專利名稱：用于對混濁介質(zhì)內(nèi)部進行成像的設(shè)備的制作方法
用于對混濁介質(zhì)內(nèi)部進行成像的設(shè)備
本發(fā)明涉及一種用于對混濁介質(zhì)的內(nèi)部進行成像的設(shè)備，其包括容器，
其中，所述容器包括用于容納混濁介質(zhì)(turbidmedium)的測量容積，并且所 述容器包括用于將光源光學(xué)耦合到所述測量容積的光學(xué)通道。本發(fā)明還涉 及一種包括該設(shè)備的醫(yī)學(xué)圖像獲取設(shè)備。本發(fā)明還涉及一種次級容器 (forther receptacle),其被設(shè)置為插入到一容器中，其中，該容器包括在用于 對混濁介質(zhì)的內(nèi)部進行成像的設(shè)備中。
該類設(shè)備的一個實施例可以從美國專利6,327,488 Bl中得知。該已知 設(shè)備能夠用于對混濁介質(zhì)的內(nèi)部進行成像，例如生物組織。在醫(yī)學(xué)診斷中， 該設(shè)備可以用于對女性乳房的內(nèi)部進行成像。所述測量容積容納諸如乳房 之類的混濁介質(zhì)。所述測量容積可以由具有僅一個開口端的固定器所固定。 該開口端由邊緣部分所圍成。該邊緣部分具有可彈性變形的封閉環(huán)。這種 固定器可以從美國專利6,480,281 Bl中得知。通過從在多個位置中相繼選 出的一個位置處照射混濁介質(zhì)，來將光施加給混濁介質(zhì)。通過從這些位置 中選出的其他位置從測量容積射出的光被檢測器單元檢測到，并用于得到 混濁介質(zhì)內(nèi)部的圖像。
該已知設(shè)備的一個缺點是，遵循"一個尺寸匹配多種情況"原則而標(biāo) 準(zhǔn)化的容器的使用并非總是為混濁介質(zhì)提供最佳匹配。采用這種容器，混 濁介質(zhì)可能僅填充了測量容積中的很小的一部分，造成非最佳匹配。在該 已知設(shè)備中，在容器與混濁介質(zhì)之間的空隙可以填充適應(yīng)性流體，以便抵 消由于混濁介質(zhì)與其周圍的光學(xué)耦合造成的邊界效應(yīng)。然而，該方法導(dǎo)致 在容器與混濁介質(zhì)之間的空隙中的光損失，并且還導(dǎo)致在容器與混濁介質(zhì) 之間的間隙的內(nèi)的光路的變寬。光路的這種變寬導(dǎo)致了較低的圖像分辨率 和更為困難的圖像重構(gòu)處理。另外，遵循"一個尺寸匹配多種情況"原則 而標(biāo)準(zhǔn)化的容器的使用意味著一些混濁介質(zhì)，例如一些女性乳房，可能太 大，以至于不能容納在測量容積內(nèi)。本發(fā)明的一個目的在于，調(diào)整該設(shè)備，從而可以為測量容積內(nèi)的混濁 介質(zhì)提供更好的匹配。根據(jù)本發(fā)明，該目的是通過以下實現(xiàn)的該設(shè)備還 包括次級容器，其被設(shè)置為插入到所述容器中，其中，并且所述次級容器 包括用于容納所述混濁介質(zhì)的受限測量容積；并且所述次級容器還包括用 于將光源光學(xué)耦合到所述受限測量容積的多個次級光學(xué)通道，每個次級光 學(xué)通道都包括用于將所述容器光學(xué)耦合到所述次級容器的第一端和用于將 所述次級容器光學(xué)耦合到所述受限測量容積的第二端。
本發(fā)明是基于以下認(rèn)知的 一個容器結(jié)合能夠插入該容器中的次級容 器的使用，使得可以將所述次級容器所圍成的受限測量容積的尺寸選擇為， 使得能夠為在所述受限測量容積內(nèi)的混濁介質(zhì)提供更好的匹配。另一優(yōu)點 是，次級容器的使用是衛(wèi)生的，因為該次級容器能夠從所述容器中移走并 且容易清洗干凈。
根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的一個實施例的特征在于，所述設(shè)備包括用于在所 述容器中定位和對齊所述次級容器的裝置。在所述容器中適當(dāng)?shù)囟ㄎ缓蛯?齊所述次級容器對于例如適當(dāng)照射在所述受限測量容積內(nèi)的混濁介質(zhì)而言 是必需的。如果例如所述次級容器包括多個光學(xué)通路，則必須將這些光學(xué) 通路定位和對齊，以便使來自光源的光能夠到達(dá)所述受限測量容積。在可 以將所述設(shè)備用于成像女性乳房的醫(yī)學(xué)診斷中，在所述容器中適當(dāng)?shù)囟ㄎ?和對齊所述次級容器對于病人的位置而言也是必需的。用于在所述容器中 適當(dāng)?shù)囟ㄎ缓蛯R所述次級容器的可行裝置可以例如包括以下任意裝置 凹口、凹槽、凸紋、直線、以及光學(xué)基準(zhǔn)通道。
根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實施例的特征在于，所述設(shè)備包括用于將插 入到所述容器中的所述次級容器從所述容器中移走的裝置。為了提供具體 混濁介質(zhì)在所述受限測量容積內(nèi)的最佳匹配，必須能夠插入被圍成為混濁 介質(zhì)提供最佳匹配的受限測量容積的次級容器。因此，必須能夠?qū)⒉迦氲?所述容器中的次級容器插入到該容器中并從其中移走。用于從所述容器中 移走次級容器的可行裝置可以例如包括以下任意裝置柄、把手、栓、以 及用于將氣體導(dǎo)入到所述容器與所述次級容器之間的空隙內(nèi)的氣體進口， 其中該氣體的壓力超過了周圍大氣壓。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實施例的特征在于，所述設(shè)備包括用于增強 在所述容器與所述次級容器之間的光學(xué)耦合的裝置。由于在測量過程中采 用來自光源的光照射所述受限測量容積內(nèi)的混濁介質(zhì)，并且由于在該光進 入所述受限測量容積之前必須從所述容器行進到所述次級容器，因此在所 述容器與所述次級容器之間必須有充分的光學(xué)耦合。用于增強在所述容器 與所述次級容器之間的光學(xué)耦合的可行裝置可以包括以下任意裝置透鏡、 鏡面、光纖、具有能反射測量中使用的光的內(nèi)表面的光學(xué)通路、具有能吸 收測量中使用的光的內(nèi)表面的光學(xué)通路、以及具有多個光闌的光學(xué)通道。
根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實施例的特征在于，所述設(shè)備包括用于減小 在所述容器與所述次級容器之間的空隙內(nèi)的串?dāng)_的裝置。將次級容器插入 到所述容器中并且將光從光源經(jīng)由所述容器和所述次級容器傳導(dǎo)到所述受 限測量容積中，具有在所述容器與所述次級容器之間的空隙內(nèi)發(fā)生串?dāng)_的 風(fēng)險。在該情況下，在一個位置離開所述容器的光將會在多個位置處進入 和離開所述次級容器。將會每次從多個位置照射在所述受限測量容積內(nèi)的 混濁介質(zhì)而不是僅從一個位置照射所述混濁介質(zhì)，這阻礙了圖像重構(gòu)處理。 此外，在一個位置處離開所述容器的光將會在另一位置直接再次進入所述 容器并被檢測到，而沒有穿過所述受限測量容積。光將會直接進入接收通 道而不是照射所述受限測量容積內(nèi)的混濁介質(zhì)，由此造成了關(guān)于從所述受 限測量容積實際發(fā)出的光的分布的錯誤信息。因此，需要用于減小在所述 容器與所述次級容器之間的空隙內(nèi)的串?dāng)_的設(shè)備。用于減小在所述容器與 所述次級容器之間的空隙內(nèi)的串?dāng)_的可行裝置包括以下任意裝置凸紋、 步進式改變光學(xué)通道半徑、步進式改變所述容器的面向所述測量容積的表 面的半徑、步進式改變所述次級容器的背向所述受限測量容積的表面的半 徑、最小化在所述容器的面向所述受限測量容積的表面與所述次級容器的 背向所述受限測量容積的表面之間的空隙、位于在所述容器的面向所述受 限測量容積的表面與所述次級容器的背向所述受限測量容積的表面之間的 空隙中的吸收測量中使用的光的介質(zhì)、所述容器的面向所述測量容積并且 吸收測量中使用的光的表面、以及所述次級容器的背向所述受限測量容積 并且吸收測量中使用的光的表面。本實施例的優(yōu)點在于，所述裝置相對容 易實現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實施例的特征在于，所述次級光學(xué)通道包括 用于濾光的裝置。在測量過程中，可以利用例如熒光造影劑的物質(zhì)。采用 這種測量，經(jīng)常慣例地這樣使用濾光器僅僅檢測在特定波長范圍內(nèi)的光， 或者具有超出某個特定波長或頻率閾值的波長或頻率的光。這樣，可以使 用由所采用的熒光造影劑所發(fā)射的光來獲得信息。本實施例的優(yōu)點在于， 用于濾光的裝置可以容易地在次級容器中實現(xiàn)，使得所述設(shè)備容易調(diào)整適 應(yīng)于新的測量要求。
根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實施例的特征在于，所述次級容器具有由邊 緣部分所圍成的開口端，其中，所述開口部分包括用于附加密封環(huán)的裝置。 密封環(huán)的使用本身可以從美國專利6,480,281 Bl中找到。在該已知設(shè)備中， 所述容器與所述混濁介質(zhì)之間的間隙可以填充適應(yīng)性流體，以避免在待檢 查的混濁介質(zhì)周圍出現(xiàn)光學(xué)短路，并且克服由所述混濁介質(zhì)與其周圍環(huán)境 之間的光學(xué)耦合造成的邊界效應(yīng)。如果例如使用該已知設(shè)備來對女性乳房 的內(nèi)部進行成像，則可以在所述容器與患者身體之間使用密封環(huán)，以便用 適應(yīng)性流體充分充滿在所述容器與所述混濁介質(zhì)之間的間隙。另外，密封 環(huán)可以為病人提供更為舒適的與所述容器的接觸面。以上所述也可以在使 用能夠插入所述容器中的次級容器時實現(xiàn)。在該情況下，必須用適應(yīng)性介 質(zhì)完全充滿所述受限測量容積，并為病人提供舒適度的接觸面。因此，必 須為次級容器提供用于附加密封環(huán)的裝置?？尚醒b置可以包括以下任意裝 置凸紋、凹槽、和栓。
根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實施例的特征在于，所述次級容器包括用于
創(chuàng)建圖像重構(gòu)的最佳邊界條件的裝置。這些裝置可以包括以下任意裝置
所述次級容器的面向所述受限測量容積并且吸收測量中使用的光的表面、 所述次級容器的面向所述受限測量容積并且反射測量中使用的光的表面、 所述次級容器的面向所述受限測量容積并且具有與所述混濁介質(zhì)類似屬性 的表面。所述設(shè)備的目的在于，通過用來自光源的光照射測量容積內(nèi)的混 濁介質(zhì)、檢測從所述測量容積發(fā)出的光、并使用所檢測到的光執(zhí)行圖像重 構(gòu)處理，來獲得在測量容積內(nèi)的混濁介質(zhì)的內(nèi)部的圖像。為了便于用于使 用次級容器的測量的圖像重構(gòu)處理，有幫助的是，精確地知道在所述受限
測量容積的邊界上的邊界條件。這能夠通過以下實現(xiàn)將所述次級容器的光學(xué)屬性選擇為，使得作為結(jié)果，可以知道用于所述圖像重構(gòu)處理的邊界 調(diào)節(jié)。這樣，邊界條件是最優(yōu)的。根據(jù)測量類型和所述圖像重構(gòu)處理，可 能期望有不同的邊界條件。"與所述混濁介質(zhì)類似的光學(xué)屬性"還包含對于 可使用所述設(shè)備進行成像的一組混濁介質(zhì)進行平均得到的光學(xué)屬性。
根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實施例的特征在于，所述次級容器包括面向 所述受限測量容積的表面，并且所述表面和至少一個所述附加光學(xué)通道的 第二端由連續(xù)層所覆蓋。
通過用材料層覆蓋所述次級容器的面向所述受限測量容積的表面以及 在所述次級容器中包括至少一個所述附加光學(xué)通道的第二端，可以創(chuàng)建連 續(xù)層，其保護被覆蓋的附加光學(xué)通道免受傷害，并且該連續(xù)層容易清潔。 另外，所述層可以用于防止特定對象不會與所述受限測量容積發(fā)生接觸。 這種對象可以包括例如，可用于附加測量的超聲設(shè)備，或者用于裝配所 述次級容器的對象，例如螺栓。此外，所述層可以用于漫射從被覆蓋的次 級光學(xué)通道射出并進入所述受限測量容積的光。漫射光的優(yōu)勢在于，對于 操作所述設(shè)備的人而言更為安全。如果所述設(shè)備在醫(yī)學(xué)診斷中用于例如女 性乳房的成像，則這些人包括在將乳房容納在所述受限測量容積之前和之 后，向所述受限測量容積內(nèi)觀看的患者。如果所述層用于對光進行漫射， 則必須將所述層的光學(xué)屬性選擇為，使得所述層對于在與所述層基本垂直 的方向上從被覆蓋的次級光學(xué)通道的第二端射出并進入所述受限測量容積 的光而言是充分透明的，以便有足夠的光進入所述受限測量容積。然而， 同時，必須將所述層的光學(xué)屬性選擇為，使得所述層對于從被覆蓋的附加 光學(xué)通道的第二端射出并傳輸通過所述層而不進入所述受限測量容積的光 而言是充分吸收的，從而僅有微量的光可以到達(dá)相鄰次級光學(xué)通道的第二 端。聚甲醛是具有所需光學(xué)屬性的材料的一個示例?？商鎿Q的，所述層可 以由諸如焊接玻璃之類的材料構(gòu)成。該實施例具有的另一優(yōu)點是，可以將 所述層的光學(xué)屬性選擇為，使得所述層的光學(xué)屬性與所述混濁介質(zhì)的光學(xué) 屬性類似。"與所述混濁介質(zhì)類似的光學(xué)屬性"還包含對于可使用所述設(shè)備 進行成像的一組混濁介質(zhì)進行平均得到的光學(xué)屬性。具有這種光學(xué)屬性的 材料是聚甲醛。
根據(jù)本發(fā)明，所述醫(yī)學(xué)圖像獲取設(shè)備包括根據(jù)先前各個實施例的設(shè)備。如果例如所述設(shè)備用于對混濁介質(zhì)的內(nèi)部進行成像，如同在醫(yī)學(xué)診斷中所 做的那樣，則所述設(shè)備將會受益于先前各個實施例。
根據(jù)本發(fā)明，所述次級容器被設(shè)置為插入到一容器中，并且還包括多 個光學(xué)通道，所述容器被包括在用于對混濁介質(zhì)的內(nèi)部進行成像的設(shè)備中。 這種次級容器所具有的尺寸將會非常接近一容器。
將會參考附圖闡明和描述本發(fā)明的這些和其他方面。


圖1示意性示出了用于執(zhí)行混濁介質(zhì)的測量的設(shè)備的一個實施例。
圖2a和2b示意性示出了容器和次級容器。 圖3更為詳細(xì)地示意性示出了一個容器和次級容器。 圖4示意性示出了沿著圖3中的IV-IV得到的橫截面，示出了在所述容 器和所述次級容器中的光學(xué)基準(zhǔn)通道。
圖5示意性示出了根據(jù)本發(fā)明的醫(yī)學(xué)圖像獲取設(shè)備的一個實施例。
圖1示意性示出了用于對混濁介質(zhì)進行成像的設(shè)備的一個實施例。設(shè) 備1包括光源5;光電檢測器單元10;圖像重構(gòu)單元12,用于基于使用光 電檢測器單元10所檢測的光，重構(gòu)混濁介質(zhì)55的內(nèi)部的圖像；測量容積 15，由容器20所圍成，所述容器20包括用于光25a的多個入口和用于光 25b的多個出口；以及導(dǎo)光管30a和30b，耦合到所述入口和出口位置。設(shè) 備1還包括選擇單元35，用于將光源5耦合到容器20中的用于光25a的多 個選定入口位置。使用輸入導(dǎo)光管40將光源5耦合到選擇單元35。為了清 晰起見，將用于光25a的入口位置和用于光25b的出口位置放置在容器20 的相對兩側(cè)上。然而，實際上，這兩種位置可以圍繞測量容積15散布。將 混濁介質(zhì)55容納在測量容積15中。然后，使用選擇單元35相繼地將光源 5耦合到選定的用于光25a的入口位置上，從而從多個位置以來自光源5的 光照射混濁介質(zhì)55。使用用于光25b的出口位置并使用光電檢測器單元10， 從多個位置檢測從測量容積15射出的光。然后，將所檢測到的光用于獲得 混濁介質(zhì)55的內(nèi)部的圖像。這種基于例如代數(shù)學(xué)重構(gòu)技術(shù)或者有限元方法 的重構(gòu)過程找到對于逆問題的最近似的解。
圖2a和2b示意性示出了容器20和插入到容器20中的次級容器60。容器20包括用于將光源5(見圖l)光學(xué)耦合到測量容積15的多個光學(xué)通道 70，其中，測量容積15在圖2a和2b中由虛線表示。次級容器60包括多 個次級光學(xué)通道80，用于將容器20的選定光學(xué)通道光學(xué)耦合到受限測量容 積75。對于次級容器60，可以使用可變尺寸，來調(diào)節(jié)受限測量容積75的 尺寸。通過圖示，圖2a示出了圍成了一較大受限測量容積75的次級容器 60，而圖2b示出了圍成了一較小受限測量容積75的次級容器60'。同樣， 在圖2a和2b中示出了耦合到容器20的光纖72，以及用于適應(yīng)性介質(zhì)的進 出口 90和95。
圖3更詳細(xì)地示意性示出了容器20和次級容器60。為了清晰起見，將 在容器20與次級容器60之間的間隙65進行了夸大。實際上，次級容器60 是與容器20近似匹配的。容器20包括測量容積15，其在圖3中用虛線表 示，用于容納混濁介質(zhì)55或者次級容器60。容器20包括多個光學(xué)通道70， 用于將光源5(見圖l)光學(xué)耦合到測量容積15。次級容器60包括受限測量 容積75，用于容納混濁介質(zhì)55，并且還包括多個次級光學(xué)通道80，用于將 容器20的選定光學(xué)通道光學(xué)耦合到受限測量容積75。每個次級光學(xué)通道 80都具有第一端82和第二端84，第一端82用于將容器20光學(xué)耦合到次 級容器60，第二端84用于將次級容器60光學(xué)耦合到受限測量容積75?？?以存在光學(xué)基準(zhǔn)通道85，用于定位和對齊在容器20中的次級容器60。光 學(xué)基準(zhǔn)通道85將光源5直接耦合到光電檢測器單元10，而沒有信號進入受 限測量容積75?？梢允褂枚嘈竟饫w來將光傳導(dǎo)通過光學(xué)通道70、次級光學(xué) 通道80、以及光學(xué)基準(zhǔn)通道85。圖3還示出了，可以管理和移走適應(yīng)性介 質(zhì)。為了這些目的，容器20和次級容器60可以被設(shè)置為分別包括進出口 90和次級進出口 95。圖3還示出了，該設(shè)備可以包括用于將次級容器60 從容器20移走的裝置。這些裝置可以包括氣體進口 100，用于將氣體導(dǎo)入 到容器20與次級容器60之間的間隙65中。在圖3中，進口100耦合到容 器20。圖3還示意性示出了，該設(shè)備可以包括用于增強容器20與次級容器 60之間的光學(xué)耦合的裝置。這些裝置可以包括透鏡105、光纖、鏡面、具 有吸收內(nèi)表面的光學(xué)通道、以及具有多個光闌的光學(xué)通道。為了清晰起見， 在圖3中的次級容器60中，僅僅示出了透鏡105。用于增強容器20與次級 容器60之間的光學(xué)耦合的裝置可以包括在容器20中，次級容器60中，如圖3以透鏡105示出，也可以包含在兩者中。同時示出的是，該設(shè)備可以 包括用于減小容器20的光學(xué)通道70與次級容器60的次級光學(xué)通道80之 間的串?dāng)_的裝置。這些裝置可以包括為容器20提供面向測量容積15并 且吸收測量中使用的光的粗糙表面110，以及為次級容器60提供背向受限 測量容積75并且吸收測量中使用的光的粗糙表面115。這些裝置還可以包 括在空隙65中的吸收測量中使用的光的介質(zhì)(為了清晰起見，在圖3中未 示出該吸收介質(zhì))、以及機器遮擋120(為了清晰起見，僅在一個位置示出了 一種類型的遮擋)。還示出的是，該設(shè)備可以包括用于濾光的裝置，例如濾 光器125。在圖3中，如所示，濾光器125放置在次級容器60的次級光學(xué) 通道80中。圖3還示意性示出了，次級容器60可以包括用于附加密封環(huán) 的裝置130。從圖3中可以清晰看到，通過選擇次級容器60的壁的厚度， 可以調(diào)整受限測量容積75的尺寸，以便為混濁介質(zhì)55提供更好的匹配。 容器20和次級容器60可以借助于電氣、光學(xué)、機械、或者流體彼此耦合。 電氣耦合可以用于例如適應(yīng)性介質(zhì)的加熱或者集成超聲裝置、LED、附加 光電檢測器或壓力傳感器的操作。光學(xué)耦合可以用于例如測量和安全開關(guān)。 機械耦合可以用于例如用于確認(rèn)容器或次級容器的尺寸的傳感器。流體耦 合可以用于例如管理或移走適應(yīng)性流體。次級容器60包括面向受限測量容 積75的表面?？梢杂眠B續(xù)層(在圖3中未示出該層)覆蓋該表面和至少一個 次級光學(xué)通道80的第二端84。這種層的應(yīng)用可以例如漫射或吸收從次級光 學(xué)通道80的第二端84射出的光。如果該層用于對光進行散射，則該層的 光學(xué)屬性必須被選擇為使該層對于在與該層基本垂直的方向上從被覆蓋的 次級光學(xué)通道80的第二端84射出并進入受限測量容積75的光而言是足夠 透明的，以便有足夠的光量進入受限測量容積75。然而，同時，該層的光 學(xué)屬性必須被選擇為使該層對于從被覆蓋的次級光學(xué)通道80的第二端84 射出并傳輸通過該層但沒有進入受限測量容積75的光而言是充分吸收性 的，從而可以只有微量的光可以到達(dá)相鄰次級光學(xué)通道80的第二端84。聚 甲醛是具有所需光學(xué)屬性的材料的一個實例。可替換地，該層可以由諸如 焊接玻璃(wdderglass)之類的材料構(gòu)成。在該情況下，與使用諸如聚甲醛之 類的材料的情況相比，從被覆蓋的次級光學(xué)通道80的第二端84射出的光 將會發(fā)生較小的漫射。然而，諸如焊接玻璃之類的材料與諸如聚甲醛之類的材料相比吸光性更強。因此，存在一個材料范圍，在一端上是對光漫射 但是吸光性相對較弱的諸如聚甲醛之類的材料，而在另一端是基本不對光 漫射而是吸光性相對較強的諸如焊接玻璃之類的材料。通過選擇該層的材 料和該層的厚度，可以創(chuàng)建最佳條件。
圖4示意性示出了沿圖3中的線IV-IV的橫截面，示出了在容器20和 次級容器60中的光學(xué)基準(zhǔn)通道85的頂視圖。光學(xué)基準(zhǔn)通道85經(jīng)過次級容 器60，并且光學(xué)基準(zhǔn)通道85所傳輸?shù)男盘柌⒉贿M入受限測量容積75。可 以在光學(xué)基準(zhǔn)通道85中使用多芯光纖來傳導(dǎo)信號。如圖所示，光學(xué)基準(zhǔn)通 道85分別從位置彼此相對的點135和140進出次級容器60。然而，這并不 是必須的。為了清晰起見，再次夸大了容器20與次級容器60之間的間隙 65。
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的醫(yī)學(xué)圖像獲取設(shè)備的實施例。該醫(yī)學(xué)圖像獲 取設(shè)備180包括如圖1中虛線方框指示的設(shè)備1。除了設(shè)備1之外，醫(yī)學(xué)圖 像獲取設(shè)備180還包括次級容器60、用于顯示混濁介質(zhì)45的內(nèi)部的圖像的 顯示屏幕185、以及輸入接口190，例如，實現(xiàn)并可用于與醫(yī)學(xué)圖像獲取設(shè) 備180進行交換的鍵盤。
應(yīng)該注意，以上所述的各個實施例是說明性的而并非限定本發(fā)明，在 不脫離附帶權(quán)利要求的范圍的情況下，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計各種替換 實施例。在權(quán)利要求中，放在括號中的任何參考標(biāo)記都不應(yīng)理解為是對權(quán) 利要求的限定。單詞"包括"并不排斥存在除權(quán)利要求中所列出的之外的 其他元件或步驟。元件前面的單詞"一個"并不排斥有多個這種元件的存 在。在枚舉了幾個裝置的系統(tǒng)權(quán)利要求中，這些裝置中的幾個可以用同一 計算機可讀軟件或硬件來實現(xiàn)。在不同的從屬權(quán)利要求中提及特定手段的 這一事實并不表示不能使用這些手段的組合來獲得有利效果。
權(quán)利要求
1、一種用于對混濁介質(zhì)(55)的內(nèi)部進行成像的設(shè)備(1)，包括容器(20)，其中，所述容器(20)包括用于容納所述混濁介質(zhì)(55)的測量容積(15)，并且所述容器(20)包括用于將光源(5)光學(xué)耦合到所述測量容積(15)的多個光學(xué)通道(70)，其特征在于所述設(shè)備(1)還包括被配置為插入到所述容器(20)中的次級容器(60)，其中，所述次級容器(60)包括用于容納所述混濁介質(zhì)(55)的受限測量容積(75)，并且所述次級容器(60)包括用于將所述光源(5)光學(xué)耦合到所述受限測量容積(75)的多個次級光學(xué)通道(80)，并且每個次級光學(xué)通道(80)都具有用于將所述容器(20)光學(xué)耦合到所述次級容器(60)的第一端和用于將所述次級容器(60)光學(xué)耦合到所述受限測量容積(75)的第二端。
2、 如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(l)，其中，所述設(shè)備(l)包括用于在所述容 器(20)中定位和對齊所述次級容器(60)的裝置(85)。
3、 如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(l)，其中，所述設(shè)備(l)包括用于將插入到 所述容器(20)中的所述次級容器(60)從所述容器(20)中移走的裝置(100)。
4、 如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(l)，其中，所述設(shè)備(l)包括用于增強在所 述容器(20)與所述次級容器(60)之間的光學(xué)耦合的裝置(105)
5、 如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(l)，其中，所述設(shè)備(l)包括用于減小在所 述容器(20)與所述次級容器(60)之間的間隙(65)中的串?dāng)_的裝置(110、 115、 120)。
6、 如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(l)，其中，所述次級光學(xué)通道(80)包括用 于濾光的裝置(125)。
7、 如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(l)，其中，所述次級容器(60)具有以邊緣部分圍成的開口端，其中，所述邊緣部分具有用于附加密封環(huán)的裝置(130)。
8、 如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(l)，其中，所述次級容器(60)包括用于創(chuàng) 建圖像重構(gòu)的最佳邊界條件的裝置。
9、 如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(l)，其中，所述次級容器(60)包括面向所 述受限測量容積(75)的表面，并且其中，所述表面和至少一個所述次級光學(xué) 通道(80)的第二端由連續(xù)層所覆蓋。
10、 一種醫(yī)學(xué)圖像獲取設(shè)備，包括根據(jù)權(quán)利要求1到9中任意一項所 述的設(shè)備(l)。
11、 一種次級容器(60)，被設(shè)置為插入到容器(20)中，并且包括次級光 學(xué)通道(80)，其中，所述容器(20)包括在用于對混濁介質(zhì)(55)的內(nèi)部進行成 像的設(shè)備(l)中。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于對混濁介質(zhì)(55)的內(nèi)部進行成像的設(shè)備(1)，包括容器(20)，其中，所述容器(20)包括用于容納所述混濁介質(zhì)(55)的測量容積(15)。設(shè)備(1)被調(diào)整為使得設(shè)備(1)還包括被設(shè)置為插入到所述容器(20)中的次級容器(60)，其中，次級容器(60)包括用于容納混濁介質(zhì)(55)的受限測量容積(75)。
文檔編號A61B5/00GK101309632SQ200680042693
公開日2008年11月19日 申請日期2006年10月27日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月18日
發(fā)明者A·J·M·J·拉斯, L·P·巴克, M·B·范德馬克, M·C·范貝克 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司