專利名稱：醫(yī)用隔離監(jiān)護(hù)室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種醫(yī)用隔離監(jiān)護(hù)室。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有對(duì)傳染病人的治療大多數(shù)是醫(yī)護(hù)人員與病人之間在同一病房面對(duì)面直接接觸進(jìn)行的，病人所呼出的攜有病毒的氣體仍在病房?jī)?nèi)擴(kuò)散，在治療與搶救過程中傳染病人對(duì)醫(yī)務(wù)人員很難避免感染，甚至于造成傳染病人之間的交叉感染。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠有效避免傳染病人對(duì)醫(yī)務(wù)人員感染的醫(yī)用隔離監(jiān)護(hù)室。技術(shù)方案一種醫(yī)用隔離監(jiān)護(hù)室，由隔離腔室等構(gòu)成，其特征在于隔離腔室的底部設(shè)置有轉(zhuǎn)向輪，隔離腔室設(shè)置有進(jìn)氣孔和出氣孔，出氣孔經(jīng)管道接風(fēng)機(jī)，風(fēng)機(jī)接消毒器。有益效果本實(shí)用新型將傳染病人用一個(gè)隔離腔室隔離，通過進(jìn)氣孔和出氣孔進(jìn)行空氣流通，排出的氣體經(jīng)消毒后再排出病房外，有效地避免了醫(yī)務(wù)人員的感染。


圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1的側(cè)視圖；圖3為高溫消毒器的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，隔離腔室1的底部設(shè)置有轉(zhuǎn)向輪13，隔離腔室設(shè)置有進(jìn)氣孔7和出氣孔8，出氣孔經(jīng)管道、消音箱6接風(fēng)機(jī)4，風(fēng)機(jī)接高溫消毒器5。如圖3所示，高溫消毒器由箱體17，箱體接有進(jìn)氣管14和排氣管16，箱體內(nèi)腔內(nèi)交錯(cuò)設(shè)置加熱管15。如圖1所示，隔離腔室下部設(shè)置有物品交換腔3，用于病人與外界人員的物品交換，在物品交換腔內(nèi)可設(shè)置有紫外線殺毒裝置，對(duì)物品進(jìn)行消毒。隔離腔室上開有操作窗口12。隔離腔室由透明有機(jī)玻璃板和非透明木質(zhì)材料組成，非木質(zhì)材料作為密閉腔室的支撐骨架。為了便于和病人的聯(lián)絡(luò)，隔離腔室還設(shè)置有麥克9、揚(yáng)聲器10以及攝像頭11。
工作時(shí)，將病床2置于隔離腔室內(nèi)，醫(yī)務(wù)人員可以通過操作窗口12對(duì)病人進(jìn)行治療和搶救。風(fēng)機(jī)4的風(fēng)速可調(diào)，保持隔離室內(nèi)處于微小的負(fù)壓狀態(tài)。高溫消毒器通電后，出口的溫度達(dá)200度以上，排出的氣體通過高溫消毒器進(jìn)行消毒后排出病房。
權(quán)利要求1.一種醫(yī)用隔離監(jiān)護(hù)室，由隔離腔室等構(gòu)成，其特征在于隔離腔室的底部設(shè)置有轉(zhuǎn)向輪，隔離腔室設(shè)置有進(jìn)氣孔和出氣孔，出氣孔經(jīng)管道接風(fēng)機(jī)，風(fēng)機(jī)接消毒器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用隔離監(jiān)護(hù)室，其特征在于消毒器為高溫消毒器，高溫消毒器的結(jié)構(gòu)為具有箱體，箱體接有進(jìn)氣管和出氣管，箱體腔內(nèi)交錯(cuò)設(shè)置有加熱管。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的醫(yī)用隔離監(jiān)護(hù)室，其特征在于隔離腔室下部設(shè)置有物品交換腔。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的醫(yī)用隔離監(jiān)護(hù)室，其特征在于隔離腔室上開有操作窗口。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種醫(yī)用隔離監(jiān)護(hù)室，有效避免傳染病人對(duì)醫(yī)務(wù)人員感染。技術(shù)方案一種醫(yī)用隔離監(jiān)護(hù)室，由隔離腔室等構(gòu)成，其特征在于隔離腔室的底部設(shè)置有轉(zhuǎn)向輪，隔離腔室設(shè)置有進(jìn)氣孔和出氣孔，出氣孔經(jīng)管道接風(fēng)機(jī)，風(fēng)機(jī)接消毒器。本實(shí)用新型將傳染病人用一個(gè)隔離腔室隔離，通過進(jìn)氣孔和出氣孔進(jìn)行空氣流通，排出的氣體經(jīng)消毒后再排出病房外，有效地避免了醫(yī)務(wù)人員的感染。
文檔編號(hào)A61G10/00GK2614664SQ0321325
公開日2004年5月12日 申請(qǐng)日期2003年5月20日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月20日
發(fā)明者鄧宗全, 唐德威, 仁立紅, 郝廣平, 畢貞法, 郭長(zhǎng)軍, 張乙明, 袁藝 申請(qǐng)人:哈爾濱工業(yè)大學(xué)