼IO的壁的
類似中空部分，并且具有類似的(未示出)風(fēng)扇之類，用于產(chǎn)生冷 卻劑流。此用虛線指示。壁也可以是實(shí)心的，并且例如由銅或者具 有高熱傳導(dǎo)性的一些其他材料構(gòu)成。為了提高散熱特性，第一和/或
第二散熱片68、 70提供有肋條或其他結(jié)構(gòu)以增大其表面積。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)治療系統(tǒng)，包括-具有第一光學(xué)窗口(20)的機(jī)殼(10)，-在所述機(jī)殼(10)內(nèi)用于提供光輻射的光源(14)，-控制單元(18)，用于控制所述光源(14)使得所述系統(tǒng)能夠在所述第一光學(xué)窗口(20)提供光輻射，該光輻射的至少一個(gè)光學(xué)參數(shù)具有預(yù)先確定的第一值，以及-至少一個(gè)光輻射發(fā)射調(diào)整元件(30)與第二光學(xué)窗口(34)的組件，所述調(diào)整元件(30)可相對于所述光源(14)布置，使得所述光輻射的至少一部分能夠經(jīng)由所述第二光學(xué)窗口(34)而發(fā)射，其特征在于所述系統(tǒng)還包括光學(xué)參數(shù)控制裝置(36，38；42；46，48，50；52；54)，該光學(xué)參數(shù)控制裝置被安排用于控制所述至少一個(gè)光學(xué)參數(shù)以在所述第二光學(xué)窗口(34)具有預(yù)先確定的第二值。
2. 如權(quán)利要求1的光學(xué)治療系統(tǒng)，其中所述光學(xué)參數(shù)控制裝置 (36， 38; 42; 46, 48, 50; 52; 54)被安排用于根據(jù)所述第二光學(xué)窗口 (34)和/或調(diào)整元件(30)的形狀和尺寸中的至少一個(gè)來控 制所述光學(xué)參數(shù)。
3. 如權(quán)利要求1的光學(xué)治療系統(tǒng)，其中所述光學(xué)參數(shù)包括所述 光輻射的光譜、強(qiáng)度和通量中的至少一個(gè)，并且優(yōu)選的是強(qiáng)度。
4. 如權(quán)利要求1的光學(xué)治療系統(tǒng)，其中所述第二值基本上等于 所述第一值。
5. 如權(quán)利要求1的光學(xué)治療系統(tǒng)，其中所述光學(xué)參數(shù)控制裝置 包括標(biāo)識裝置(36, 38 ),其能夠與所述控制單元(18)協(xié)同操作； 或者包括探測器裝置(38),其被安排用于探測所述調(diào)整元件(30) 的存在，并且優(yōu)選地探測所述調(diào)整元件(30)的類型。
6. 如權(quán)利要求1的光學(xué)治療系統(tǒng)，其中所述光學(xué)參數(shù)控制裝置 包括被動輻射影響裝置(46， 48， 50; 52; 54),其被安排用于操縱由所述光源(14)發(fā)射的光輻射，或者用于操縱通過所述第一光 學(xué)窗口 (20)發(fā)射的光輻射。
7. 如權(quán)利要求1的光學(xué)治療系統(tǒng)，其中所述調(diào)整元件(30)包 括至少一個(gè)光學(xué)器件(34; 46， 48; 54)。
8. 如權(quán)利要求7的光學(xué)治療系統(tǒng)，其中所述光學(xué)器件包括濾光 器(48; 54),或具有部分反射性和/或吸收性的涂層(48)的承載 件(46 )。
9. 如權(quán)利要求1的光學(xué)治療系統(tǒng)，其中所述調(diào)整元件(30)包 括至少一個(gè)光導(dǎo)(42)，優(yōu)選地是一束光纖(44),其直徑朝向所 述第二光學(xué)窗口 ( 34)減小。
10. 如權(quán)利要求1的光學(xué)治療系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)包括冷卻裝置 (60, 62; 64， 66, 68, 70 ),其被安排用于為所述調(diào)整元件(30)散熱。
11. 如權(quán)利要求1的光學(xué)治療系統(tǒng)，其中所述冷卻裝置包括所述 調(diào)整元件(30)中的冷卻劑通道(62; 64),用于流動冷卻劑，或 者所述調(diào)整元件(30)內(nèi)部空間中的氣流(60)。
12. —種調(diào)整元件(30),用于在根據(jù)前述任一權(quán)利要求的光學(xué) 治療系統(tǒng)中使用。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種光學(xué)治療系統(tǒng)，包括第一光學(xué)窗口(20)、光源(14)、控制單元(18)，控制單元用于控制光源(14)以使得在第一光學(xué)窗口(20)的光輻射具有預(yù)先確定的第一值的至少一個(gè)光學(xué)參數(shù)，以及包括具有第二光學(xué)窗口(34)的至少一個(gè)發(fā)射調(diào)整元件(30)，其可被布置以使得光輻射可以經(jīng)由第二光學(xué)窗口(34)發(fā)射，所述光學(xué)治療系統(tǒng)還包括光學(xué)參數(shù)控制裝置(36，38；42；46，48，50；52；54)，其被安排以控制所述至少一個(gè)光學(xué)參數(shù)以在第二光學(xué)窗口(34)具有預(yù)先確定的第二值。光學(xué)參數(shù)控制裝置可以是主動的，并且影響控制單元(18)或光源(14)，和/或是被動的，并且通過濾光、反射、吸收等來影響通過第一光學(xué)窗口(20)發(fā)射的輻射。因此，即使第二窗口具有不同的形狀或面積或者輻射已被其他所影響，該系統(tǒng)也能夠提供具有已知的、預(yù)先確定的并且因而更可靠的屬性的輻射。
文檔編號A61B18/20GK101528148SQ200780039335
公開日2009年9月9日 申請日期2007年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2006年10月23日
發(fā)明者G·魯森, R·費(fèi)特尼爾 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司