一種隱秘復(fù)合式鑲嵌飾品的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種飾品。
【背景技術(shù)】
[0002]珠寶的大小是衡量其價(jià)值的重要因素，但眾所周知，大體積的珠寶原材料的價(jià)格昂貴，珠寶的體積增加一倍，其價(jià)格往往是幾倍，甚至是幾十倍。為此，用較低的小體積珠寶拼合成一顆完美的大小體積珠寶，是各大珠寶商們所期待解決的問題。現(xiàn)有技術(shù)中用小體積珠寶進(jìn)行拼合時(shí)，經(jīng)常會用到一些連接件，在保證珠寶拼合好的前提下，由于連接件的干擾很難保證到整個(gè)飾品的美觀。例如，有些是利用連接件形成一種包裹的方式，將各個(gè)小體積珠寶包裹然后聚攏在一起；也有的是利用連接件進(jìn)行多方位的夾持固定，這些方式雖然都能起到將小體積珠寶拼合的作用，但是由于過于繁雜的連接件很大程度上影響了珠寶的整體美感，甚至喧賓奪主，一眼看去，在整個(gè)飾品中珠寶反而變成了配角。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種能達(dá)到更優(yōu)的珠寶展示效果的隱秘式鑲嵌飾品。
[0004]為解決上述問題，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案如下:一種隱秘復(fù)合式鑲嵌飾品，包括第一珠寶體、第二珠寶體、底托和固定爪；所述底托包括連接柱和至少兩個(gè)凸出部，所述凸出部設(shè)置于所述連接柱的下端側(cè)壁上；所述固定爪固定于所述連接柱的上端，所述固定爪往外側(cè)延伸出與所述凸出部一一對應(yīng)的爪腳，所述固定爪的上表面固定有所述第一珠寶體；所述第二珠寶體固定于所述爪腳與所述凸出部之間。
[0005]優(yōu)選地:所述固定爪的上表面設(shè)有用于固定所述第一珠寶體的第一凹槽；所述凸出部的上表面設(shè)有第二凹槽，所述第二珠寶體的下端固定于所述第二凹槽內(nèi)。
[0006]優(yōu)選地:隱秘復(fù)合式鑲嵌飾品還包括第三珠寶體；所述連接柱的底部往外側(cè)延伸出至少兩條支撐桿，所述支撐桿在所述連接柱上的位置低于所述凸出部的位置，所述支撐桿與所述凸出部間隔排列；相鄰兩個(gè)所述凸出部之間往外側(cè)延伸出至少兩條卡位桿，所述卡位桿與所述支撐桿一一對應(yīng)，所述第三珠寶體固定于所述支撐桿和所述卡位桿之間。
[0007]優(yōu)選地:所述支撐桿的上表面設(shè)有第三凹槽，所述第三珠寶體的下端固定于所述第三凹槽內(nèi)。
[0008]相比現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的有益效果在于:將第一珠寶單體固定在固定爪的上表面，將第二珠寶單體固定在底托和固定爪之間，然后通過底托將整個(gè)飾品安裝在戒指或項(xiàng)鏈上。從觀察時(shí)的各個(gè)視角來說，如果是俯視的角度，首先映入眼簾的是中間的第一珠寶單體，然后往外擴(kuò)散的看是第二珠寶單體，而底托由于珠寶以及固定爪的遮擋，不會出現(xiàn)在視野中，因此整個(gè)飾品由于珠寶的拼合顯得體積較大，且會讓人忽略掉連接件的存在，而且一般固定爪可以做成星星的形狀，也就是第二珠寶單體的數(shù)量為5個(gè)，由于星星代表的是一種浪漫的意境，所以固定爪與珠寶就形成一種很好的映襯。如果是側(cè)視的角度，可以看到第一、二珠寶單體形成上下兩層，使得整個(gè)飾品的立體感非常強(qiáng)，且側(cè)視的時(shí)候，不會有連接件的遮擋，基本能看到整個(gè)珠寶的側(cè)面，起到了非常好的展示效果。當(dāng)然，這種隱秘復(fù)合式的鑲嵌飾品還可以設(shè)置更多層次的珠寶展示，但一般較適中的層數(shù)為1-3層，如果層數(shù)過多，可能會顯得累贅。
【附圖說明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型包括第一珠寶體、第二珠寶體的示意圖；
[0010]圖2為圖1的底視圖；
[0011]圖3為本實(shí)用新型包括第三珠寶體的示意圖；
[0012]圖4為圖3的俯視圖；
[0013]圖中標(biāo)識說明如下:
[0014]1、固定爪；2、連接柱；3、凸出部；4、第一珠寶體；5、第二珠寶體；6、爪腳；7、支撐桿；8、卡位桿；9、第三珠寶體。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0016]如圖1-4所示的一種隱秘復(fù)合式鑲嵌飾品，包括第一珠寶體4、第二珠寶體5、底托和固定爪1，底托包括連接柱2和至少兩個(gè)凸出部3，凸出部3設(shè)置于連接柱2的下端側(cè)壁上，固定爪I固定于連接柱2的上端，固定爪I往外側(cè)延伸出與凸出部3--對應(yīng)的爪腳6，
固定爪I的上表面固定有第一珠寶體4，第二珠寶體5固定于爪腳6與凸出部3之間。
[0017]通過爪腳6和凸出部3的上下夾持將第二珠寶體5固定，從視覺上來說，俯視角度時(shí)，凸出部3被遮擋從而隱藏，固定爪I 一般為星形，五星或者六星均具有浪漫的意境，從視覺上給人以美的享受，讓人將其余珠寶視為一體，將整個(gè)珠寶完美的襯托出來。
[0018]固定爪I的上表面設(shè)有用于固定第一珠寶體4的第一凹槽；凸出部3的上表面設(shè)有第二凹槽，第二珠寶體5的下端固定于第二凹槽內(nèi)。利用凹槽的方式，就無需再借用其他結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)第一、二珠寶體的加固，飾品不會顯得繁瑣，不用擔(dān)心珠寶主體被連接件或是固定件所阻擋，使其能更多更好的被展示出來。
[0019]這種隱秘復(fù)合式的鑲嵌飾品，第一、二珠寶體呈層狀的分布，其中第一珠寶體4 一般數(shù)量為單個(gè)，第二珠寶體5的數(shù)量常見為3-6個(gè)，珠寶從上層至下層，數(shù)量逐步增多的展示方式，使得整個(gè)飾品非常有立體感。
[0020]珠寶的層次優(yōu)選為1-3層，例如還包括第三珠寶體9。此時(shí)，連接柱2的底部往外側(cè)延伸出至少兩條支撐桿7，支撐桿7在連接柱2上的位置低于凸出部3的位置，支撐桿7與凸出部3間隔排列，相鄰兩個(gè)凸出部3之間往外側(cè)延伸出至少兩條卡位桿8，卡位桿8與支撐桿7--對應(yīng)，第三珠寶體9固定于支撐桿7和卡位桿8之間。
[0021]從俯視角度看，支撐桿7位于兩個(gè)凸出部3之間，一般來說支撐桿7的長度大于凸出部3時(shí)，飾品更美觀。支撐桿7的上表面設(shè)有第三凹槽，第三珠寶體9的下端固定于第三凹槽內(nèi)，用第三凹槽來加固第三珠寶體9，其原理同第一、二凹槽一樣，工藝簡單，無需增加其他部件，能更好的達(dá)到展示效果。
[0022]上述實(shí)施方式僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，不能以此來限定本實(shí)用新型保護(hù)的范圍，本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型的基礎(chǔ)上所做的任何非實(shí)質(zhì)性的變化及替換均屬于本實(shí)用新型所要求保護(hù)的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種隱秘復(fù)合式鑲嵌飾品，其特征在于:包括第一珠寶體、第二珠寶體、底托和固定爪； 所述底托包括連接柱和至少兩個(gè)凸出部，所述凸出部設(shè)置于所述連接柱的下端側(cè)壁上; 所述固定爪固定于所述連接柱的上端，所述固定爪往外側(cè)延伸出與所述凸出部一一對應(yīng)的爪腳，所述固定爪的上表面固定有所述第一珠寶體； 所述第二珠寶體固定于所述爪腳與所述凸出部之間。
2.如權(quán)利要求1所述的一種隱秘復(fù)合式鑲嵌飾品，其特征在于:所述固定爪的上表面設(shè)有用于固定所述第一珠寶體的第一凹槽；所述凸出部的上表面設(shè)有第二凹槽，所述第二珠寶體的下端固定于所述第二凹槽內(nèi)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種隱秘復(fù)合式鑲嵌飾品，其特征在于:還包括第三珠寶體； 所述連接柱的底部往外側(cè)延伸出至少兩條支撐桿，所述支撐桿在所述連接柱上的位置低于所述凸出部的位置，所述支撐桿與所述凸出部間隔排列； 相鄰兩個(gè)所述凸出部之間往外側(cè)延伸出至少兩條卡位桿，所述卡位桿與所述支撐桿--對應(yīng)，所述第三珠寶體固定于所述支撐桿和所述卡位桿之間。
4.如權(quán)利要求3所述的一種隱秘復(fù)合式鑲嵌飾品，其特征在于:所述支撐桿的上表面設(shè)有第三凹槽，所述第三珠寶體的下端固定于所述第三凹槽內(nèi)。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種隱秘復(fù)合式鑲嵌飾品，其能起到很好的珠寶展示效果。具體技術(shù)方案為：一種隱秘復(fù)合式鑲嵌飾品包括第一珠寶體、第二珠寶體、底托和固定爪，底托包括連接柱和至少兩個(gè)凸出部，凸出部設(shè)置于連接柱的下端側(cè)壁上，固定爪固定于連接柱的上端，固定爪往外側(cè)延伸出與凸出部一一對應(yīng)的爪腳，固定爪的上表面固定有第一珠寶體；第二珠寶體固定于爪腳與凸出部之間。層狀式的結(jié)構(gòu)，俯視角度時(shí)底臺部分被隱藏，更好的突出珠寶，側(cè)視角度時(shí)，整個(gè)飾品極具立體感。
【IPC分類】A44C17-00, A44C11-00, A44C9-00
【公開號】CN204426929
【申請?zhí)枴緾N201520099397
【發(fā)明人】劉國生
【申請人】新寶珠寶(深圳)有限公司
【公開日】2015年7月1日
【申請日】2015年2月11日